1
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磁控溅射镀膜技术在(Cr,Ti,Al)N涂层上的应用 |
赵凡
项燕雄
邹长伟
于云江
梁枫
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《真空》
CAS
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2024 |
0 |
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2
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(Ti,Al)N涂层的微观组织和性能 |
陈利
吴恩熙
尹飞
王社权
汪秀全
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《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
19
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3
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Al含量对(Ti,Al)N涂层结构性能的影响 |
李佳
夏长清
刘昌斌
戴晓元
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《材料导报》
EI
CAS
CSCD
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2003 |
20
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4
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射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究 |
何欣
杨会生
王燕斌
熊小涛
乔利杰
瞿春燕
杨建军
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
14
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5
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电弧离子镀(Ti,Al)N复合薄膜的结构和性能研究 |
李明升
王福会
王铁钢
宫骏
孙超
闻立时
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《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
34
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6
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磁控双靶反应共溅射(Ti,Al)N薄膜的研究 |
闫梁臣
熊小涛
杨会生
高克玮
王燕斌
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
11
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7
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PVD法制备(Ti,Al)N涂层中残余应力对其质量的影响 |
吴化
陈涛
宋力
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《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2013 |
14
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8
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直流磁控溅射沉积(Ti,Al)N膜的研究 |
蒋生蕊
彭栋梁
赵学应
谢亮
李强
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《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1994 |
10
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9
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TiN涂层电化学腐蚀行为研究 Ⅱ.添加Al对TiN涂层保护性能与失效机制的影响 |
李瑛
屈力
王福会
邵忠宝
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《中国腐蚀与防护学报》
CAS
CSCD
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2003 |
22
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10
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SiC颗粒增强铝基复合材料基材上制备(Ti,Al)N涂层的研究 |
郑静地
邹友生
宋贵宏
宫骏
刘越
孙超
闻立时
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《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
4
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11
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多弧离子沉积(Ti,Al)N薄膜的结构与形貌 |
吴一平
乔学亮
陈建国
孙培祯
周景萍
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《机械工程材料》
CAS
CSCD
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1995 |
6
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12
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反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能 |
周滔
聂璞林
李铸国
黄坚
蔡珣
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《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
5
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13
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添加Y对炮钢表面电弧离子镀(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响 |
张健
韩继龙
郭策安
卢旭东
金浩
郭秋萍
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2015 |
4
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14
|
电弧离子镀梯度(Ti,Al)N薄膜的结构与抗氧化性能 |
冯长杰
辛丽
李明升
朱圣龙
王福会
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《中国腐蚀与防护学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
7
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15
|
真空阴极电弧沉积(Ti,Al)N薄膜的应用研究 |
付志强
蔡育平
袁镇海
林松盛
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《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
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2001 |
12
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16
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A1含量对(Ti,Al)N膜结构性能影响的研究进展 |
李国芳
王顺花
石宗利
胡元杰
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《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
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2007 |
4
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17
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Si含量对Ti-Al-Si-N薄膜微结构与力学性能的影响 |
喻利花
薛安俊
董松涛
许俊华
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《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
16
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18
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氮气流量、基体温度对反应溅射(Ti,Al)N成膜影响 |
刘昕
余志明
尹登峰
苏伟涛
杨莉
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《矿冶工程》
CAS
CSCD
北大核心
|
2004 |
3
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19
|
(Ti,Al)N镀层的结构及氧化行为 |
丁晖
刘颂
陈可炜
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《沈阳工业大学学报》
EI
CAS
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2001 |
8
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20
|
Ti-Al-N薄膜的性能及应用 |
陈建国
尹瑞洁
乔学亮
王向丽
杨守银
|
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
|
2001 |
14
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