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Si含量对(TiAlCrZrNb)-Si_(X)-N高熵薄膜微观结构、力学性能和断裂韧性的影响
1
作者
高鑫
王静静
+7 位作者
刘平
马迅
张柯
马凤仓
李伟
徐魁
鄢子茗
应盈悦
《功能材料》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第9期9145-9151,共7页
为了得到力学性能和断裂韧性都更为优异的薄膜,采用磁控溅射技术,在Si衬底上沉积了不同Si含量的(TiAlCrZrNb)-Si_(x)-N(x=0,4%,8%,12%,16%)高熵陶瓷纳米复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、高分辨率透射电镜和纳米压痕仪研究了Si元素...
为了得到力学性能和断裂韧性都更为优异的薄膜,采用磁控溅射技术,在Si衬底上沉积了不同Si含量的(TiAlCrZrNb)-Si_(x)-N(x=0,4%,8%,12%,16%)高熵陶瓷纳米复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、高分辨率透射电镜和纳米压痕仪研究了Si元素的加入对所制薄膜微观结构、力学性能和断裂韧性的影响。结果表明,随着Si元素的掺入,薄膜的力学性能和断裂韧性都先升高后降低,这种趋势归因于形成的纳米复合结构。当Si含量为4%(体积比)时,(TiAlCrZrNb)-Si_(x)-N薄膜具有最好的综合力学性能,其最大硬度和弹性模量分别为22.7 GPa和192.0 GPa,此时断裂韧性也达到最好,径向裂纹长度C为6.760μm,K_(IC)为1.77 MPa·m^(1/2)。
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关键词
磁控溅射技术
(
tialcrzrnb
)
-si
_(
x
)
-n
薄膜
微观结构
力学性能
断裂韧性
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职称材料
题名
Si含量对(TiAlCrZrNb)-Si_(X)-N高熵薄膜微观结构、力学性能和断裂韧性的影响
1
作者
高鑫
王静静
刘平
马迅
张柯
马凤仓
李伟
徐魁
鄢子茗
应盈悦
机构
上海理工大学材料与化学学院
出处
《功能材料》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第9期9145-9151,共7页
基金
国家自然科学基金(51971148)。
文摘
为了得到力学性能和断裂韧性都更为优异的薄膜,采用磁控溅射技术,在Si衬底上沉积了不同Si含量的(TiAlCrZrNb)-Si_(x)-N(x=0,4%,8%,12%,16%)高熵陶瓷纳米复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、高分辨率透射电镜和纳米压痕仪研究了Si元素的加入对所制薄膜微观结构、力学性能和断裂韧性的影响。结果表明,随着Si元素的掺入,薄膜的力学性能和断裂韧性都先升高后降低,这种趋势归因于形成的纳米复合结构。当Si含量为4%(体积比)时,(TiAlCrZrNb)-Si_(x)-N薄膜具有最好的综合力学性能,其最大硬度和弹性模量分别为22.7 GPa和192.0 GPa,此时断裂韧性也达到最好,径向裂纹长度C为6.760μm,K_(IC)为1.77 MPa·m^(1/2)。
关键词
磁控溅射技术
(
tialcrzrnb
)
-si
_(
x
)
-n
薄膜
微观结构
力学性能
断裂韧性
Keywords
magnetron sputtering technology
(
tialcrzrnb
)
-si
_(
x
)
-n
films
microstructure
mechanical properties
toughness
分类号
TG146.2 [金属学及工艺—金属材料]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Si含量对(TiAlCrZrNb)-Si_(X)-N高熵薄膜微观结构、力学性能和断裂韧性的影响
高鑫
王静静
刘平
马迅
张柯
马凤仓
李伟
徐魁
鄢子茗
应盈悦
《功能材料》
CAS
CSCD
北大核心
2023
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