期刊文献+
共找到350篇文章
< 1 2 18 >
每页显示 20 50 100
Mechanical properties of electroformed copper layers with gradient microstructure 被引量:2
1
作者 Qiang Liao Li-qun Zhu Hui-cong Liu Wei-ping Li 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第1期69-74,共6页
The electroformed copper layer with gradient microstructure was prepared using the ultrasonic technique. The microstructure of the electroformed copper layer was observed by using an optical microscope (OM) and a sc... The electroformed copper layer with gradient microstructure was prepared using the ultrasonic technique. The microstructure of the electroformed copper layer was observed by using an optical microscope (OM) and a scanning electron microscope (SEM). The preferred orientations of the layer were characterized by X-ray diffraction (XRD). The mechanical properties were evaluated with a Vicker's hardness tester and a tensile tester. It is found the gradient microstructure consists of two main parts: the outer part (faraway substrate) with columnar crystals and the inner part (nearby substrate) with equiaxed grains. The Cu-(220) preferred orientation increases with the increasing thickness of the copper layer. The test results show that the microhardness of the electroformed copper layer decreases with increasing grain size along the growth direction and presents a gradient distribution. The tensile strength of the outer part of the electroformed copper layer is higher than that of the inner part but at the cost of ductility. Meanwhile, the integral mechanical properties of the electroformed copper with gradient microstrucmre are significantly improved in comparison with the pure copper deposit. 展开更多
关键词 ELECTROFORMING copper layer gradient rnicrostructure mechanical properties preferred orientation
下载PDF
PHOTOELECTROCHEMICAL STUDY OF PASSIVE LAYERS ON COPPER ELECTRODES IN SOME ALKALINE MEDIA 被引量:2
2
作者  A. Kamkina,1, Zhou Guodinga, Xu Qunjieb and B. H.c Loo a Electrochemical Research Group, Shanghai Institute of Electric Power, Shanghai 200090, P. R. China b Corrosion Prevention Center, East China University of 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 1998年第2期129-134,共6页
PHOTOELECTROCHEMICALSTUDYOFPASSIVELAYERSONCOPPERELECTRODESINSOMEALKALINEMEDIA①A.Kamkina,1,ZhouGuodinga,XuQun... PHOTOELECTROCHEMICALSTUDYOFPASSIVELAYERSONCOPPERELECTRODESINSOMEALKALINEMEDIA①A.Kamkina,1,ZhouGuodinga,XuQunjiebandB.H.cLooaE... 展开更多
关键词 copper ELECTRODE ALKALINE solutions PASSIVE layer PHOTOCURRENT response cyclic VOLTAMMETRY
下载PDF
Effects of Implant Copper Layer on Diamond Film Deposition on Cemented Carbides
3
作者 马志斌 汪建华 +1 位作者 邬钦崇 王传新 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2001年第1期647-651,共5页
The deposition of high-quality diamond films and their adhesion on cemented carbides are strongly influenced by the catalytic effect of cobalt under typical deposition conditions. Decreasing Co content on the surface... The deposition of high-quality diamond films and their adhesion on cemented carbides are strongly influenced by the catalytic effect of cobalt under typical deposition conditions. Decreasing Co content on the surface of the cemented carbide is often used for the diamond film deposition. But the leaching of Co from the WC-Co substrate leading to a mechanical weak surface often causes a poor adhesion. In this paper we adopted an implant copper layer prepared by vaporization to improve the mechanical properties of the Co-leached substrate. The diamond films were grown by microwave plasma chemical vapor deposition from CH4:H2 gas mixture. The cross section and the morphology of the diamond film were characterized by scanning electron microscopy (SEM). The non-diamond content in the film was analyzed by Raman spectroscopy. The effects of pretreatment on the concentrations of Co and Cu near the interfacial region were examined by energy dispersive spectrum (EDS) equipped with SEM. The adhesion of the diamond on the substrate was evaluated with a Rockwell-type hardness tester. The results indicate that the diamond films prepared with implant copper layer have a good adhesion to the cemented carbide substrate due to the recovery of the mechanical properties of the Co-depleted substrate after the copper implantation and the formation of less amorphous carbon between the substrate and the diamond film. 展开更多
关键词 Effects of Implant copper layer on Diamond Film Deposition on Cemented Carbides Co
下载PDF
The Copper Thin Layer Deposition by Pulse Vacuum-Arc Sprayer
4
作者 A. M. Zhukeshov А. T. Gabdullina +3 位作者 B. M. Ibraev M. Mukhamedryskyzy А. U. Amrenova E. Baltabai 《Materials Sciences and Applications》 2020年第3期177-183,共7页
In this work, the deposition process features of a copper coating on stainless steel substrate, using the pulse vacuum arc spraying method were researched. A continuous layer of copper was deposited on a stainless ste... In this work, the deposition process features of a copper coating on stainless steel substrate, using the pulse vacuum arc spraying method were researched. A continuous layer of copper was deposited on a stainless steel substrate, and a high degree of coating adhesion to the substrate was demonstrated. The thickness of coating using application time was calculated, and the surface unevenness was estimated. Inside the coating layer substrate material elements were observed, that could appear as a result of simultaneously plasma spraying on the surface of the substrate. The feature of this method was discovered, that surface plasma plays a significant role in the deposition process. Finally, it was shown that the device with a pulsed arc could effectively be used in industry, since it is possible to change the layer thickness in the range of hundreds of microns by varying the deposition time. 展开更多
关键词 VACUUM-ARC PLASMA PLASMA DEPOSITION copper Thin layers MICROHARDNESS
下载PDF
Diffusion bonding of copper alloy to stainless steel with Ni and Cu interlayer
5
作者 于治水 王凤江 +1 位作者 李晓泉 吴铭芳 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2000年第1期88-91,共4页
CuAlBe alloy is an attractive shape memory alloy with many important usages in industrial field, in order to spread its range of application it is desirable to be able to join CuAlBe soundly with other metallic materi... CuAlBe alloy is an attractive shape memory alloy with many important usages in industrial field, in order to spread its range of application it is desirable to be able to join CuAlBe soundly with other metallic materials, for example stainless steel; however the weldability between CuAlBe alloy and stainless steel has never been studied, therefore an experimental investigation of different transition metals was carried out in the diffusion bonding joints of Cu alloys (CuAlBe) to stainless steel (1Cr18Ni9Ti). The microstructure and phase composition of the joint were analyzed by SEM, EPMA and X ray diffraction. The following conclusions have been drawn: 1) The joint strength with Ni interlayer is higher than that with Cu interlayer when the welding parameters are the same; 2) When Ni interlayer is thinner, Al will interact with Ni and Fe, and the intermetallic compounds such as Fe 3Al are formed in the interface, which decreases the strength of the joints; 3) When the bonding temperature is higher, because the diffusion of Cu in Ni is faster than Ni in Cu, a Kirkendall effect occurs, which also decreases the strength of the joints. 展开更多
关键词 copper alloys STAINLESS steel inter layer DIFFUSION BONDING
下载PDF
一种基于射频辉光放电光谱仪的防污漆中铜元素含量的快速检测方法 被引量:1
6
作者 汪杰 张海江 +4 位作者 夏萌 李江江 宋震 尹继凯 桂泰江 《合成材料老化与应用》 CAS 2024年第2期17-19,共3页
利用射频辉光放电光谱仪测定防污漆中铜元素含量,可在1h内准确测定出结果,同时分析渗出层的厚度,可以快速判定防污漆的防污效果。相比于传统的采用电感耦合等离子体原子发射(ICP-OES)或者原子吸收光谱仪的测量方法,该方法具有以下优势:... 利用射频辉光放电光谱仪测定防污漆中铜元素含量,可在1h内准确测定出结果,同时分析渗出层的厚度,可以快速判定防污漆的防污效果。相比于传统的采用电感耦合等离子体原子发射(ICP-OES)或者原子吸收光谱仪的测量方法,该方法具有以下优势:不需要复杂冗长的前处理过程,测试时间短,也不会产生废酸等废液,同时可以分析渗出层的厚度。经测试发现,模拟实验后防污漆表层铜元素含量为41.0%,随着深度的增加,铜元素含量先快速降低,随后缓慢增加,最后趋于平稳。由表面剥蚀到5μm深度时,铜含量降到最低值40.5%。此深度也就是“渗出层”的厚度。随着深度进一步增加,铜含量增加至40.9%,在23.0μm趋于稳定。 展开更多
关键词 防污涂料 铜含量 渗出层 辉光放电
下载PDF
Crystal Structure And Magnetic Property of the Complex of Hydrogen-bonded Two-dimensional Layer Copper(Ⅱ)Acrylate with Trimethyl Phosphate
7
作者 WANG Yaoyu SHI Qian +2 位作者 YANG Bingqin GAO Yici SHI Qizhen 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2000年第2期176-178,共3页
关键词 copper(Ⅱ) acrylate Trimethyl phosphate Two-dimensional layer Crystal structure Magnetic property
下载PDF
高深宽比硅孔溅射铜种子层工艺的探索与研究
8
作者 付学成 刘民 +2 位作者 张笛 程秀兰 王英 《真空》 CAS 2024年第4期1-5,共5页
硅通孔技术(TSV)是当前非常热门的高密度封装技术,但由于常规薄膜沉积技术很难在高深宽比的硅孔内沉积铜、钨等金属种子层,硅通孔技术中存在深硅孔金属化困难的工艺问题。通过对倾斜溅射时铜原子二维非对心碰撞前后入射角度的变化关系... 硅通孔技术(TSV)是当前非常热门的高密度封装技术,但由于常规薄膜沉积技术很难在高深宽比的硅孔内沉积铜、钨等金属种子层,硅通孔技术中存在深硅孔金属化困难的工艺问题。通过对倾斜溅射时铜原子二维非对心碰撞前后入射角度的变化关系进行模拟计算发现,当原子碰撞有能量损失时,入射到硅孔内的铜原子角度会发生改变,有助于其沉积在硅孔深处。本文利用负偏压辅助多个铜靶共焦溅射的方式,在不同深宽比的硅盲孔中沉积铜种子层,验证了该方法的可行性,并通过三靶共焦溅射成功在深宽比8∶1的硅孔内实现了铜种子层的沉积。 展开更多
关键词 硅通孔技术 多靶共焦溅射 铜种子层
下载PDF
THQ50-C镀铜焊丝表面锈蚀原因探讨与分析
9
作者 左茂方 左青源 +2 位作者 马正伟 王厚山 董洪波 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第S01期392-396,共5页
本工作对THQ50-C镀铜焊丝出现表面锈蚀的影响因素进行了研究和梳理,使用ZEISS-ULTRA场扫描电镜观察了镀铜焊丝表面SEM形貌和焊丝横截面镀铜层与母丝基体结合区SEM形貌,并测量了镀铜层厚度,分析了Cu、O、Fe三种元素的EDS能谱。利用OLYMPU... 本工作对THQ50-C镀铜焊丝出现表面锈蚀的影响因素进行了研究和梳理,使用ZEISS-ULTRA场扫描电镜观察了镀铜焊丝表面SEM形貌和焊丝横截面镀铜层与母丝基体结合区SEM形貌,并测量了镀铜层厚度,分析了Cu、O、Fe三种元素的EDS能谱。利用OLYMPUS GX53光学显微镜观察了焊丝横截面镀铜层与母丝基体结合区OM形貌,并对以上观察结果进行了分析。结果表明,THQ50-C镀铜焊丝出现表面锈蚀的根本原因是焊丝加工过程的母丝表面残留了许多微细沟壑、单深坑、细麻点等表面缺陷,这些缺陷宏观表现为树皮棱状凸凹不平的状态。进一步分析认为以上缺陷是由于焊丝母材盘条原有的表面缺陷经拉拔加工后“遗传”到焊丝母丝表面所引起的,从而导致了焊丝表面镀铜层不能完全覆盖焊丝基体形成致密铜层,在焊丝储存过程中由于环境腐蚀而出现了锈蚀现象。 展开更多
关键词 镀铜焊丝 表面锈蚀 镀铜层 母材盘条划痕 表面缺陷遗传
下载PDF
热处理对银包铜粉表面光滑度的影响
10
作者 刘欣萍 朱晓云 龙晋明 《材料科学与工艺》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期40-47,共8页
为解决银包铜粉在导电浆料中的应用问题,本文采用化学镀与浸涂法结合制备银包铜粉,通过控制热处理工艺来改善镀银层表面的平整光滑性,并利用扫描电镜、电阻测试仪等研究了热处理工艺对银包铜粉镀银层形貌、抗氧化性、导电性和吸油率的... 为解决银包铜粉在导电浆料中的应用问题,本文采用化学镀与浸涂法结合制备银包铜粉,通过控制热处理工艺来改善镀银层表面的平整光滑性,并利用扫描电镜、电阻测试仪等研究了热处理工艺对银包铜粉镀银层形貌、抗氧化性、导电性和吸油率的影响。研究发现:采用化学镀与浸涂法结合的方法,可以制备表面更光滑的银包铜粉;随着热处理温度的升高,银层愈加光滑平整;但当热处理温度为700℃时,银包铜粉会出现破裂团聚的现象,且随着热处理时间的延长,银包铜粉结构发生畸变和团聚。研究表明,控制热处理工艺可以改善银层表面平整光滑性,从而降低其在电子浆料中的吸油率,提高抗氧化性和导电性。当热处理温度为600℃,保温时间10 min时,制备得到的银包铜粉形貌最好,综合性能最佳。 展开更多
关键词 银包铜粉 表面银层 光滑度 热处理工艺 综合性能
下载PDF
附载体极薄铜箔的剥离机制
11
作者 殷光茂 韩俊青 +2 位作者 杨祥魁 王浩然 武玉英 《精密成形工程》 北大核心 2024年第8期11-18,共8页
目的研究一种极薄铜箔制备过程中所需要的新型剥离层结构,以此来实现极薄铜箔的顺利剥离。方法利用两步电沉积法制备了可剥离的极薄铜箔,利用EBSD分析了“载体铜箔-剥离层-极薄铜箔”结构的附载体铜箔截面晶粒分布规律,利用聚焦离子束技... 目的研究一种极薄铜箔制备过程中所需要的新型剥离层结构,以此来实现极薄铜箔的顺利剥离。方法利用两步电沉积法制备了可剥离的极薄铜箔,利用EBSD分析了“载体铜箔-剥离层-极薄铜箔”结构的附载体铜箔截面晶粒分布规律,利用聚焦离子束技术(FIB)制备了TEM样品,通过HRTEM对“载体铜箔-剥离层-极薄铜箔”结构中剥离层/极薄铜箔、剥离层/载体铜箔的界面微观结构进行了研究。结果与单一Ni剥离层相比,通过两步电沉积法制备的复合剥离层(Ni,Cr-O)具有更好的可剥离性,复合剥离层由有序Ni层和无序Cr-O层组成。复合剥离层中的Ni层与载体铜箔相结合,界面完全共格,形成较强的界面结合;复合剥离层中的无序Cr-O层与极薄铜箔相结合,Cr-O层与极薄铜箔界面原子紊乱,形成较弱的界面结合。对制备的极薄铜箔剥离强度进行测试可知,极薄铜箔与载体铜箔能够剥离,极薄铜箔与剥离层之间的剥离强度约为0.01N/mm。结论利用载体铜箔-剥离层、极薄铜箔-剥离层结合界面的差异化实现了界面结合的差异化,复合剥离层内有序和无序的结构分布调控了载体铜箔与剥离层、极薄铜箔与剥离层之间的界面结合,使剥离层与极薄铜箔之间的结合弱于剥离层与载体铜箔之间的结合,有助于极薄铜箔与剥离层分离,同时剥离层与载体铜箔之间不会分离,进而获得可洁净剥离的极薄铜箔。 展开更多
关键词 极薄铜箔 剥离层 界面 载体铜箔 剥离强度
下载PDF
基体铬合金化增强石墨烯/铜复合材料摩擦学性能研究
12
作者 王杰 李英杰 +2 位作者 范国威 吴嘉杰 麦永津 《热加工工艺》 北大核心 2024年第8期82-86,共5页
如何通过优化石墨烯/铜复合材料的界面结构来提高复合材料的摩擦学性能成为石墨烯增强铜基复合材料领域重要的研究方向之一。采用铜铬合金(CuCr)作为基体材料,还原氧化石墨烯(RGO)作为增强相,通过溶液搅拌混合和热压烧结工艺制备得到了R... 如何通过优化石墨烯/铜复合材料的界面结构来提高复合材料的摩擦学性能成为石墨烯增强铜基复合材料领域重要的研究方向之一。采用铜铬合金(CuCr)作为基体材料,还原氧化石墨烯(RGO)作为增强相,通过溶液搅拌混合和热压烧结工艺制备得到了RGO/CuCr复合材料。对比了添加铬元素前后复合材料的减摩耐磨性能,基于磨痕表面成份和形貌的分析探讨了铜基体铬合金化对石墨烯/铜复合材料摩擦学性能的作用机制。结果表明,铜基体铬合金化使复合材料具有更小更稳定的摩擦因数和更低的比磨损率,特别是在高载荷工况下。性能提高的原因归结为铜基体铬合金化有利于在摩擦过程中复合材料表面形成致密而连续的富石墨烯摩擦层。 展开更多
关键词 石墨烯 界面结合 铜基复合材料 摩擦层 磨损
下载PDF
极薄带异步轧制滑移带演化的晶体塑性有限元分析
13
作者 陈守东 卢日环 《材料科学与工艺》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期85-94,共10页
以单层晶极薄带轧制为研究对象,采用多尺度晶体塑性有限元方法模拟其在拉-压-剪复合应力状态下的宏观剪切带和微观滑移带演化,优化极薄带材轧制工艺。在微观层次上,每个晶粒被离散成若干个有限元单元,且每个积分点采用单晶体本构模型。... 以单层晶极薄带轧制为研究对象,采用多尺度晶体塑性有限元方法模拟其在拉-压-剪复合应力状态下的宏观剪切带和微观滑移带演化,优化极薄带材轧制工艺。在微观层次上,每个晶粒被离散成若干个有限元单元,且每个积分点采用单晶体本构模型。宏-微观层次模拟的共同特征是滑移带演化高度的各向异性和局部化,微观层次的模拟更加明显。结果表明:新剪切带随轧制区施加额外剪切变形而形成,在拉-压-剪复合应力下,强剪切造成已缩窄的主次剪切带随轧制压下的增大而又扩展。单系滑移带在各变形晶粒内的演化差异很大,存在主次滑移,随压-剪复合应力状态的增强而形成亚滑移带。在拉-压-剪复合应力下,单滑移扩展和叠加形成贯穿晶界的累积滑移带,晶界起到很好的滑移承载和传递作用。 展开更多
关键词 极薄带异步轧制 单层晶铜箔 滑移带 晶体塑性 有限元
下载PDF
基于氮化铝HTCC的表面Cu互连制备技术
14
作者 杨欢 张鹤 +1 位作者 杨振涛 刘林杰 《微纳电子技术》 CAS 2024年第7期156-161,共6页
针对高集成密度、高散热封装外壳发展需求,基于氮化铝(AlN)高温共烧陶瓷(HTCC)多层基板,结合直接镀铜(DPC)工艺,提出了一种薄厚膜相结合的高散热封装基板及其制备方法。重点对氮化铝HTCC与表面铜(Cu)层间的结合力进行研究和优化,通过扫... 针对高集成密度、高散热封装外壳发展需求,基于氮化铝(AlN)高温共烧陶瓷(HTCC)多层基板,结合直接镀铜(DPC)工艺,提出了一种薄厚膜相结合的高散热封装基板及其制备方法。重点对氮化铝HTCC与表面铜(Cu)层间的结合力进行研究和优化,通过扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和剥离强度测试仪分析和研究了界面的微观结构和力学性能。研究结果表明:与氮化铝/钛钨(TiW)/Cu相比,氮化铝/钛(Ti)/Cu界面的缺陷更少,金属Ti的黏附性能更优,拉脱断裂面在陶瓷基板上。当采用厚度为400 nm的Ti作为黏附层时,表面金属化剥离强度高达592 MPa,实现了高界面结合力,保证了产品封装性能的稳定性。 展开更多
关键词 氮化铝 高温共烧陶瓷(HTCC)多层基板 直接镀铜(DPC) 黏附层 钛(Ti) 剥离强度
下载PDF
铜氧化层上钒氧酞菁分子的吸附构型及组装结构
15
作者 彭兰沁 李小雨 +3 位作者 幸运 赵涵 邓炎滔 于迎辉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期118-125,共8页
近年来,有机功能分子的调控因其在提高纳米光电器件内部载流子迁移率方面的突出贡献,已逐渐成为材料科学的热门领域之一.本文利用低温扫描隧道显微镜系统地研究了钒氧酞菁(VOPc)分子在干净Cu(110)和铜氧化层表面的吸附构型和组装结构.在... 近年来,有机功能分子的调控因其在提高纳米光电器件内部载流子迁移率方面的突出贡献,已逐渐成为材料科学的热门领域之一.本文利用低温扫描隧道显微镜系统地研究了钒氧酞菁(VOPc)分子在干净Cu(110)和铜氧化层表面的吸附构型和组装结构.在Cu(110)表面,初始时VOPc分子孤立吸附且氧原子向上和向下的构型共存.而在CuO-(2×1)表面,VOPc分子在初始时形成扩展的分子链,随后组装为有序的分子膜,在分子膜中两种吸附构型仍然共存且随机排布.在Cu_(5)O_(6)-c(6×2)表面,初始时VOPc分子的两种构型共存且形成无序结构.在覆盖度接近一个单层时,结构有序的组装分子膜逐渐形成,此时主要采用氧原子向上的分子构型,因偶极相互作用,随后的分子层生长遵循两种分子构型交替堆垛.研究还发现当Cu(110)表面上两种氧化结构共存时,第2层分子更倾向于吸附在Cu_(5)O_(6)-c(6×2)表面担载的分子膜上,主要是由分子层间的偶极相互作用导致的.本研究表明金属表面的氧化层在改变分子吸附构型和组装结构方面的重要性,可能将影响电子器件制造中分子膜中的电荷输运过程. 展开更多
关键词 钒氧酞菁 铜氧化层 扫描隧道显微镜 分子组装
下载PDF
钴铜层状双金属氢氧化物合成及其催化还原对硝基苯酚性能的研究
16
作者 宋晓文 张恩磊 +3 位作者 陈娇娇 徐睿 张本贵 王国胜 《铜业工程》 CAS 2024年第4期22-29,共8页
开发高效催化材料降解硝基有机污染物,对于推动绿色化学和化工的发展具有重要的意义。为此,研究了水浴法合成的钴铜层状双金属氢氧化物(CuCo-LDHs)将对硝基苯酚(4-NP)催化还原为对氨基苯酚(4-AP)的反应过程;通过X射线衍射(XRD)、傅里叶... 开发高效催化材料降解硝基有机污染物,对于推动绿色化学和化工的发展具有重要的意义。为此,研究了水浴法合成的钴铜层状双金属氢氧化物(CuCo-LDHs)将对硝基苯酚(4-NP)催化还原为对氨基苯酚(4-AP)的反应过程;通过X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、电感耦合等离子体光谱仪(ICP),对材料的晶体结构、表面形貌等进行了表征;同时系统性研究了催化剂用量,4-NP的初始浓度、反应温度及硼氢化钠(NaBH4)浓度对CuCo-LDHs催化还原性能的影响。研究结果表明:CuCo-LDHs在催化还原4-NP的反应中表现出较高的催化活性,且反应条件温和,产物无污染。在室温及反应时间为3 min条件下,10 mg CuCo-LDHs可将100 mL 0.10 mmol/L的4-NP有效还原,转化率可达到95%。最后对CuCo-LDHs催化还原4-NP生成4-AP的反应机理进行了分析讨论。 展开更多
关键词 钴铜层状双金属氢氧化物 水浴合成 催化还原 对硝基苯酚 对氨基苯酚
下载PDF
低碳钢表面电弧熔覆制备铜基复合涂层组织与性能研究
17
作者 刁健帅 郭斯阳 +3 位作者 张敏 周文坤 程龙 李朝旭 《电焊机》 2024年第11期33-43,共11页
为研究电弧熔覆技术在低碳钢表面制备铜基熔覆层的效果,并探讨不同合金元素(Co、Cr、Ti、Mn)对熔覆层组织和性能的影响,以提升其在工程领域的应用价值。采用MIG机器人在Q345钢表面分别熔覆硅青铜实心焊丝和四种不同成分的药芯焊丝,制备C... 为研究电弧熔覆技术在低碳钢表面制备铜基熔覆层的效果,并探讨不同合金元素(Co、Cr、Ti、Mn)对熔覆层组织和性能的影响,以提升其在工程领域的应用价值。采用MIG机器人在Q345钢表面分别熔覆硅青铜实心焊丝和四种不同成分的药芯焊丝,制备Cu-Co、Cu-Cr、Cu-Ti、Cu-Mn、Cu-Si五种铜基熔覆层。通过XRD、SEM、EDS等手段对熔覆层的物相组成、微观组织和元素分布进行分析,并测试其硬度和摩擦磨损性能。研究表明,Cu-Co熔覆层界面结合良好,未出现MUZ区域,组织过渡均匀;Cu-Cr熔覆层中出现大量片状析出相,界面不平直;Cu-Ti熔覆层顶部存在大量金属化合物(铁钛、铜钛);Cu-Mn熔覆层顶部主要由Fe基固溶体和Cu基固溶体组成;Cu-Si熔覆层主要由α-Cu和富Fe相组成。Cu-Ti合金熔覆层硬度最高,Cu-Mn合金熔覆层硬度较为平稳。在摩擦磨损试验中,Cu-Co合金熔覆层表现出优异的耐磨性,摩擦系数低且磨损量小。添加Co元素能够有效消除熔覆层与低碳钢界面处的MUZ区域,并获得良好的组织过渡;添加Mn元素能够提升铜基熔覆层的硬度并改善其耐磨性;Cu-Co合金熔覆层具有优异的综合性能,建议优先选择。 展开更多
关键词 电弧熔覆 铜钢复合熔覆层 Q345钢 力学性能 耐磨性
下载PDF
表面负载还原氧化石墨烯对泡沫铜热扩散系数的影响
18
作者 常红旭 孙立伟 +2 位作者 白亮 刘景顺 刘军 《内蒙古工业大学学报(自然科学版)》 2024年第3期213-218,共6页
为研究及提升泡沫铜的热扩散性能,利用不同溶剂制备氧化石墨烯混合溶液,通过机械沉积(GO-无水乙醇-丙酮混合溶液沉积)、电沉积(GO-CuS4O混合溶液电沉积、KH550改性GO电沉积)两种不同的沉积方法将氧化石墨烯(GO)附着到经过预处理的泡沫... 为研究及提升泡沫铜的热扩散性能,利用不同溶剂制备氧化石墨烯混合溶液,通过机械沉积(GO-无水乙醇-丙酮混合溶液沉积)、电沉积(GO-CuS4O混合溶液电沉积、KH550改性GO电沉积)两种不同的沉积方法将氧化石墨烯(GO)附着到经过预处理的泡沫铜表面,后通过高温还原法去除氧化石墨烯表面多余的含氧基团,将其还原为还原氧化石墨烯(rGO),研究材料热扩散性能及泡沫铜表面rGO的存在状态。研究结果表明,通过GO-无水乙醇-丙酮混合溶液沉积的泡沫铜表面沉积层最为均匀完整,经高温还原后性能提升也最为明显,其低温热扩散系数由纯泡沫铜的29.06 mm^(2)/s提高为56.81 mm^(2)/s,提升了95.5%。与热扩散系数为50.26 mm^(2)/s的T2铜片相比,其热扩散系数亦提高13.09%。GO在泡沫铜表面的沉积方式对沉积效果影响显著,GO经过高温还原为rGO后均可以有效提升泡沫铜的热扩散性能。 展开更多
关键词 泡沫铜 氧化石墨烯 沉积层 高温还原 热扩散系数
下载PDF
延长高炉寿命的若干问题探讨
19
作者 车玉满 谢明辉 +2 位作者 郭天永 姜喆 李仲 《鞍钢技术》 CAS 2024年第2期1-6,共6页
近年来,一些企业的高炉依然存在安全隐患,严重限制高炉高效生产。系统分析了高炉设计、铁口以下区域炭砖种类选择、炉缸冷却制度、施工质量管理、日常维护与操作技术等高炉长寿影响因素,论述了炉缸压浆护炉、含钛炉料护炉和在炭砖热面... 近年来,一些企业的高炉依然存在安全隐患,严重限制高炉高效生产。系统分析了高炉设计、铁口以下区域炭砖种类选择、炉缸冷却制度、施工质量管理、日常维护与操作技术等高炉长寿影响因素,论述了炉缸压浆护炉、含钛炉料护炉和在炭砖热面形成永久性保护层的延长高炉寿命技术,以期为实现高炉高效长寿提供参考和借鉴。 展开更多
关键词 高炉 长寿 死铁层 铜冷却壁
下载PDF
锂金属阳极表面SEI膜的制备与研究
20
作者 牟婧妍 王维宙 孙兆勇 《电源技术》 CAS 北大核心 2024年第8期1554-1560,共7页
采用将锂金属阳极浸润在氟化铜混合溶液的方法对锂阳极表面进行SEI层的人工修饰。系统观察不同浓度氟化溶液和浸润时间对阳极表面生成SEI膜的影响,选择1.0%质量分数CuF_(2)溶液浸润10 s为最佳实验条件。结合电化学测试与形貌表征研究锂... 采用将锂金属阳极浸润在氟化铜混合溶液的方法对锂阳极表面进行SEI层的人工修饰。系统观察不同浓度氟化溶液和浸润时间对阳极表面生成SEI膜的影响,选择1.0%质量分数CuF_(2)溶液浸润10 s为最佳实验条件。结合电化学测试与形貌表征研究锂金属电池循环时间、阳极界面上锂的沉积情况和SEI层的力学性能,结果表明,人工SEI层在不同电流密度下将锂电池循环时间提高了160%~446%,促进锂在界面层均匀沉积且显著抑制锂枝晶的生长。研究结果对锂金属电池通过表面修饰实现长循环、高倍率充放电研究具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 氟化铜 锂金属阳极 人工SEI层
下载PDF
上一页 1 2 18 下一页 到第
使用帮助 返回顶部