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基于GaN/Ti_(3)C_(2)T_(x)的TMA传感器气敏性能及其应用研究
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作者 韩丹 洪宇涛 +5 位作者 刘志华 段奇 李栋辉 王雨 史杰旭 桑胜波 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期1389-1398,共10页
本文联合溶剂热法和氮化法合成氮化镓(GaN)/Ti_(3)C_(2)T_(x)新型复合材料,并研究了基于GaN/Ti_(3)C_(2)T_(x)新型复合材料的气体传感器对三甲胺(Trimethylamine,TMA)气体的传感特性.通过一系列表征手段分析了复合材料的形貌以及元素组... 本文联合溶剂热法和氮化法合成氮化镓(GaN)/Ti_(3)C_(2)T_(x)新型复合材料,并研究了基于GaN/Ti_(3)C_(2)T_(x)新型复合材料的气体传感器对三甲胺(Trimethylamine,TMA)气体的传感特性.通过一系列表征手段分析了复合材料的形貌以及元素组成特性,证实了GaN与Ti_(3)C_(2)T_(x)材料的成功复合.传感器对TMA气体的气敏特性结果表明,GaN/Ti_(3)C_(2)T_(x)传感器在室温下能够高效检测1~200 ppm的TMA气体,且与纯GaN传感器相比,对TMA的检测下限由10 ppm降低至1 ppm.此外,复合传感器气敏结果进一步证实了其良好的抗干扰特性以及长期稳定性.利用表面耗尽层模型解释了GaN/Ti_(3)C_(2)T_(x)复合传感器气敏机理,及其与纯GaN传感器相比气敏性能提升的原因.最后,本文开发了一种无接触式TMA气体检测装置,检测结果表明该装置有望实现对肝、肾病患者呼出气的高效实时检测,在肝、肾疾病的早期筛查方面具有较大的应用潜力. 展开更多
关键词 gaN/Ti_(3)C_(2)T_(x) 室温 三甲胺 气体传感器 无接触检测
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基于三菱燃机机组满负荷状态下NO_(x)排放量的计算方法研究
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作者 黄思佳 徐有宁 +1 位作者 谢智远 范宏涛 《沈阳工程学院学报(自然科学版)》 2024年第3期32-38,共7页
为了准确、快速地预测燃气轮机燃烧室稳定运行时污染物的排放情况,提出了一个采用数值模拟的计算方法预估NO_(x)排放的设计流程。首先,根据燃气轮机燃烧室的类型和控制部件确定相关设计参数;其次,采取拉丁超立方方法优化燃烧室进口压力... 为了准确、快速地预测燃气轮机燃烧室稳定运行时污染物的排放情况,提出了一个采用数值模拟的计算方法预估NO_(x)排放的设计流程。首先,根据燃气轮机燃烧室的类型和控制部件确定相关设计参数;其次,采取拉丁超立方方法优化燃烧室进口压力P、燃烧室出口温度T、主空气质量流量q和当量比φ的取值,形成主要参数样本空间;再次,根据计算流体力学的数值模拟结果为燃烧室化学分区提供依据,并通过化学反应器网络方法计算污染物的排放值;最后,在影响污染物排放的参数中选择主要参数,拟合出多参数影响的NO_(x)预估公式并分析4个显著参数对NO_(x)排放的影响关系。结果表明:在满负荷状态时,燃烧室压力增大,NO_(x)排放量增多;燃烧室温度上升,NO_(x)排放量增多;当主空气质量流量变大时,NO_(x)排放量呈减小的趋势;当量比增加时,NO_(x)排放量减少;模拟情况和经典模型在所研究的范围内的相关关系一致,说明了预估公式的适用性。 展开更多
关键词 燃气轮机燃烧室 NO_(x) 化学网络模型
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某F级燃气轮机燃烧与NO_(x)排放特性研究
3
作者 徐搏超 吴仲 +1 位作者 赵智健 唐志国 《中国科技论文》 CAS 2024年第3期382-389,共8页
为了给我国F级燃气轮机燃烧系统的燃烧调整与自主升级提供技术参考,以某F级燃气轮机环管燃烧室单筒为三维物理模型,采用Realizable k-ε湍流模型与小火焰生成流形(flamelet generated manifold,FGM)燃烧反应模型,研究了过量空气系数、... 为了给我国F级燃气轮机燃烧系统的燃烧调整与自主升级提供技术参考,以某F级燃气轮机环管燃烧室单筒为三维物理模型,采用Realizable k-ε湍流模型与小火焰生成流形(flamelet generated manifold,FGM)燃烧反应模型,研究了过量空气系数、主旋流叶片偏转角度及值班燃料占比等因素对燃烧室单筒内的温度分布规律、燃烧污染物NO_(x)的生成与排放特性的影响。结果表明:随着燃烧室单筒入口过量空气系数的增加,燃烧室单筒出口的平均温度与最大温度均下降,出口温度分布系数(out-let temperature distribution factor,OTDF)略微上升,出口温度分布均匀性降低,但NO_(x)排放量呈下降趋势;适当增大主旋流叶片偏转角度,可以降低燃烧室单筒内及过渡段出口截面的最高温度并提升温度均匀性,但出口NO_(x)排放量则呈先急剧下降后缓慢上升的趋势;在总燃料流量不变的情况下,值班燃料占比(质量分数)从4%增大到8%时,燃烧室单筒出口温度水平的变化很小,但会导致NO_(x)排放量明显增加。 展开更多
关键词 燃气轮机 燃烧室单筒 温度场 NO_(x) 数值模拟
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FGR技术对燃气锅炉出力、热效率及生成NO x的影响分析
4
作者 艾斯帕尔·艾尔肯江 王勇勇 +1 位作者 叶尔太·热旦 别尔兰·贾纳依汗 《机械设计与制造工程》 2024年第5期125-129,共5页
介绍了燃气工业锅炉氮氧化物(NO x)的生成机理,分析了燃气锅炉排放NO x的主要来源。介绍了烟气再循环技术的工作原理,通过开展烟气再循环技术对燃气热水工业锅炉燃烧过程调控作用实验,研究了烟气再循环技术对锅炉出力、热效率及生成NO ... 介绍了燃气工业锅炉氮氧化物(NO x)的生成机理,分析了燃气锅炉排放NO x的主要来源。介绍了烟气再循环技术的工作原理,通过开展烟气再循环技术对燃气热水工业锅炉燃烧过程调控作用实验,研究了烟气再循环技术对锅炉出力、热效率及生成NO x的影响规律。实验结果表明,随着烟气再循环开启火焰温度降低,使得锅炉出力、热效率降低,同时热力型NO x的生成被抑制,造成NO x生成总量下降。 展开更多
关键词 锅炉 低氮改造 烟气再循环 出力 热效率 NO x
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基于GA-SVM的燃气轮机NO_(x)排放预测研究
5
作者 向彬彬 《机械管理开发》 2023年第2期47-49,52,共4页
为解决燃气轮机发电站存在NO_(x)超标排放问题,根据燃气轮机运行过程的环境变量和工艺过程参数,提出一种基于GA-SVM模型的NO_(x)排放预测方法。以UCI中的燃气轮机运行数据集进行试验。本文提出RMSE和MAE评估模型。结果表明:该模型输出... 为解决燃气轮机发电站存在NO_(x)超标排放问题,根据燃气轮机运行过程的环境变量和工艺过程参数,提出一种基于GA-SVM模型的NO_(x)排放预测方法。以UCI中的燃气轮机运行数据集进行试验。本文提出RMSE和MAE评估模型。结果表明:该模型输出均方根误差R MSE为8.79 mg/m^(3),平均绝对误差(MAE)为6.23 mg/m^(3),并通过与KNN模型和RF模型进行比较,验证了所提方法能够对燃气轮机NO_(x)排放浓度进行准确的预测。 展开更多
关键词 燃气轮机 遗传算法 支持向量机 NO_(x)排放
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GA2ox8基因过量表达诱导蓝光下拟南芥光形态建成 被引量:8
6
作者 李妍 赵小英 +5 位作者 郭明 李旭 黄绿红 唐冬英 郭新红 刘选明 《植物生理学通讯》 CSCD 北大核心 2008年第3期421-425,共5页
检测不同光照强度蓝光下,过量表达GA2ox8基因的转基因植株光形态建成表型的结果表明,突变体比各自的母本的下胚轴短,茎尖角度和子叶张开度较大,花青素和叶绿素的含量较高,并且其差异与GA2ox8基因的表达量呈正相关。RT-PCR检测光调节基... 检测不同光照强度蓝光下,过量表达GA2ox8基因的转基因植株光形态建成表型的结果表明,突变体比各自的母本的下胚轴短,茎尖角度和子叶张开度较大,花青素和叶绿素的含量较高,并且其差异与GA2ox8基因的表达量呈正相关。RT-PCR检测光调节基因表达水平的结果显示,暗培养条件下其突变体幼苗中的水平比各自的母本高,蓝光下35S::GFP- GA2ox8-1、35S::GFP-GA2ox8-8与母本col-4之间差异不明显,但scc7-D中的水平比母本crylcry2高。这似乎说明,GA2ox8基因过量表达可诱导蓝光下拟南芥幼苗光形态建成。 展开更多
关键词 ga20x8基因 蓝光 拟南芥 光形态建成
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基于空气分级燃烧与SCR脱硝的燃煤锅炉NO_(x)排放控制
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作者 潘世汉 金必都 张溢江 《上海电力大学学报》 CAS 2024年第4期383-387,共5页
350 MW燃煤发电机组四角切圆锅炉在实际运行过程中,存在炉内NO_(x)生成量大、选择性催化还原法(SCR)脱销反应器入口NO_(x)浓度高、影响脱硝效率等问题。根据空气分级燃烧原理,在煤炭燃烧过程中控制空气的供给量,减少锅炉内NO_(x)生成量... 350 MW燃煤发电机组四角切圆锅炉在实际运行过程中,存在炉内NO_(x)生成量大、选择性催化还原法(SCR)脱销反应器入口NO_(x)浓度高、影响脱硝效率等问题。根据空气分级燃烧原理,在煤炭燃烧过程中控制空气的供给量,减少锅炉内NO_(x)生成量,在此基础上运用SCR脱硝技术,进一步控制燃煤烟气中NO_(x)的排放浓度。通过分析煤炭燃烧过程中NO_(x)的生成特性,对燃煤锅炉进行了实验研究。实验结果表明,在常用煤种与不同锅炉负荷条件下,尤其在低负荷时,采用联合控制方法的脱硝效率达到85%,有效降低了NO_(x)排放浓度。 展开更多
关键词 燃煤锅炉 空气分级燃烧 SCR脱硝 NO_(x)排放浓度
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高铝Al_xGa_(1-x)As氧化层对垂直腔面发射激光器的影响 被引量:6
8
作者 康香宁 宋国峰 +2 位作者 叶晓军 侯识华 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期589-593,共5页
针对可见光垂直腔面发射激光器的制备 ,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分Alx Ga1 - x As的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响 ,结合器件结构设计确定了氧化限制层 Alx Ga1 - x-As的铝组分和最佳位置 ... 针对可见光垂直腔面发射激光器的制备 ,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分Alx Ga1 - x As的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响 ,结合器件结构设计确定了氧化限制层 Alx Ga1 - x-As的铝组分和最佳位置 ,并制备出了低阈值电流的 Al Ga In 展开更多
关键词 Alxga1-xAs湿氮选择氧化 微区光致发光谱 垂直腔面发射激光器
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304不锈钢钝化膜的X射线光电子能谱刻蚀研究
9
作者 李晓伟 安胜利 +1 位作者 韩沛 范秀风 《热加工工艺》 北大核心 2024年第4期42-45,共4页
通过X射线衍射仪测试了304不锈钢表面钝化膜物相组成物。通过X射线光电子能谱仪中单原子氩离子和团簇离子枪采用不同的电压及不同时间对304不锈钢表面进行刻蚀;分析了电压及时间对304不锈钢表面元素化合态影响。采用深度剖析法检测了钝... 通过X射线衍射仪测试了304不锈钢表面钝化膜物相组成物。通过X射线光电子能谱仪中单原子氩离子和团簇离子枪采用不同的电压及不同时间对304不锈钢表面进行刻蚀;分析了电压及时间对304不锈钢表面元素化合态影响。采用深度剖析法检测了钝化膜垂直于样品表面纵深元素分布。结果表明:不锈钢钝化膜外层为铁氧化物,内层为铬氧化物,钝化膜厚度约为120 nm。 展开更多
关键词 x射线光电子能谱 单粒子氩离子及团簇离子枪 钝化膜 深度剖析
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调制掺杂Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构的微应变 被引量:1
10
作者 谭伟石 沙昊 +6 位作者 沈波 蔡宏灵 吴小山 蒋树声 郑文莉 贾全杰 姜晓明 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第10期799-804,共6页
用MOCVD方法在 (0 0 0 1)取向的蓝宝石 (α -Al2 O3)衬底上生长了不同势垒层厚度的Al0 .2 2Ga0 .78N/GaN异质结构 ,利用高分辨X射线衍射 (HRXRD)测量了其对称反射 (0 0 0 2 )和非对称反射 (10 14 )的倒易空间图 (RSM )。分析结果表明 ,... 用MOCVD方法在 (0 0 0 1)取向的蓝宝石 (α -Al2 O3)衬底上生长了不同势垒层厚度的Al0 .2 2Ga0 .78N/GaN异质结构 ,利用高分辨X射线衍射 (HRXRD)测量了其对称反射 (0 0 0 2 )和非对称反射 (10 14 )的倒易空间图 (RSM )。分析结果表明 ,势垒层内部微结构与应变状态和下层i -GaN的微结构与应变状态互相关联 ,当厚度大于 75 0 时 ,势垒层开始发生应变弛豫 ,临界厚度大于5 0 0 。势垒层具有一种“非常规”应变弛豫状态 ,这种状态的来源可能与n -AlGaN的内部缺陷以及i-GaN/α -Al2 展开更多
关键词 调制掺杂 微应变 Alxga1-x/gaN 异质结构 高分辨x射线衍射 微结构 驰豫线模型 半导体材料 氮化镓
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Al_xGa_(1-x)As/GaAs 太阳电池的背场结构——评《对 Ga_(1-x)Al_xAs/GaAs 太阳电池结构的一点新看法》 被引量:5
11
作者 陈庭金 袁海荣 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第6期267-271,共5页
对《电源技术》第20卷第2期(1996年4月)的《对Ga1-xAlxAs/GaAs太阳电池结构的一点新看法》一文中提出的新看法进行了讨论,并通过理论分析和电池背场测试结果,指出了厚度为400μm的GaAs太阳电池背面... 对《电源技术》第20卷第2期(1996年4月)的《对Ga1-xAlxAs/GaAs太阳电池结构的一点新看法》一文中提出的新看法进行了讨论,并通过理论分析和电池背场测试结果,指出了厚度为400μm的GaAs太阳电池背面处的AuGeNi/n-GaAs合金化热处理不会引入背场效应,而是形成欧姆接触。 展开更多
关键词 太阳电池 背场结构 砷化镓 欧姆接触
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AuX(X=Al,Ga,In)分子的势能函数与稳定性的密度泛函研究 被引量:2
12
作者 刘凤丽 钱妍 杨卫卫 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2007年第3期345-348,共4页
根据原子分子反应静力学原理导出了AuX(X=Al,Ga,In)分子基态电子状态及其离解极限,并在B3LYP/LANL2DZ水平上计算了平衡几何、振动频率和解离能。利用Murrell-Sorbie函数拟合出了解析势能函数,并计算出光谱参数和力常数。计算结果表明该... 根据原子分子反应静力学原理导出了AuX(X=Al,Ga,In)分子基态电子状态及其离解极限,并在B3LYP/LANL2DZ水平上计算了平衡几何、振动频率和解离能。利用Murrell-Sorbie函数拟合出了解析势能函数,并计算出光谱参数和力常数。计算结果表明该分子体系是稳定存在的,其中AuAl分子具有强较的稳定性。 展开更多
关键词 Aux(x=Al ga In)分子 势能函数 稳定性 密度泛函(B3LYP)
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MOCVD生长A1_xGa_(1-x)P/GaAs异质外延层的结晶完整性初探
13
作者 张兆春 黄柏标 +2 位作者 崔得良 秦晓燕 蒋民华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第S1期151-,共1页
MOCVD生长的III V族异质外延材料的晶体结构完整性主要由生长时采用的源材料、衬底、温度、压力、流量以及反应器设计等因素所决定。为了获得具有优良光电性能的异质外延材料 ,需要对这些影响因素进行优化。AlxGa1-xP由于具有宽的禁带... MOCVD生长的III V族异质外延材料的晶体结构完整性主要由生长时采用的源材料、衬底、温度、压力、流量以及反应器设计等因素所决定。为了获得具有优良光电性能的异质外延材料 ,需要对这些影响因素进行优化。AlxGa1-xP由于具有宽的禁带宽度、较低的本征载流子浓度和折射率 ,因此可以用于制作优良的光电器件。然而由于AlxGa1-xP与GaAs在晶格常数、热膨胀系数等物理化学性质上存在着差异 ,致使利用MOCVD在GaAs衬底生长的AlxGa1-xP外延层常常呈现较差的表面形貌以及内部存在大量缺陷。本文利用扫描电子显微镜、双晶X射线衍射、背散射分析技术对常压MOCVD生长的AlxGa1-xP/GaAs异质外延层的结晶完整性进行了初步研究。通过观察A1xGa1-xP外延层的表面形貌及双晶X射线衍射半峰宽 ,对外延生长温度和V/Ⅲ比进行了优化 ,利用背散射分析对外延层结晶完整性进行了初步表征。本文研究结果表明 ,虽然AlxGa1-xP与GaAs存在较大的晶格失配 ,但是仍然可以利用MOCVD在GaAs衬底上优化生长出具有良好结晶完整性的AlxGa1-xP外延材料。 展开更多
关键词 Al_xga_(1-x)P/gaAs异质外延材料 结晶完整性 MOCVD法
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Fe100-x(Ga0.75Al0.25x(21.2≤x≤26.8)合金的结构与磁性
14
作者 周严 王博文 +2 位作者 李淑英 黄文美 曹淑英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期1121-1123,共3页
采用X射线衍射仪(XRD)对Fe100-x(Ga0.75Al0.25x(21.2≤x≤26.8)合金的相组成和晶格常数进行分析,表明晶格常数随Ga、Al替代量的增加而变化,反映了合金中A2相的减少和B2、D03有序相的增加。在差热分析仪(DTA)上测得Fe100-x(G... 采用X射线衍射仪(XRD)对Fe100-x(Ga0.75Al0.25x(21.2≤x≤26.8)合金的相组成和晶格常数进行分析,表明晶格常数随Ga、Al替代量的增加而变化,反映了合金中A2相的减少和B2、D03有序相的增加。在差热分析仪(DTA)上测得Fe100-x(Ga0.75Al0.25x(x=25.2)合金样品的DTA曲线。研究发现Fe100-x(Ga0.75Al0.25x(21.2≤X≤26.8)合金经650℃均匀化退火处理后,当X≤22.8时为无序的体心立方结构A2相。当x=25.2时,合金为B2单相结构。当x=26.8时,合金的组织基本为DO3单相。采用振动样品磁强计(VSM)对此系列合金的磁性进行研究。研究发现其饱和磁化强度表现出先减小后增大的变化规律,这是该系列合金中有序相的存在引起的。分析认为晶格常数与饱和磁化强度的变化与合金磁致伸缩改变存在必然联系。 展开更多
关键词 Fe100-x(ga0.75Al0.25x 合金 微结构 饱和磁化强度
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Ni-Cr-Fe-V-Ga系合金的X射线衍射和热机械分析 被引量:1
15
作者 陈亮维 黄炳醒 +1 位作者 宋泓清 刘雄 《理化检验(物理分册)》 CAS 2005年第5期233-235,共3页
对Ni Cr Fe V Ga系合金进行了X射线衍射和热机械分析(TMA)。结果表明,在室温至940℃范围内,合金的晶格点阵参数逐渐增大,线胀系数为正;在940~1150℃范围内,合金的晶格点阵参数逐渐降低,线胀系数为负,进行了K效应转变。用热力学理论对... 对Ni Cr Fe V Ga系合金进行了X射线衍射和热机械分析(TMA)。结果表明,在室温至940℃范围内,合金的晶格点阵参数逐渐增大,线胀系数为正;在940~1150℃范围内,合金的晶格点阵参数逐渐降低,线胀系数为负,进行了K效应转变。用热力学理论对实验结果进行了解释。 展开更多
关键词 Ni—Cr-Fe-V-ga系合金 x射线衍射 热机械分析 K效应
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MOCVD外延生长Ga_(1-x)Al_xAs_(1-y)Sb_y半导体薄膜气固平衡和人工神经网络预报
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作者 严六明 胡英 +2 位作者 吴伟 陈念贻 彭瑞伍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期363-365,共3页
本文研究了MOCVD外延生长Ga1-xAlxAs1-ySby半导体薄膜的生长条件与外延层组成的关系,并用人工神经网络法总结有关气固平衡规律。结果表明,用气相组成,载气流量和生长温度等影响外延层组成的主要参数作为人工神... 本文研究了MOCVD外延生长Ga1-xAlxAs1-ySby半导体薄膜的生长条件与外延层组成的关系,并用人工神经网络法总结有关气固平衡规律。结果表明,用气相组成,载气流量和生长温度等影响外延层组成的主要参数作为人工神经网络的输入,以固相Ga1-xAlxAs1-ySby中的Al和Sb的含量x、y作为输出,训练的人工神经网络可以预报固相组成x、y,得到满意结果。 展开更多
关键词 镓铝砷铅 半导体 气固平衡 人工神经网络 薄膜
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XPS Depth Profile Study of Sprayed Ga2O3 Thin Films
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作者 Towhid Adnan Chowdhury 《Engineering(科研)》 2023年第8期459-466,共8页
Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films were fabricated by spray pyrolysis method using gallium acetylacetonate as source material and water as oxidizer. The films were annealed at 450°C fo... Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films were fabricated by spray pyrolysis method using gallium acetylacetonate as source material and water as oxidizer. The films were annealed at 450°C for 60 minutes in argon atmosphere. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) depth profile studies were carried out to analyze the stoichiometry and composition of sprayed as-deposited and annealed Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films. Surface layers and the inner layers of as-deposited and annealed films were found nearly stoichiometric. 展开更多
关键词 ga2O3 Thin Films x-Ray Photoelectron Spectroscopy Depth Profiling
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自制SnO_2·xH_2O对^(68)Ge-^(68)Ga发生器吸附性能的影响 被引量:2
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作者 刘正浩 贾聪莉 《同位素》 CAS 1999年第1期27-32,共6页
用自制的SnO2·xH2O经热处理后作为68Ge-68Ga发生器的吸附剂,用模拟试验的方法研究了Ge的吸附与Ga的淋洗。结果表明,自制SnO2·xH2O对Ge有较好的选择吸附性能,2.0mL0.1mol/LH... 用自制的SnO2·xH2O经热处理后作为68Ge-68Ga发生器的吸附剂,用模拟试验的方法研究了Ge的吸附与Ga的淋洗。结果表明,自制SnO2·xH2O对Ge有较好的选择吸附性能,2.0mL0.1mol/LHCl溶液对68Ga的淋洗效率可达88%。 展开更多
关键词 发生器 吸附性能 淋洗 同位素 镓68 锗68
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Ga_(1-x)Al_xAs外延片有源区Al组份的测定方法
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作者 刘学彦 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期361-363,共3页
由于GaAs与AlAs晶格常数相近,GaAs晶格常数为0.56535nm,AlAs的晶格常数为0.56605nm,当固熔体中Al组份x值从0变到1时,晶格常数变化约为0.15%.因此,在GaAs衬底上生长Ga1-xA... 由于GaAs与AlAs晶格常数相近,GaAs晶格常数为0.56535nm,AlAs的晶格常数为0.56605nm,当固熔体中Al组份x值从0变到1时,晶格常数变化约为0.15%.因此,在GaAs衬底上生长Ga1-xAlxAs时,在界面处的失配位错少,... 展开更多
关键词 外延材料 电致发光 x 镓铝砷 铝组分
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红外椭圆偏振光谱研究Ga_xIn_(1-x)As_ySb_(1-y)材料的禁带宽度 被引量:2
20
作者 梁帮立 夏冠群 +2 位作者 黄志明 范叔平 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期188-190,共3页
采用红外椭圆偏振光谱研究了与 Ga Sb衬底近晶格匹配的不同组分 Gax In1 - x Asy Sb1 - y样品位于禁带宽度能量位置之上、附近和之下的室温折射率光谱 .根据禁带宽度能量位置附近的折射率增强效应确定了 Gax In1 - x Asy Sb1 - y样品的... 采用红外椭圆偏振光谱研究了与 Ga Sb衬底近晶格匹配的不同组分 Gax In1 - x Asy Sb1 - y样品位于禁带宽度能量位置之上、附近和之下的室温折射率光谱 .根据禁带宽度能量位置附近的折射率增强效应确定了 Gax In1 - x Asy Sb1 - y样品的禁带宽度 ,并发现在组分 x=0 .2~ 0 .3之间禁带宽度随组分 x近似于线性变化 . 展开更多
关键词 半导体材料 红外椭圆偏振光谱 禁带宽度
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