(Ni_(79)Fe_(21))_(0.44)(Al_2O_3)_(0.56)纳米颗粒膜的巨磁电阻效应

采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量x的 (Ni79Fe2 1)x(Al2 O3) 1-x纳米颗粒膜样品 ,并对样品的巨磁电阻效应进行了研究。在 (Ni79Fe2 1) 0 .4 4(Al2 O3) 0 .56 颗粒膜样品中 ,扫描透射电镜 (TEM)照片清晰显示纳米Ni79Fe2 1颗粒包裹于Al2 O3中。观测到了室温下近 2 .5 %的巨磁电阻效应 ,发现样品的巨磁电阻效应随着退火温度升高而单调下降 ,不存在一个最佳退火温度。

(Ni_(79)Fe_(21))_(0.48)-(Al_2O_3)_(0.52)纳米颗粒膜的巨霍尔效应

采用磁控溅射法 ,在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量的 (Ni79Fe2 1) x (Al2 O3 ) 1-x纳米颗粒膜样品 ,并对样品的巨霍尔效应进行了研究。在 (Ni79Fe2 1) 0 .48 (Al2 O3 ) 0 .52 颗粒膜样品中 ,透射电镜 (TEM )照片清晰地显示出纳米Ni79Fe2 1颗粒包裹于Al2 O3 中 ,且电子间的量子相干效应明显 ,这可能是导致霍尔效应增强的主要原因。室温下测出了最大的巨霍尔效应值达到 4 .5 μΩ·cm。改变基片温度 ,发现巨霍尔效应值变化不大 ,说明该颗粒膜具有良好的热稳定性 。

Ni_(79)Fe_(21)-Al_2O_3纳米颗粒膜的电、磁性质

采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量x的 (Ni79Fe2 1) x(Al2 O3) 1-x纳米颗粒膜样品 .研究了电阻率 ρ与体积百分比x的关系 ,测出了逾渗阈值xρ,并对样品的巨磁电阻效应和霍尔效应进行了研究 .发现存在三个区间 :(1)当x <48%时 ,在这个区间只有巨磁电阻效应 ,没有霍尔效应 ;(2 )当 48% <x <6 0 %时 ,在这个区间巨磁电阻效应和霍尔效应共存 ,且随着x的减小而增强 ;(3)当x >6 0 %时 ,在这个区间只有霍尔效应 ,没有巨磁电阻效应 .

M-I型纳米颗粒膜逾渗阈值的测量及验证

采用磁控溅射法 ,在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量的 (Ni79Fe2 1) x(Al2 O3 ) 1-xM I型纳米颗粒膜。测量并分析了电阻率与体积分数的关系 ,得出该颗粒膜的体积分数逾渗阈值大约为 0 .5 1。分别用 4种方法验证了M I型纳米颗粒膜的逾渗阈值。