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Defects Induced by Fast Neutron Irradiation in GaAs 被引量:1
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作者 Zhu Shengyun Luo Qi Fan Zhiguo Li Anli Gou Zhenghui Zheng Shennan China Institule of Alomic Energy,P.O.Box 275-50,Beijing 102413Qian Jiayu Beijing General Research Institule for Non-ferrous Metals.Beijing 100088 《Chinese journal of nuclear physics》 1996年第4期231-235,共5页
Defects induced by 5 and 9.5 MeV fast neutron irradiations in N-type HB single crystal GaAsare studied by the positron annihilation lifetime technique.Mono-and di-vacancies are created for the neu-tron irradiation to ... Defects induced by 5 and 9.5 MeV fast neutron irradiations in N-type HB single crystal GaAsare studied by the positron annihilation lifetime technique.Mono-and di-vacancies are created for the neu-tron irradiation to a fluence of 10<sup>13</sup> n/cm<sup>2</sup> and only rnono-vacancies are produced for the neutron irradia-tion to a fluence of 10<sup>11</sup>~10<sup>12</sup>n/cm<sup>2</sup>.It is found that the higher the irradiating neutron energy and flu-ence,the higher the intensity of the produced defects.As a result the defect production rate becomes in-creasingly more sensitive to the neutron fluence than to the neutron energy.The annealing behavior of thedefects is also investigated up to 750℃.Tri-vacaneies are formed between 450 and 620℃ in GaAs irra-diated to 10<sup>13</sup> n/cm<sup>2</sup> by 9.5 MeV neutrons.Three annealing stages are observed for the mono-,di-andtri-vacancies. 展开更多
关键词 —CaAs 5 and 9.5 mev fast neutrons DEFECTS POSITRON LIFETIME
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裂变堆中子转换成 14 MeV 中子的研究进展
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作者 杨裕生 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期377-384,共8页
评述了裂变反应堆中子转换为14MeV中子的研究进展。
关键词 裂变堆中子 14mev中子 慢-快中子转换 转换器
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含硼矿物及环氧树脂复合材料的中子屏蔽性能 被引量:13
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作者 李哲夫 薛向欣 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期223-229,共7页
以我国特有的含硼原矿经选矿和高炉分离后分别得到的含硼铁精矿粉和富硼渣为研究对象,用蒙特卡罗方法研究了二者及其环氧树脂复合材料的中子屏蔽性能,讨论了影响材料屏蔽性能的因素,确定了含硼矿物/环氧树脂复合材料合适的配比范围;得... 以我国特有的含硼原矿经选矿和高炉分离后分别得到的含硼铁精矿粉和富硼渣为研究对象,用蒙特卡罗方法研究了二者及其环氧树脂复合材料的中子屏蔽性能,讨论了影响材料屏蔽性能的因素,确定了含硼矿物/环氧树脂复合材料合适的配比范围;得到了材料的快中子分出截面和热中子衰减系数,并与常用的混凝土屏蔽材料进行对比。结果表明:复合材料对14.1 MeV快中子的屏蔽性能主要与屏蔽材料中低原子序数元素的含量有关,含硼矿物复合材料对热中子的屏蔽性能与硼元素的浓度有关,伴生γ射线光子的衰减主要与矿物材料中高原子序数元素的含量和材料的密度有关。含硼矿物复合材料中含硼矿物的最优体积比为0.4~0.6;最佳配比对14.1 MeV快中子的屏蔽性能与混凝土的接近,对热中子的屏蔽性能强于混凝土的,有望作为辐射场周围混凝土屏蔽层的裂缝灌注及不规则孔洞的填补或直接制备复合屏蔽材料。 展开更多
关键词 含硼矿物 环氧树脂 14.1mev快中子 热中子 蒙特卡罗方法
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14MeV中子照相中散射中子对成像影响的Monte Carlo模拟 被引量:9
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作者 章法强 杨建伦 +2 位作者 李正宏 应纯同 刘广均 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期3577-3583,共7页
依据实验参数,建立了14MeV快中子照相的物理模型,并利用Monte Carlo方法对照相过程进行了模拟.分析了经聚乙烯样品散射的中子对快中子图像的影响随样品与探测器间距及样品参数的变化.计算结果表明,样品与探测器的距离d<5cm时,样品中... 依据实验参数,建立了14MeV快中子照相的物理模型,并利用Monte Carlo方法对照相过程进行了模拟.分析了经聚乙烯样品散射的中子对快中子图像的影响随样品与探测器间距及样品参数的变化.计算结果表明,样品与探测器的距离d<5cm时,样品中的散射中子对图像的影响强烈依赖于d,而当d>20cm时,样品散射中子对图像的影响可忽略;当样品密度为3—5g/cm3时散射中子对图像的影响相对最大;样品宽度越大,图像中的散射成分越多,当宽度在3cm以上时散射成分的强度趋于饱和. 展开更多
关键词 14 mev中子 快中子照相 散射中子 MONTE CARLO模拟
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14MeV中子照相中CCD芯片的屏蔽计算 被引量:3
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作者 章法强 李正宏 +2 位作者 杨建伦 应纯同 刘广均 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期987-990,共4页
快中子照相实验中,电荷耦合装置(CCD)是重要的成像器件。快中子辐射不仅会减少CCD的使用寿命,而且会对快中子图像带来影响,因此必须对CCD芯片进行有效的屏蔽,减少快中子辐射对芯片的损伤。该文利用MCNP/4B程序计算了14MeV中子照相中不... 快中子照相实验中,电荷耦合装置(CCD)是重要的成像器件。快中子辐射不仅会减少CCD的使用寿命,而且会对快中子图像带来影响,因此必须对CCD芯片进行有效的屏蔽,减少快中子辐射对芯片的损伤。该文利用MCNP/4B程序计算了14MeV中子照相中不同屏蔽材料组合条件下CCD芯片的吸收剂量。计算结果表明,在对CCD进行有效的屏蔽后,芯片的吸收剂量是屏蔽前的3%,按源中子数归一后仅为1.29 aGy,已经达到屏蔽要求。计算结果还表明,环境散射中子辐射对芯片吸收剂量贡献较小,可以忽略。 展开更多
关键词 14mev快中子照相 电荷耦合装置 MONTE CARLO方法
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厚闪烁体内次级中子对快中子图像质量的影响研究 被引量:3
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作者 章法强 杨建伦 +2 位作者 李正宏 叶凡 徐荣昆 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期1316-1320,共5页
利用编制的快中子照相数值模拟程序(FNRSC)模拟计算了入射中子能量为14MeV时,厚度5—300mm闪烁体内次级中子对快中子图像质量的影响,结果表明闪烁体厚度d<50mm时,次级中子对图像的影响强烈依赖于闪烁体厚度,而当d>50mm时,次级中... 利用编制的快中子照相数值模拟程序(FNRSC)模拟计算了入射中子能量为14MeV时,厚度5—300mm闪烁体内次级中子对快中子图像质量的影响,结果表明闪烁体厚度d<50mm时,次级中子对图像的影响强烈依赖于闪烁体厚度,而当d>50mm时,次级中子对图像的影响趋于饱和.将文献中利用蒙特卡罗中子-光子输运程序(MCNP)计算的次级中子对图像影响和文中计算结果进行了对比,给出了二者存在差异的主要原因:次级中子分布对入射中子空间分布的强烈依赖性;能量沉积和荧光输出这两种计算方法对快中子图像的贡献形式差异.计算了入射中子能量不同时,次级中子对图像对比度的影响变化,结果表明入射中子与碳核反应截面有较大值时,图像对比度降低. 展开更多
关键词 14 mev中子 快中子照相 次级中子 MONTE CARLO模拟
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