期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
CuO掺杂(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)压电陶瓷的性能研究
1
作者
周飞
曹莎莎
《武汉船舶职业技术学院学报》
2023年第5期91-95,共5页
通过传统的固相烧结技术制备了(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)-xCuO (x=0,0.005,0.01,0.015,0.020,0.025,0.030)压电陶瓷,探讨CuO掺杂量对压电陶瓷性能的影响。结果表明,当x=0.005时,陶瓷为斜方...
通过传统的固相烧结技术制备了(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)-xCuO (x=0,0.005,0.01,0.015,0.020,0.025,0.030)压电陶瓷,探讨CuO掺杂量对压电陶瓷性能的影响。结果表明,当x=0.005时,陶瓷为斜方相与四方相两相共存,但在更高的掺杂量下则转变为斜方相。居里温度T_(C)和斜方相-四方相转变温度T_(O-T)随着CuO掺入量的增加而逐渐升高。陶瓷的铁电压电性能受CuO掺杂量的影响显著。当x=0.015时,陶瓷的压电常数和平面机电耦合系数达到最大值,分别为d_(33)=228 pC/N、k_(p)=35.86%,机械品质因数Q_(m)=146。
展开更多
关键词
压电陶瓷
(
k
_(
0.48
)
na
_(
0.52
))_(
0.96
)
li
_(
0.04
)
nb
_(
0.87
)
sb
_(
0.08
)
ta
_(
0.05
)
o
_(3)
电性能
下载PDF
职称材料
题名
CuO掺杂(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)压电陶瓷的性能研究
1
作者
周飞
曹莎莎
机构
武汉船舶职业技术学院
出处
《武汉船舶职业技术学院学报》
2023年第5期91-95,共5页
文摘
通过传统的固相烧结技术制备了(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)-xCuO (x=0,0.005,0.01,0.015,0.020,0.025,0.030)压电陶瓷,探讨CuO掺杂量对压电陶瓷性能的影响。结果表明,当x=0.005时,陶瓷为斜方相与四方相两相共存,但在更高的掺杂量下则转变为斜方相。居里温度T_(C)和斜方相-四方相转变温度T_(O-T)随着CuO掺入量的增加而逐渐升高。陶瓷的铁电压电性能受CuO掺杂量的影响显著。当x=0.015时,陶瓷的压电常数和平面机电耦合系数达到最大值,分别为d_(33)=228 pC/N、k_(p)=35.86%,机械品质因数Q_(m)=146。
关键词
压电陶瓷
(
k
_(
0.48
)
na
_(
0.52
))_(
0.96
)
li
_(
0.04
)
nb
_(
0.87
)
sb
_(
0.08
)
ta
_(
0.05
)
o
_(3)
电性能
Keywords
Piez
o
electric ceramics
(
k
_(
0.48
)
na
_(
0.52
))_(
0.96
)
li
_(
0.04
)
nb
_(
0.87
)
sb
_(
0.08
)
ta
_(
0.05
)
o
_(3)
Electrical pr
o
perty
分类号
TQ174.75 [化学工程—陶瓷工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
CuO掺杂(K_(0.48)Na_(0.52))_(0.96)Li_(0.04)Nb_(0.87)Sb_(0.08)Ta_(0.05)O_(3)压电陶瓷的性能研究
周飞
曹莎莎
《武汉船舶职业技术学院学报》
2023
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部