Ni/Y_2O_3/YSZ/CeO_2/YBCO高温超导膜的织构分析

YBCO高温超导体有着广阔的应用前景,为改善其弱连接,通常要求强的c轴织构以提高临界电流密度值。通过RABiTS法可以在具有双轴织构的金属基底上外延生长出织构峰锐、组分单一的超导膜。为了减少晶格失配,通常需要在金属基体和超导层之间加入缓冲层。文章用2θ-θ扫描、扫描和ω扫描及极图法,对具有多层氧化物缓冲层的Ni/Y2O3/YSZ/CeO2/YBCO超导膜的织构进行了分析,表征了超导体由镍基带的立方织构{001}<100>经缓冲层的转动立方织构{001}<110>再到超导层的c轴织构的传递过程。

X射线ω扫描方法在Ni-Fe合金镀层织构表征中的应用

X射线ω扫描技术是一种较方便地确定和分析薄膜织构的方法,能够克服常规XRD方法测定薄膜纤维织构难获得薄膜信息的问题。本文对这种方法进行了介绍,利用电镀法在2024铝合金上制备了不同电镀时间的Ni-Fe合金镀层,利用X射线ω扫描技术对镀层进行织构表征,对电镀时间与织构特性的关系进行了讨论。

ω扫描和φ扫描在薄膜结构表征中的应用

X射线衍射作为一种无损检测手段已经广泛应用于薄膜材料的结构分析和相分析。ω扫描和φ扫描都基于布拉格方程,可以对薄膜材料丝织构和面内织构进行表征。着重阐述了这两种扫描方式的X射线衍射几何、相关原理和在X射线四圆衍射仪实验过程中的实验参数设置,并介绍了它们的适用范围。最后列举了两种方法在金属薄膜、氧化物薄膜和半导体薄膜结构分析中的应用,显示出这两种表征手段在薄膜结构表征中的优势。

ω,ω,ω′,ω′-四溴-2,6-二乙酰基吡啶的合成及超快三阶非线性光学响应

合成一种新型化合物ω,ω,ω′,ω′-四溴-2,6-二乙酰基吡啶(TBDP),通过IR,1H NMR,13C NMR和HR-MS表征其结构.测定了紫外吸收光谱和荧光发射光谱.采用密度泛函理论方法计算了TBDP的分子轨道能量和极化率.在脉宽190 fs,激光波长480 nm条件下,采用Z-扫描技术测定了TBDP的三阶非线性光学折射系数n2=1.9×10-19 m2·W-1,表现出超快三阶非线性光学响应.