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离子对PVD法陶瓷涂层附着性的作用 被引量:4
1
作者 信觉俗 《表面技术》 EI CAS CSCD 1994年第5期201-205,共5页
介绍采用增加离化率、离子注入、离子照射作为辅助手段,改变界面组成与结构,以提高PVD法制备的陶瓷涂层(薄膜)附着性,并阐明了改善涂层附着性的机理。
关键词 陶瓷 涂层 附着性 离子镀 镀膜
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工艺参数对EB-PVD制备YSZ涂层的影响
2
作者 孟彬 杨青青 +1 位作者 孙跃 赫晓东 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期27-31,共5页
为探讨电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备8 mol.%氧化钇稳定氧化锆(8YSZ)涂层过程中工艺参数对涂层致密性、表面粗糙度和晶粒择优取向生长的影响,利用扫描电镜、原子力显微镜和X射线衍射技术对涂层的上述性能进行了分析.分析结果表明,随... 为探讨电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备8 mol.%氧化钇稳定氧化锆(8YSZ)涂层过程中工艺参数对涂层致密性、表面粗糙度和晶粒择优取向生长的影响,利用扫描电镜、原子力显微镜和X射线衍射技术对涂层的上述性能进行了分析.分析结果表明,随沉积速率由750 nm/min下降至20 nm/min,YSZ涂层的晶粒逐渐聚合长大,晶粒之间的孔隙减少,涂层的气体扩散系数相应地由2.41×10-4cm4/(N·s)下降至6.56×10-5cm4/(N·s).YSZ涂层的表面粗糙度随靶基距的提高逐渐降低,涂层的晶体学取向随蒸汽粒子入射角的改变而改变,入射角为30°时(111)晶面具有平行于涂层表面排列的趋势,入射角为45°时(311)和(420)晶面具有平行于表面排列的趋势,而入射角为60°时(220)和(331)晶面具有平行于表面排列的趋势. 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 YSZ涂层 工艺参数 致密性 择优取向
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渗氮+PVD复合处理的研究现状 被引量:1
3
作者 陈亚辉 梁航 +4 位作者 杨睿 杨海波 马学文 李书志 冯锐 《机电工程技术》 2022年第4期1-4,共4页
为解决单一硬质涂层与基体结合力差,服役过程易出现崩裂、剥离导致失效的问题,渗氮+PVD复合处理技术应运而生。由于综合了渗氮技术和物理气相沉积技术的双重优势,渗氮+PVD复合处理技术已被广泛应用于工模具钢的表面强化处理。综述了渗氮... 为解决单一硬质涂层与基体结合力差,服役过程易出现崩裂、剥离导致失效的问题,渗氮+PVD复合处理技术应运而生。由于综合了渗氮技术和物理气相沉积技术的双重优势,渗氮+PVD复合处理技术已被广泛应用于工模具钢的表面强化处理。综述了渗氮+PVD复合处理的研究现状,主要介绍了复合涂层的膜/基结合力、耐磨性、耐腐蚀性以及复合处理工艺的研究现状。与单一处理相比,复合处理由于有渗氮层的存在,在硬质涂层和基体间形成平缓的硬度过渡,能显著提高涂层的膜/基结合力。复合涂层在常温下比单一涂层拥有更好的耐磨性能,且在高温下依然能保持较好的耐磨性能。光滑致密的复合涂层具有优良的耐腐蚀性能,复合涂层的缺陷强烈影响其耐腐蚀性能。一体化渗氮+PVD复合处理工艺,在有效提高表面处理效率的同时,可使复合涂层的综合性能进一步提高,推动渗氮+PVD技术应用于工业生产向前迈出了一大步。 展开更多
关键词 渗氮 pvd 复合处理 性能 工艺
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大口径碳化硅反射镜面PVD改性工艺的研究 被引量:1
4
作者 汪建君 袁吕军 +1 位作者 武中华 周馨 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期854-859,共6页
通过将多块不同尺寸的碳化硅平面试片以及一块口径为520mm碳化硅凹非球面反射镜作为镜面改性工艺技术的实验平台,对大口径碳化硅反射镜面PVD改性工艺技术进行探索、分析和研究。重点研究了前期PVD改性前镜面特性与PVD改性层的最佳匹配关... 通过将多块不同尺寸的碳化硅平面试片以及一块口径为520mm碳化硅凹非球面反射镜作为镜面改性工艺技术的实验平台,对大口径碳化硅反射镜面PVD改性工艺技术进行探索、分析和研究。重点研究了前期PVD改性前镜面特性与PVD改性层的最佳匹配关系,主要是PVD改性层与镜面粗糙度和残留面形误差的要求和最佳结合点。采用的抛光方式为磨盘相对镜体做行星运动,采用相同的离子束辅助沉积法进行凹椭球面碳化硅反射镜的镜面改性。实验结果表明:通过选用合适的方案对改性后的PVD改性层镜面的面形误差进行修抛,可同时提高其镜面光洁度和粗糙度,最终测试结果为0.756nm(Sq),与改性前比较,粗糙度得到一定程度的提高。 展开更多
关键词 光学工艺 大口径碳化硅反射镜 pvd改性 抛光
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发动机气缸网纹深度与油环PVD处理对降低机油消耗的影响 被引量:4
5
作者 舒作为 唐子珏 《内燃机与配件》 2012年第9期24-26,共3页
随着排放要求的日趋严格,这就势必要求减少发动机的机油的消耗量。减低气缸网纹深度是降低发动机机油消耗最有效的方法,因为它们之间是线性甚至指数关系。但对镀铬的油环而言,网纹深度减低到一定程度时,反而有时会出现机油消耗激剧上升... 随着排放要求的日趋严格,这就势必要求减少发动机的机油的消耗量。减低气缸网纹深度是降低发动机机油消耗最有效的方法,因为它们之间是线性甚至指数关系。但对镀铬的油环而言,网纹深度减低到一定程度时,反而有时会出现机油消耗激剧上升的个别情况,其原因是油环的铬层被磨掉,甚至油环基体也被强烈磨损,从而导致油环失效。用PVD表面处理技术代替油环的镀铬工艺可有效的解决此问题。 展开更多
关键词 网纹深度 网纹含油量 镀铬工艺 pvd表面处理
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工业视觉机器人在单晶硅电池片PVD工艺中的应用
6
作者 郭晋竹 李大伟 +1 位作者 乔雷 郑凯 《电子工业专用设备》 2017年第2期30-35,共6页
介绍了单晶硅电池片物理气相沉积(PVD)工序封装解决方案及工艺流程。通过设计基于视觉技术的SCARA工业机器人系统,实现了封装流程的自动化,解决了人工封装过程效率低、成本高、容易污染硅片的问题。并对该系统进行了分析优化,给出了提... 介绍了单晶硅电池片物理气相沉积(PVD)工序封装解决方案及工艺流程。通过设计基于视觉技术的SCARA工业机器人系统,实现了封装流程的自动化,解决了人工封装过程效率低、成本高、容易污染硅片的问题。并对该系统进行了分析优化,给出了提高精度、速度的优化方案。 展开更多
关键词 单晶硅电池片 pvd工艺 工业视觉机器人
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TiAlN纳米复合涂层的技术进展 被引量:28
7
作者 毛延发 唐为国 +1 位作者 刘金良 韩培刚 《工具技术》 北大核心 2006年第4期20-24,共5页
综合介绍了国内外TiAlN涂层技术的发展现状和TiAlN涂层的性能特点、PCD制备工艺以及今后的发展趋势和研究方向;重点评述了高Al含量TiAlN超硬涂层、异质多层膜纳米复合TiAlN涂层和多元合金增强涂层技术的最新进展;指出了TiAlN涂层刀具在... 综合介绍了国内外TiAlN涂层技术的发展现状和TiAlN涂层的性能特点、PCD制备工艺以及今后的发展趋势和研究方向;重点评述了高Al含量TiAlN超硬涂层、异质多层膜纳米复合TiAlN涂层和多元合金增强涂层技术的最新进展;指出了TiAlN涂层刀具在精密模具和汽车零部件加工中的重要作用。 展开更多
关键词 TIALN 超硬涂层 纳米复合涂层 pvd工艺 刀具 技术进展
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纳米片状铝粉的制备及其发展动态 被引量:2
8
作者 陆必志 陈振兴 +1 位作者 黄巧萍 刘辉 《粉末冶金工业》 CAS 2004年第2期39-43,共5页
纳米片状铝粉是近年来发展起来的新型金属颜料 ,它具有粒度分布窄、良好的金属光泽性和遮盖率 ,以及在涂料中分布均匀等优点而倍受人们的关注。PVD法是目前制备纳米片状铝粉的主要方法。
关键词 纳米片状铝粉 pvd 蒸发-冷凝法 溅射-沉积法 机械球磨法 制备
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细团聚球形粉体的等离子物理气相沉积工艺适配性 被引量:2
9
作者 何箐 邹晗 +2 位作者 由晓明 张雨生 赵乾 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第4期161-173,共13页
等离子物理气相沉积(PS-PVD)技术由于可实现涂层组织结构柔性调控及高沉积效率和高隔热、长寿命热障涂层制备而被广泛关注,但其粉体制备技术及工艺适配性研究进展较为缓慢。开展PS-PVD粉体材料工艺适配性研究,通过粉体成分及结构的有效... 等离子物理气相沉积(PS-PVD)技术由于可实现涂层组织结构柔性调控及高沉积效率和高隔热、长寿命热障涂层制备而被广泛关注,但其粉体制备技术及工艺适配性研究进展较为缓慢。开展PS-PVD粉体材料工艺适配性研究,通过粉体成分及结构的有效控制,设计并制得一种采用化学共沉淀原料的1~20μm的“双相”结构松散球形团聚8YSZ粉体,粉体具有高开孔率和一定自流动性。为了提高粉体的工艺适配性,系统研究PS-PVD工艺中不同喷涂距离、喷涂功率和偏离等离子射流中心不同位置的粉体沉积行为,发现通过粉体成分/结构的有效控制,在低喷涂功率、长喷涂距离和距离等离子射流中心的不同位置,均可实现良好的工艺适配效果及涂层气相沉积效果。通过粉体材料的优化控制可以降低气化过程中的耗能,提高粉体气相沉积效果和拓宽PS-PVD喷涂沉积适配的工艺窗口,实现在高能、高速等离子体中的高气相比例沉积。在PS-PVD用高工艺适配性粉体及其可控制备技术等方面取得了突破,系统地开展了该工艺用粉体制备及性能调控、粉体工艺适配性规律等的研究。 展开更多
关键词 热障涂层 等离子物理气相沉积 粉体 沉积行为 工艺适配 工艺窗口
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磁控溅射镀膜的原理与故障分析 被引量:22
10
作者 郝晓亮 《电子工业专用设备》 2013年第6期57-60,共4页
介绍了磁控溅射镀膜的种类及特点。以直流磁控溅射为例,介绍了其结构、原理,分析了影响磁控溅射工艺稳定性的因素。最后总结了磁控溅射镀膜工艺中常见的故障以及解决方法。
关键词 物理气象淀积 磁控溅射 故障分析 镀膜工艺
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等离子物理气相沉积热障涂层研究进展 被引量:27
11
作者 石佳 魏亮亮 +4 位作者 张宝鹏 高丽华 郭洪波 宫声凯 徐惠彬 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期1-9,共9页
等离子物理气相沉积(plasma spray-physical vapor deposition,PS-PVD)是一种最近发展的功能薄膜与涂层制备技术。该技术结合了等离子喷涂(PS)和物理气相沉积(PVD)两种技术的特点,可以实现气、液、固多相的快速共沉积,进行涂层/薄膜微... 等离子物理气相沉积(plasma spray-physical vapor deposition,PS-PVD)是一种最近发展的功能薄膜与涂层制备技术。该技术结合了等离子喷涂(PS)和物理气相沉积(PVD)两种技术的特点,可以实现气、液、固多相的快速共沉积,进行涂层/薄膜微结构的高度柔性加工,并可实现复杂工件遮蔽区域的非视线均匀沉积,在热障涂层、环境障涂层、超硬耐磨涂层、透氧膜和电极膜等领域具有广阔的应用前景,被认为代表了高性能热/环境障涂层制备技术的发展方向。本文综述了PS-PVD的工作原理、技术特点以及近年来国内外在PS-PVD热障涂层制备科学和沉积机理等方面的研究进展,展望了新型高性能热障涂层制备技术的研究热点及未来的发展方向。 展开更多
关键词 等离子物理气相沉积(PS-pvd) 热障涂层 工艺 沉积机理
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电子束物理气相沉积叶片热障涂层工艺稳定性提升技术研究 被引量:2
12
作者 滕晓丹 彭徽 +2 位作者 李刘合 郭洪波 宫声凯 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2023年第1期40-45,52,共7页
电子束物理气相沉积(EB-PVD)是航空发动机涡轮叶片涂层的先进制备技术。EB-PVD的工艺稳定性对于叶片涂层质量及批产一致性至关重要。本研究针对我国先进航空发动机对高性能热障涂层的应用需求,研制出了EB-PVD自动蒸发沉积技术和叶片多... 电子束物理气相沉积(EB-PVD)是航空发动机涡轮叶片涂层的先进制备技术。EB-PVD的工艺稳定性对于叶片涂层质量及批产一致性至关重要。本研究针对我国先进航空发动机对高性能热障涂层的应用需求,研制出了EB-PVD自动蒸发沉积技术和叶片多自由度涂层沉积技术。工艺验证和性能测试结果表明,所研制的自动蒸发沉积技术可使涂层过程靶材消耗均匀稳定,涂层质量良好;双坩埚结构配置可进一步满足新一代超高温双层结构热障涂层工艺需求。所研制的多自由度沉积技术有助于提升叶片涂层厚度均匀性,改善缘板涂层质量,实现涂层厚度和微观组织的精确调控。利用上述工艺制备的涂层试片抗燃气热冲击性能优异,模拟叶片缘板位置涂层寿命与模拟叶身位置涂层寿命相近。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 热障涂层 工艺稳定性 微观组织 厚度均匀性 燃气热冲击
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DLC表面涂覆在模具中的应用 被引量:5
13
作者 李庆生 《模具工业》 2010年第4期74-76,共3页
简要介绍了DLC(类金刚石)涂层技术的发展、基本原理及工艺流程。重点介绍DLC涂层在半导体封装模具特别是引脚成形模具中的应用,以了解DLC涂层卓越的性能和其在模具领域中的使用价值。在模具成形零件上涂覆一层DLC涂层,可以有效提高产品... 简要介绍了DLC(类金刚石)涂层技术的发展、基本原理及工艺流程。重点介绍DLC涂层在半导体封装模具特别是引脚成形模具中的应用,以了解DLC涂层卓越的性能和其在模具领域中的使用价值。在模具成形零件上涂覆一层DLC涂层,可以有效提高产品的品质、减少维护时间、降低产品的生产成本。 展开更多
关键词 DLC涂层 pvd工艺技术 模具零件
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DLC涂层应用于活塞环 被引量:3
14
作者 周革华 《内燃机与配件》 2012年第4期26-27,34,共3页
本文介绍了采用PVD处理方法获得的DLC涂层,针对DLC涂层应用于活塞环,提高活塞环耐磨、减摩性能做了重点介绍,并叙述了该领域的发展现状及趋势。
关键词 pvd处理方法DLC涂层 耐磨减摩摩擦功耗
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等离子物理气相沉积准柱状结构YSZ涂层的制备及抗热震性能 被引量:8
15
作者 高丽华 冀晓鹃 +2 位作者 侯伟骜 卢晓亮 章德铭 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第12期1963-1968,共6页
本工作对比研究了喷涂功率、喷涂距离等主要工艺参数对等离子物理气相沉积(PS-PVD)准柱状结构氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层微观结构及沉积速率的影响,并对优选喷涂工艺制备的YSZ涂层热导率进行了检测。同时,研究了粘结层粗糙度对YSZ热障... 本工作对比研究了喷涂功率、喷涂距离等主要工艺参数对等离子物理气相沉积(PS-PVD)准柱状结构氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层微观结构及沉积速率的影响,并对优选喷涂工艺制备的YSZ涂层热导率进行了检测。同时,研究了粘结层粗糙度对YSZ热障涂层的微观结构及抗热震性能的影响,并对涂层失效行为进行了分析。结果表明:喷涂功率为120 kW、送粉率为20 g/min、喷涂距离为900 mm时,涂层既具备良好的准柱状结构,又有较高的沉积速率;优选喷涂工艺制备的YSZ准柱状结构涂层在1 100 ℃时的热导率约为0.934 W/(m·K);与未打磨处理的粘结层相比,经打磨处理的粘结层表面的YSZ涂层柱状晶排列整齐,孔隙和缺陷较少,具备更好的抗热震性能,1 100 ℃及1 150 ℃涂层的抗热震次数分别可达到258次和210次。 展开更多
关键词 等离子物理气相沉积(PS-pvd) 热障涂层(TBC) 喷涂工艺 抗热震性能
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涂覆硬质合金刀片的新进展
16
作者 薛儒 《航空科学技术》 1999年第1期31-32,共2页
本文介绍了用于飞机制造的涂覆硬质合金刀片的最新研究成果和发展趋势。
关键词 刀片 硬质合金 CVD/pvd 涂覆工艺
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高温耐磨球阀密封面涂层强化工艺的研究 被引量:4
17
作者 尚玉来 金瑞建 +4 位作者 金克雨 李平 林超 金卡迪 李文生 《阀门》 2022年第1期52-57,共6页
介绍了采用超音速火焰喷涂(HVOF)工艺结合物理气相沉积(PVD)技术在Cr_(3)C_(2)-NiCr涂层上沉积CrN涂层形成CrN/Cr_(3)C_(2)-NiCr复合涂层的强化工艺,并对复合涂层从薄膜微观结构设计、摩擦、腐蚀及减磨防腐机理方面进行了研究。
关键词 耐磨球阀 pvd CrN/Cr_(3)C_(2)-NiCr 复合涂层 强化工艺
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篦冷机段节梁加工工艺改进
18
作者 张丙燕 周建 朱狄狄 《水泥工程》 CAS 2015年第3期53-55,共3页
段节梁是四代篦冷机篦床上的一个关键零件,由于加工工艺设计不合理,加上工装夹具不能适应加工要求,导致产品合格率不高,劳动强度大,且生产效率低,无法满足正常的生产节拍要求。经过努力,改革工装夹具和工艺,实现批量化、小流水线生产,... 段节梁是四代篦冷机篦床上的一个关键零件,由于加工工艺设计不合理,加上工装夹具不能适应加工要求,导致产品合格率不高,劳动强度大,且生产效率低,无法满足正常的生产节拍要求。经过努力,改革工装夹具和工艺,实现批量化、小流水线生产,提高了产品质量和效率,同时降低了生产成本,满足生产装配需要。 展开更多
关键词 段节梁 工艺流程 夹具设计 大批量 pvd涂层刀具
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Forming-free flexible memristor with multilevel storage for neuromorphic computing by full PVD technique 被引量:2
19
作者 Tian-Yu Wang Jia-Lin Meng +5 位作者 Qing-Xuan Li Lin Chen Hao Zhu Qing-Qing Sun Shi-Jin Ding David Wei Zhang 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第1期21-26,共6页
Flexible resistive random access memory(RRAM) has shown great potential in wearable electronics.With tunable multilevel resistance states,flexible memristors could be used to mimic the bio-synapses for constructing hi... Flexible resistive random access memory(RRAM) has shown great potential in wearable electronics.With tunable multilevel resistance states,flexible memristors could be used to mimic the bio-synapses for constructing high-efficient wearable neuromorphic computing system.However,the flexible substrate has intrinsic disadvantages including low-tempe rature tolerance and poor complementary metal-oxidesemiconductor(CMOS) compatibility,which limit the development of flexible electronics.The physical vapor deposition(PVD) fabrication process could prepare RRAM without requirement of further treatment,which greatly simplified preparation steps and reduced the production costs.On the other hand,forming process,as a common pre-programing operation in RRAM,increases the energy consumption and limits the application scenarios of RRAM.Here,a NiO-based forming-free RRAM with low set voltage was fabricated via full PVD technique.The flexible device exhibited reliable re sistive switching characteristics under flat state even compre s sive and tensile states(R=10 mm).The tunable multilevel resistance states(5 levels) could be obtained by controlling the compliance current.Besides,synaptic plasticities also were verified in this device.The flexible NiO-based RRAM shows great potential in wearable forming-free multibit memo ry and neuromorphic computing electronics. 展开更多
关键词 Full pvd process Flexible memristor Forming-free Multilevel storage Neuromorphic application
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