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Analysis of the double-layer a-Si:H emitter with different doping concentrations for α-Si:H/c-Si heterojunction solar cells 被引量:1
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作者 Haibin HUANG Gangyu TIAN +4 位作者 Tao WANG Chao GAO Jiren YUAN Zhihao YUE Lang ZHOU 《Frontiers in Energy》 SCIE CSCD 2017年第1期92-95,共4页
Double-layer emitters with different doping concentrations (DLE) have been designed and prepared for amorphous silicon/crystalline silicon (ct-Si:H/c-Si) hetero- junction solar cells. Compared with the traditiona... Double-layer emitters with different doping concentrations (DLE) have been designed and prepared for amorphous silicon/crystalline silicon (ct-Si:H/c-Si) hetero- junction solar cells. Compared with the traditional single layer emitter, both the experiment and the simulation (AFORS-HET, http://www.paper.edu.cn/html/releasepaper/2014/04/282/) prove that the double-layer emitter increases the short circuit current of the cells significantly. Based on the quantum efficiency (QE) results and the current-voltage-temperature analysis, the mechanism for the experimental results above has been investigated. The possible reasons for the increased current include the enhancement of the QE in the short wavelength range, the increase of the tunneling probability of the current transport and the decrease of the activation energy of the emitter layers. 展开更多
关键词 double-layer emitter α-si:h/c-si heterojunc-tion solar cell short circuit current quantum efficiency current-voltage-temperature
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α-Si:H/SiNx叠层薄膜对晶体硅太阳电池的钝化 被引量:3
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作者 郑雪 余学功 杨德仁 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第19期534-538,共5页
利用等离子增强化学气相沉积法在硅衬底上制备了α-Si:H/SiNx叠层薄膜用来钝化晶体硅太阳电池.用有效少子寿命表征薄膜的钝化效果,通过模拟高频电容-电压测试结果分析薄膜钝化的机理.将α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果与使用相同方法制备的... 利用等离子增强化学气相沉积法在硅衬底上制备了α-Si:H/SiNx叠层薄膜用来钝化晶体硅太阳电池.用有效少子寿命表征薄膜的钝化效果,通过模拟高频电容-电压测试结果分析薄膜钝化的机理.将α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果与使用相同方法制备的α-Si:H薄膜进行对比,发现α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果明显优于α-Si:H薄膜.不同温度下热处理后,α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果随着温度的上升先提高后降低.在最佳热处理温度300°C下进行热处理,α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果能在90 min内始终保持优于α-Si:H薄膜.模拟计算结果表明,α-Si:H/SiNx薄膜的钝化效果与α-Si:H/Si界面处的态密度有关. 展开更多
关键词 太阳电池 钝化 α-si:h/SiNx薄膜 热处理
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PECVD法沉积氢化非晶硅薄膜内应力的研究 被引量:5
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作者 周顺 刘卫国 +1 位作者 刘欢 蔡长龙 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期341-346,共6页
利用等离子体增强化学气相沉积技术在硅基底上沉积了氢化非晶硅(α-Si:H)薄膜,通过纳米压入仪、电子薄膜应力分布仪、傅里叶变换红外光谱仪等表征技术,研究了沉积时的工艺参数(射频功率、沉积温度、工作压强)对薄膜内应力的影响,对薄膜... 利用等离子体增强化学气相沉积技术在硅基底上沉积了氢化非晶硅(α-Si:H)薄膜,通过纳米压入仪、电子薄膜应力分布仪、傅里叶变换红外光谱仪等表征技术,研究了沉积时的工艺参数(射频功率、沉积温度、工作压强)对薄膜内应力的影响,对薄膜的本征应力、热应力进行分析,并探讨了射频功率对薄膜红外吸收光谱的影响。研究结果表明,提高射频功率能够使薄膜从张应力转变为压应力,且压应力随射频功率的增大而增大;提高工作压强能够使薄膜从压应力转变为张应力;应力随沉积温度的升高而增大;薄膜中氢含量、SiH组态、SiH2组态含量随射频功率的增大而增大。通过优化工艺,得到了沉积具有较小张应力薄膜的工艺参数(射频功率30W,沉积温度250℃,气体流量80cm3/min(标准状态),工作压强67Pa),并将其成功应用于非晶硅薄膜自支撑悬空结构。 展开更多
关键词 薄膜 内应力 本征应力 氢化非晶硅 等离子体增强化学气相沉积
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nc-Si:H/α-SiC:H多层膜的结构与光吸收特性 被引量:1
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作者 马蕾 蒋冰 +2 位作者 陈乙豪 沈波 彭英才 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第13期327-333,共7页
利用等离子体增强化学气相沉积工艺制备了α-Si:H/α-SiC:H多层膜结构,并在900—1000?C下进行了高温退火处理,获得了尺寸可控的nc-Si:H/α-SiC:H多层膜样品.Raman测量表明,900?C以上的退火温度可以使α-Si:H层发生限制晶化.透射电子显... 利用等离子体增强化学气相沉积工艺制备了α-Si:H/α-SiC:H多层膜结构,并在900—1000?C下进行了高温退火处理,获得了尺寸可控的nc-Si:H/α-SiC:H多层膜样品.Raman测量表明,900?C以上的退火温度可以使α-Si:H层发生限制晶化.透射电子显微镜照片显示出α-Si:H层中形成的Si纳米晶粒的纵向尺寸被α-SiC:H层所限制,而与α-Si:H层的厚度相当,晶粒的择优取向是?111?晶向.傅里叶变换红外吸收谱则清楚地显示出,高温退火导致多层膜中的H原子大量逸出,以及α-SiC:H层中有更多的Si-C形成.对nc-Si:H/α-SiC:H多层膜吸收系数的测量证明,多层膜的吸收主要由nc-Si:H层支配,随着Si晶粒尺寸减小,多层膜的光学带隙增大,吸收系数降低.而当nc-Si:H层厚度不变时,α-SiC:H层厚度变化则不会引起多层膜吸收系数以及光学带隙的改变. 展开更多
关键词 α-si h α-siC h多层膜 光吸收边蓝移 量子限制效应
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氢化非晶硅薄膜的性能研究
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作者 叶林 刘卫国 《红外》 CAS 2006年第6期25-28,共4页
本文研究了PECVD系统沉积薄膜及其特性.通过椭偏仪测出了薄膜的膜厚, 采用电子薄膜应力分布测试仪分析了薄膜应力,并运用四探针装置研究了电阻率、方阻、TCR及它们之间的相互关系。结果表明,所沉积的薄膜覆形特性好、沉积速度快, 沉积... 本文研究了PECVD系统沉积薄膜及其特性.通过椭偏仪测出了薄膜的膜厚, 采用电子薄膜应力分布测试仪分析了薄膜应力,并运用四探针装置研究了电阻率、方阻、TCR及它们之间的相互关系。结果表明,所沉积的薄膜覆形特性好、沉积速度快, 沉积速率达到了31.89nm/min,另外,它还具有低应力、高TCR的特点;当薄膜电阻率处在一定的范围内时,通过数据分析,电阻率与TCR之间几乎成线性关系. 展开更多
关键词 PECVD α-si:h 工艺参数 应力 TCR
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