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添加剂对Si粉直接氮化工艺中α-Si3N4含量的影响 被引量:3
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作者 乐红志 田贵山 李素珍 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期370-375,共6页
通常情况下,Si粉直接氮化法和自蔓延法所制得Si3N4粉体主要以β-Si3N4为主,而为了使Si3N4陶瓷有更好的烧结性能,需要得到高α相含量的Si3N4粉。本研究以Si粉直接氮化法为基础,通过添加NH4Cl、FeCl3来制备高α相含量的Si3N4粉。经XRD和SE... 通常情况下,Si粉直接氮化法和自蔓延法所制得Si3N4粉体主要以β-Si3N4为主,而为了使Si3N4陶瓷有更好的烧结性能,需要得到高α相含量的Si3N4粉。本研究以Si粉直接氮化法为基础,通过添加NH4Cl、FeCl3来制备高α相含量的Si3N4粉。经XRD和SEM检测分析发现,添加适量NH4Cl、FeCl3可大幅提高Si3N4粉体中α-Si3N4的含量,最高可达88.3%,但FeCl3的含量过高时,则可显著降低α-Si3N4的含量。研究还发现添加NH4Cl、FeCl3还可降低Si粉发生氮化反应的起始温度。 展开更多
关键词 添加剂 Si粉直接氮化 α-si3n4
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The Influence of Alkaline Earth Elements on Electronic Properties ofα-Si3N4 via DFT Calculation
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作者 张剑文 HUANG Zhifeng +3 位作者 YIN Ziqian LI Meijuan CHEN Fei 沈强 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2020年第5期863-871,共9页
We used density functional theory(DFT)calculations to study the influence of alkali earth metal element(AE)doping on the crystal structure and electronic band structure ofα-Si3N4.The diversity of atomic radii of alka... We used density functional theory(DFT)calculations to study the influence of alkali earth metal element(AE)doping on the crystal structure and electronic band structure ofα-Si3N4.The diversity of atomic radii of alkaline earth metal elements results in structural expansion when they were doped into theα-Si3N4 lattice.Formation energies of the doped structures indicate that dopants prefer to occupy the interstitial site under the nitrogen-deficient environment,while substitute Si under the nitrogen-rich environment,which provides a guide to synthesizingα-Si3N4 with different doping types by controlling nitrogen conditions.For electronic structures,energy levels of the dopants appear in the bottom of the conduction band or the top of the valence band or the forbidden band,which reduces the bandgap ofα-Si3N4. 展开更多
关键词 FIRST-PRInCIPLES density functional theory calculations alkaline earth elements dopedα-si3n4 photoluminescence material crystal structure electronic structure
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一种制备α-Si3N4纳米粉的方法
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《无机盐工业》 CAS 北大核心 2005年第7期62-62,共1页
本发明制备α-Si3N4纳米粉的方法,特征是把硅化镁与氯化铵按物质的量的比1:(4.1~4.5)混合,在密封和450~650℃条件下反应2~12h,所得产物经水洗、分离和干燥,即获得平均颗粒尺寸为15~95nm的α-Si3N4粉。本发明反应和提纯方法... 本发明制备α-Si3N4纳米粉的方法,特征是把硅化镁与氯化铵按物质的量的比1:(4.1~4.5)混合,在密封和450~650℃条件下反应2~12h,所得产物经水洗、分离和干燥,即获得平均颗粒尺寸为15~95nm的α-Si3N4粉。本发明反应和提纯方法简单,产品物相单纯,反应温度低,原料易得,适于工业化生产。 展开更多
关键词 α-si3n4纳米粉 制备方法 硅化镁 氯化铵 反应条件
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线型和带型α-Si3N4准一维结构的形成机理和表征 被引量:3
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作者 杜雪峰 祝迎春 +3 位作者 许钫钫 杨涛 曾毅 沈悦 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期65-68,共4页
采用高温氮化合成的热化学方法制备了单晶的线型和带型α-Si3N4准一维结构.其中线型α-Si3N4准一维结构沉积在温度较低的反应区域(1200℃),而带型α-Si3N4准一维结构则沉积在高温原料源附近位置(1450℃).经XRD、SEM、TEM、HRTEM分析表明... 采用高温氮化合成的热化学方法制备了单晶的线型和带型α-Si3N4准一维结构.其中线型α-Si3N4准一维结构沉积在温度较低的反应区域(1200℃),而带型α-Si3N4准一维结构则沉积在高温原料源附近位置(1450℃).经XRD、SEM、TEM、HRTEM分析表明,制备的线型和带型α-Si3N4准一维结构均为单晶;线型α-Si3N4直径约为100~300nm,长为几十微米;而带型α-Si3N4厚约30nm,宽度在300nm^2μm之间,长度为几微米到几十微米.从晶体生长热力学及动力学方面讨论了线型和带型α-Si3N4准一维结构的生长过程和分区沉积的原因.结果表明,较高的温度和过饱和度有利于形成带型准一维结构. 展开更多
关键词 分区沉积 线型和带型-αSi3n4 准一维结构
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一种低温制备α-Si3N4纳米粉的方法在中科大诞生
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《新材料产业》 2003年第7期72-72,共1页
关键词 低温制备 α-si3n4纳米粉 纳米材料 液固相置换反应 中国科学技术大学
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β-Si_3N_4含量对Y_2O_3-MgO-α-Si_3N_4陶瓷性能的影响 被引量:2
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作者 李荐 李淳伟 +5 位作者 周宏明 黄祖琼 刘凡 李艳芬 杨俊 杨亮 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期91-93,共3页
利用扫描电子显微分析等手段,研究了棒状β-Si3N4含量对Y2O3-MgO-α-Si3N4陶瓷致密度、力学性能和显微结构的影响,确定了β-Si3N4和α-Si3N4的适宜配比。结果显示:随着β-Si3N4含量的增加,Y2O3-MgO-α-Si3N4陶瓷材料致密度和力学性能均... 利用扫描电子显微分析等手段,研究了棒状β-Si3N4含量对Y2O3-MgO-α-Si3N4陶瓷致密度、力学性能和显微结构的影响,确定了β-Si3N4和α-Si3N4的适宜配比。结果显示:随着β-Si3N4含量的增加,Y2O3-MgO-α-Si3N4陶瓷材料致密度和力学性能均先增加后降低,当β-Si3N4含量达到40%时,陶瓷致密度和力学性能同时达到最大,此时致密度为93%,横向断裂强度为583.4 MPa,断裂韧性为5.42 MPa.m1/2。 展开更多
关键词 陶瓷 Β-si3n4 Y2O3-MgO-α-si3n4 力学性能 显微组织
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LICVD法制备a-Si_3N_4纳米粒子光谱研究 被引量:2
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作者 凤雷 郑韬 李道火 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期952-956,共5页
用激光化学气相沉积法制备出平均粒径为10nm 左右的aSi3N4 纳米粒子.红外吸收和喇曼光谱研究表明aSi3N4 纳米粒子中存在Si—N,Si—H,N—H,Si—O—Si键,分析了aSi3N4纳米粒子在不同的温... 用激光化学气相沉积法制备出平均粒径为10nm 左右的aSi3N4 纳米粒子.红外吸收和喇曼光谱研究表明aSi3N4 纳米粒子中存在Si—N,Si—H,N—H,Si—O—Si键,分析了aSi3N4纳米粒子在不同的温度和气氛退火后的变化情况.并对aSi3N4 纳米粒子胶体溶液的紫外可见吸收进行了测试分析. 展开更多
关键词 纳米材料 纳米粒子光谱 α-si3n4 LICVD
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从Si-C-N非晶粉末制备α-Si_3N_4纳米线 被引量:1
8
作者 罗民 宋伟明 胡奇林 《宁夏大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2006年第4期341-343,共3页
以溶胶-凝胶法合成了Si-C-N非晶前驱体粉末,在不添加催化剂的条件下,通过高温还原氮化反应制备了α-Si3N。纳米线.用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)表征和分析了α-Si3N4纳米线.XRD分析表明,在所得产物中,... 以溶胶-凝胶法合成了Si-C-N非晶前驱体粉末,在不添加催化剂的条件下,通过高温还原氮化反应制备了α-Si3N。纳米线.用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)表征和分析了α-Si3N4纳米线.XRD分析表明,在所得产物中,除了未完全反应的非晶SiO2外,主要是α-SisNt,Si2N2O以及少量的β-SiC.TEM和SEM分析显示,合成的α-Si3N4纳米线直径为100~150nm,长几十μm,α-Si3N4纳米线的生长机制是气固(VS)生长机制。 展开更多
关键词 α-si3n4纳米线 溶胶-凝胶 非晶Si-C-n粉末
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α-Si3N4与SP1SiO2熔附比例对复合树脂性能的影响
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作者 李保泉 李博 +3 位作者 谢金芳 耿文韬 李雪洋 李祥伟 《中华生物医学工程杂志》 CAS 2018年第6期410-414,共5页
目的 研究α-Si3N4与SP1SiO2熔附比例对复合树脂性能的影响.方法 将α-Si3N4晶须和SP1SiO2颗粒分别按0:1、1:5、1:2、1:1、2:1、5:1和1:0(Wt%)配比混合,800℃、30 min条件下熔附,环己烷溶液处理后与树脂基质按60 Wt%比例充分混合、聚合... 目的 研究α-Si3N4与SP1SiO2熔附比例对复合树脂性能的影响.方法 将α-Si3N4晶须和SP1SiO2颗粒分别按0:1、1:5、1:2、1:1、2:1、5:1和1:0(Wt%)配比混合,800℃、30 min条件下熔附,环己烷溶液处理后与树脂基质按60 Wt%比例充分混合、聚合及两种市售复合树脂制作挠曲强度试样、断裂韧性试样和硬度测定试样(n=5).测试试样挠曲强度、断裂韧性和硬度,进行试样断面扫描电子显微镜(SEM)形貌分析.结果 α-Si3N4晶须与SP1SiO2颗粒的熔附比例对复合树脂的挠曲强度和断裂韧性影响较大,挠曲强度随熔附比例增大呈现先增加后下降的趋势(均P<0.05),2:1组值最高,随后下降.断裂韧性从0:1至2:1组逐渐增大(均P<0.05),2:1组值最高,随后的5:1和1:0进入平台期.熔附比例对硬度和脆性影响较小,硬度基本无变化,脆性从0:1至1:1组逐渐降低(均P<0.05),随后进入平台期.断面SEM形貌与力学性能相符.结论 α-Si3N4晶须与SP1SiO2颗粒的最佳熔附比例为2:1. 展开更多
关键词 无机填料 复合树脂类 α-si3n4 SP1SiO2 熔附比例 挠曲强度 断裂韧性
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高温多次N^+注入硅形成晶态α-Si_3N_4研究
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作者 柳襄怀 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第8期77-79,共3页
在1000℃高温下,经多次N+注入硅形成了晶态α-si_3N_4省去了常规SOI技术中的高温长时间热退火工艺。这对于简化工艺步骤、降低工艺温度和缩短工艺时间有实际意义。
关键词 晶态α-si3n4 高温 注入工艺
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α-Si_3N_4晶须的制备与分析 被引量:7
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作者 曹阳 齐龙浩 潘伟 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 2003年第5期89-91,共3页
采用高频等离子体气相反应法制备的无定型氮化硅超细粉末为原料。通过在 145 0℃氮气气氛下 ,2h的热处理 ,使无定型氮化硅转为α相氮化硅 ,并生长出α -Si3 N4 晶须。试验分析证明所得到的α -Si3 N4 晶须直径为 5 0~ 2 0 0nm ,无明显... 采用高频等离子体气相反应法制备的无定型氮化硅超细粉末为原料。通过在 145 0℃氮气气氛下 ,2h的热处理 ,使无定型氮化硅转为α相氮化硅 ,并生长出α -Si3 N4 晶须。试验分析证明所得到的α -Si3 N4 晶须直径为 5 0~ 2 0 0nm ,无明显缺陷 ,其晶须生长方向为〈0 110〉。 展开更多
关键词 α-si3n4 晶须 制备 分析 等离子体 气相反应 无定型氮化硅
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碳热还原法合成α-Si_3N_4粉料研究 被引量:1
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作者 庄又青 王俭 李文超 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 1990年第5期16-19,共4页
本文对α-Si_2N_4粉料合成工艺进行了详细研究。结果表明,氮化温度、氮化时间、起始原料C/SiO_2比及其比表面积均对α-Si_3N_4粉料的性能有显著影响。权衡粉料氮化率及产物得率,C/SiO_2=5时其氮化结果最好。碳粉比表面积对氮化过程有强... 本文对α-Si_2N_4粉料合成工艺进行了详细研究。结果表明,氮化温度、氮化时间、起始原料C/SiO_2比及其比表面积均对α-Si_3N_4粉料的性能有显著影响。权衡粉料氮化率及产物得率,C/SiO_2=5时其氮化结果最好。碳粉比表面积对氮化过程有强烈影响,增大的碳的比表面积可为SiO、N_2的吸附、反应及Si_3N_4的成核提供更多的机会。不用任何催化剂,采用C/SiO_2=5,原料比表面积大的样品在1400℃下氮化24h可获得氮含量达37wt%、氧含量小于4wt%、平均粒径为5.0μm的α-Si_3N_4粉料。 展开更多
关键词 碳热还原法 α-si3n4 氮化硅 粉末
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α-Si_3N_4陶瓷的液相烧结及其介电性能 被引量:2
13
作者 沈强 李君 +2 位作者 陈斐 陈常连 张联盟 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期259-262,共4页
以MgO、Al2O3和SiO2作为烧结助剂,采用放电等离子烧结(SPS)方法制备密度可控的α-Si3N4陶瓷材料。讨论了SPS方法制备α-Si3N4陶瓷材料的烧结行为和烧结机理,以及烧结助剂添加量和烧结温度等影响因素与材料密度的关系。结果表明:当烧结... 以MgO、Al2O3和SiO2作为烧结助剂,采用放电等离子烧结(SPS)方法制备密度可控的α-Si3N4陶瓷材料。讨论了SPS方法制备α-Si3N4陶瓷材料的烧结行为和烧结机理,以及烧结助剂添加量和烧结温度等影响因素与材料密度的关系。结果表明:当烧结温度为1400~1500℃,烧结助剂添加量为9%~28.5%(质量分数,下同)时,可以制备出密度可控,且密度变化范围为2.48~3.09g/cm3的α-Si3N4陶瓷材料,试样的主相为α-Si3N4,烧结机理为SPS低温液相烧结,材料在频率为1MHz时的介电常数为5~7.5,与密度关系密切。 展开更多
关键词 放电等离子烧结(SPS) 液相烧结(LPS) α-氮化硅 烧结助剂 介电性能
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高能球磨-盐辅助氮化低温合成α-Si_3N_4粉体
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作者 张晶 李红霞 刘国齐 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期739-743,共5页
以硅粉为原料,NaCl-NaF复合盐为反应介质和稀释剂,采用高能球磨-盐辅助氮化法制备出α-Si_3N_4粉体。研究了氮化温度、保温时间、盐硅比及复合盐中NaF含量对合成α-Si_3N_4的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)... 以硅粉为原料,NaCl-NaF复合盐为反应介质和稀释剂,采用高能球磨-盐辅助氮化法制备出α-Si_3N_4粉体。研究了氮化温度、保温时间、盐硅比及复合盐中NaF含量对合成α-Si_3N_4的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对产物的物相组成和显微结构进行了分析表征。结果表明:氮化温度为1 200℃、保温时间为4 h、盐硅比为2∶1、复合盐中NaF含量为10%时,硅粉完全氮化。合成的产物中存在大量的α-Si_3N_4晶须,晶须的直径为40~280 nm,长度为几微米到几十微米;晶须的生长机制为VC机制。 展开更多
关键词 α-si3n4 低温合成 高能球磨 盐辅助氮化 晶须
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原位增韧β-Si_3N_4/α-Sialon复相陶瓷 被引量:4
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作者 武安华 葛昌纯 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期627-629,共3页
通过XRD,SEM和力学性能测试研究了β-Si3N4/α-Sialon复相陶瓷热压烧结的致密化、相组成、力学性能和微观结构.结果表明,β-Si3N4/α-Sialon复相陶瓷综合了β-Si3N4和α-Sia-lon的力学性能,可通过改变起始粉末的组成,可以调整相组成及... 通过XRD,SEM和力学性能测试研究了β-Si3N4/α-Sialon复相陶瓷热压烧结的致密化、相组成、力学性能和微观结构.结果表明,β-Si3N4/α-Sialon复相陶瓷综合了β-Si3N4和α-Sia-lon的力学性能,可通过改变起始粉末的组成,可以调整相组成及裁剪材料的力学性能.由于加人具有大的长径比的物相β-Si3N4,提高了材料的强度和韧性. 展开更多
关键词 原位增韧 Β-si3n4 α-siALOn 复相陶瓷 热压烧结 力学性能 微观结构
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稀释剂迭代加入对燃烧合成α-Si_3N_4的影响
16
作者 陈义祥 林志明 +1 位作者 杨筠 李江涛 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期90-93,共4页
在开发迭代燃烧合成这种新工艺的基础上,进一步研究了以迭代的方式加入稀释剂对燃烧合成Si_3N_4的作用和影响。研究表明,以迭代的方式加入Si_3N_4稀释剂,可以有效的控制燃烧反应的最高温度,能够实现以低a相含量的Si_3N_4粉体来制备出高... 在开发迭代燃烧合成这种新工艺的基础上,进一步研究了以迭代的方式加入稀释剂对燃烧合成Si_3N_4的作用和影响。研究表明,以迭代的方式加入Si_3N_4稀释剂,可以有效的控制燃烧反应的最高温度,能够实现以低a相含量的Si_3N_4粉体来制备出高a相含量的Si_3N_4粉体,从而使Si_3N_4产物的a相含量得到提高。同时发现,当稀释剂加入量x较小(x=0.375)时,稀释剂的a相含量对生成Si_3N_4产物的a相含量影响较大,当热力学因素和动力学因素的作用达到平衡时,产物中Si生成的a-Si_3N_4的转化率最高值达到89%;当加入稀释剂的量较大(如x≥0.40)时,稀释剂的这种作用不明显。适宜的稀释剂加入量x值应当在0.45左右。所得结果对工业化生产a-Si_3N_4粉体具有指导作用。 展开更多
关键词 α—Si3n4 燃烧合成 稀释剂 迭代
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硅烷偶联剂对SP1 SiO_2、α-Si_3N_4及其熔附体表面修饰作用的研究
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作者 李保泉 张颖丽 +2 位作者 张凯 孙宏晨 杨柏 《口腔医学研究》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期285-287,共3页
目的:研究γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(γ-MPS)对SP1SiO2、α-Si3N4及α-Si3N4~SP1SiO2熔附体无机填料表面的修饰作用。方法:1)用醋酸乙醇(95%)水溶液(pH4.5~5.5)水解γ-MPS,制备成浓度为25%的水解液(Wt%);2)3种无机填料在环己... 目的:研究γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(γ-MPS)对SP1SiO2、α-Si3N4及α-Si3N4~SP1SiO2熔附体无机填料表面的修饰作用。方法:1)用醋酸乙醇(95%)水溶液(pH4.5~5.5)水解γ-MPS,制备成浓度为25%的水解液(Wt%);2)3种无机填料在环己烷和正丙胺溶液中25℃恒温水域回流搅拌,分4次滴入25%水解液处理40min(终浓度:4%γ-MPS、2%正丙胺Wt%);3)洗涤、抽滤至pH值中性加入环己烷(1:20Wt%),90℃恒温水浴和负压下干燥后恒温箱中120℃维持2h制作试样,表面结构测试。结果:3种无机填料表面的H-O-H特征峰消失,出现了C=C和C=O两个新特征峰,表明γ-MPS已接枝于3种填料表面。结论:γ-MPS在3种无机填料表面形成整体覆盖的修饰作用。 展开更多
关键词 硅烷偶联剂 无机填料 复合树脂 α-氮化硅晶须 多微孔纳米二氧化硅粒子
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熔附条件对牙科复合树脂中α-Si_3N_4结构及形态影响研究
18
作者 李保泉 张颖丽 +1 位作者 孙宏晨 杨柏 《现代口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期311-312,286,共3页
目的研究熔附温度和熔附时间对α-氮化硅晶须(α-Si3N4)结构及形态的影响。方法将α-Si3N4以250℃/h的升、降温速度升分别至500℃、650℃、800℃、950℃和1100℃并分别保持10min、30min和3h制作试样,进行结构及形态测试。结果α-Si3N4... 目的研究熔附温度和熔附时间对α-氮化硅晶须(α-Si3N4)结构及形态的影响。方法将α-Si3N4以250℃/h的升、降温速度升分别至500℃、650℃、800℃、950℃和1100℃并分别保持10min、30min和3h制作试样,进行结构及形态测试。结果α-Si3N4晶须经不同烧结温度和烧结时间处理后,晶型、表面的化学基团和形态未改变。结论熔附条件对α-Si3N4晶须结构、表面的化学基团及形态无影响。 展开更多
关键词 α-氮化硅晶须 熔附条件 结构 形态
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Al催化剂辅助直流电弧法合成α-Si_3N_4纳米线
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作者 王秋实 谢永辉 +1 位作者 王维龙 吴宛泽 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第4期816-821,共6页
采用等离子体辅助直流孤光放电技术,以SiO_2粉和Si粉为反应原料,制备了大量纯度高α-Si_3N_4纳米线。通过X射线衍射(XRD)、能量色散X射线光谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶红外光谱(FTIR)对α-Si_3N_4纳米线的形貌和组分进行表征... 采用等离子体辅助直流孤光放电技术,以SiO_2粉和Si粉为反应原料,制备了大量纯度高α-Si_3N_4纳米线。通过X射线衍射(XRD)、能量色散X射线光谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶红外光谱(FTIR)对α-Si_3N_4纳米线的形貌和组分进行表征与分析。TEM和SEM分析显示合成的α-Si_3N_4纳米线直径为30~100 nm,长达几十微米,其生长沿着α-Si_3N_4的[001]方向生长,生长机制气-液-固(VLS)机制所控制。α-Si_3N_4纳米线光致发光光谱(PL)表明其具有一宽的发光带,具有良好的发光性能。 展开更多
关键词 α-si3n4 纳米线 电弧 光致发光
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Si(NH)_2热分解法制备Si_3N_4晶须的影响因素 被引量:6
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作者 毕玉惠 陈斐 +2 位作者 李君 张东明 张联盟 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期8-11,共4页
利用Si(NH)2热分解法制备了Si3N4晶须,对实验原理和实验过程进行了详细描述,对实验中存在的温度、残留碳、微量氧、坩埚材质等可能影响晶须生长的诸多因素进行了分析讨论,说明了诸影响因素的影响程度和参与机理。通过对工艺过程中诸影... 利用Si(NH)2热分解法制备了Si3N4晶须,对实验原理和实验过程进行了详细描述,对实验中存在的温度、残留碳、微量氧、坩埚材质等可能影响晶须生长的诸多因素进行了分析讨论,说明了诸影响因素的影响程度和参与机理。通过对工艺过程中诸影响因素的控制,可以制备高质量Si3N4晶须或改性Si3N4晶须,对研究开发该法批量生产性能优异的Si3N4晶须的工作具有重要的参考意义。 展开更多
关键词 Si(nH)2 Si3n4晶须 影响因素 α—Sialon
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