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电子和中子辐照n型6H-SiC的光致发光谱
1
作者
钟志亲
龚敏
+9 位作者
王鸥
余洲
杨治美
徐士杰
陈旭东
凌志聪
冯汉源
Beling
C
D
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第z1期11-14,共4页
对用电子能量为1.7,0.5和0.4MeV的电子辐照和中子辐照后的n型6H-SiC样品进行低温光致发光研究.对于Ee≥0.5MeV电子辐照和中子辐照后的样品,首次发现了位于478.6/483.3/486.1n m的S1/S2/S3谱线.对样品进行热退火研究表明S1/S2/S3谱线在50...
对用电子能量为1.7,0.5和0.4MeV的电子辐照和中子辐照后的n型6H-SiC样品进行低温光致发光研究.对于Ee≥0.5MeV电子辐照和中子辐照后的样品,首次发现了位于478.6/483.3/486.1n m的S1/S2/S3谱线.对样品进行热退火研究表明S1/S2/S3谱线在500℃下消失,而退火温度高于700℃时D1中心出现.考虑到产生C空位和Si空位所需的位移阈能以及热退火行为,说明S1/S2/S3为初级Si空位初级缺陷,而D1中心为二次缺陷.
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关键词
6H-SIC
辐照
ltpl
缺陷
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职称材料
德国用转基因酵母菌酿造啤酒
2
《农村经济与科技》
2005年第7期45-45,共1页
近日,德国科学家培育出一种转基因酵母菌,用它可以酿造出泡沫丰富持久的啤酒。
关键词
德国
转基因酵母菌
啤酒
LTP1基因
大麦
ltpl
蛋白质
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职称材料
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
3
作者
王鸥
丁元力
+5 位作者
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对...
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
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关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
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职称材料
题名
电子和中子辐照n型6H-SiC的光致发光谱
1
作者
钟志亲
龚敏
王鸥
余洲
杨治美
徐士杰
陈旭东
凌志聪
冯汉源
Beling
C
D
机构
四川大学物理科学与技术学院
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第z1期11-14,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(批准号:60076010) Project supported by the National Natural Science Foundation of China (No. 60076010)
文摘
对用电子能量为1.7,0.5和0.4MeV的电子辐照和中子辐照后的n型6H-SiC样品进行低温光致发光研究.对于Ee≥0.5MeV电子辐照和中子辐照后的样品,首次发现了位于478.6/483.3/486.1n m的S1/S2/S3谱线.对样品进行热退火研究表明S1/S2/S3谱线在500℃下消失,而退火温度高于700℃时D1中心出现.考虑到产生C空位和Si空位所需的位移阈能以及热退火行为,说明S1/S2/S3为初级Si空位初级缺陷,而D1中心为二次缺陷.
关键词
6H-SIC
辐照
ltpl
缺陷
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
德国用转基因酵母菌酿造啤酒
2
出处
《农村经济与科技》
2005年第7期45-45,共1页
文摘
近日,德国科学家培育出一种转基因酵母菌,用它可以酿造出泡沫丰富持久的啤酒。
关键词
德国
转基因酵母菌
啤酒
LTP1基因
大麦
ltpl
蛋白质
分类号
TS262.5 [轻工技术与工程—发酵工程]
TS261.11 [轻工技术与工程—发酵工程]
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职称材料
题名
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
3
作者
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
机构
四川大学物理科学与技术学院微电子技术四川省重点实验室
香港大学物理系
出处
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
基金
国家自然科学基金(60076010)资助
文摘
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
Keywords
6H-SiC
ltpl
Irradiation-induced-defect
Annealing
分类号
O472.3 [理学—半导体物理]
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子和中子辐照n型6H-SiC的光致发光谱
钟志亲
龚敏
王鸥
余洲
杨治美
徐士杰
陈旭东
凌志聪
冯汉源
Beling
C
D
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
0
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职称材料
2
德国用转基因酵母菌酿造啤酒
《农村经济与科技》
2005
0
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职称材料
3
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004
0
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职称材料
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