靶面淀积参数对真空微电子平板摄像管特性的影响

为了开发用于真空微电子平板摄像管的高灵敏度CdSe多层光导材料 ,改建了一台能精确控制CdSe材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空蒸镀设备 ,开发了由真空热预处理 ,非真空热后处理二种处理新工艺 ,制造出了新的高性能的CdSe多层光导靶。使CdSe多层光导靶的灵敏度提高了两个数量级 ,而清晰度 (分辨率 )保持不变。

真空热预处理在平板摄像管CdSe多层靶面制作中的作用

为了研制用于真空微电子平板摄像管(FPC)的具有高感光度的CdSe多层光导材料,发展了包括真空热预处理(VHPT)和非真空热后处理(NAHT)在内的新型热处理工艺。重新装配的蒸发设备和具有结晶和氧化功能的新型炉具满足两种热处理工艺并同其他工艺一起可制造出新的高性能的CdSe多层光导靶。实验结果表明,CdSe多层光导靶的灵敏度提高,而清晰度(分辨率)保持不变,介绍了与VHPT工艺有关的实验结果。

用于平板摄像的CdSe靶面淀积参数对摄像特性的影响

为了开发用于真空微电子平板摄像管 Vacuum Microelectronics FlatPanel Camera Tube(VME FPC)的高灵敏度 CdSe 多层光导靶面,改建了一台精确控制 CdSe 材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空热蒸镀设备,开发了由真空热预处理,非真空热后处理组成的系列新处理工艺,制造出了新的高性能的 CdSe多层光导靶。