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193nm光刻胶的研制 被引量:5
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作者 郑金红 黄志齐 +5 位作者 陈昕 焦小明 杨澜 文武 高子奇 王艳梅 《感光科学与光化学》 CSCD 2005年第4期300-311,共12页
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品... 从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性. 展开更多
关键词 193nm 光刻胶 单体 主体树脂 光致产酸剂 配方
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193nm光致抗蚀剂用新型阻溶剂的合成及性能研究
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作者 王文君 王力元 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2009年第2期251-254,共4页
以松香酸为主原料合成了适用于193nm光致抗蚀剂的新型阻溶促溶剂,并对其热稳定性、成像性质等进行了研究。结果表明:新型阻溶剂不仅具有良好的热稳定性和阻溶促溶作用,而且在193nm具有良好的透明性,可以应用于193nm光刻胶工艺。
关键词 193 nm光致抗蚀剂 阻溶剂 成像性质 热稳定性
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一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
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作者 王文君 王力元 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2007年第1期136-140,共5页
合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯... 合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯作曝光光源,研究了这些化合物的光解性质和成像性质。 展开更多
关键词 193 nm光致抗蚀剂 光产酸剂 N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯 紫外吸收
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193nm浸没式光刻材料的研究进展 被引量:3
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作者 何鉴 高子奇 +2 位作者 李冰 郑金红 穆启道 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第9期743-747,共5页
介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体... 介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望。 展开更多
关键词 193 nm浸没式光刻 浸没液体 顶部涂料 光刻胶
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193nm浸入式光刻技术独树一帜 被引量:8
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作者 翁寿松 《电子工业专用设备》 2005年第7期11-14,共4页
介绍了193nm浸入式光刻机和193nm光刻胶的最新发展动态以及下一代193nm浸入式光刻机。
关键词 浸入式光刻技术 196nm光刻机 193nm光刻胶
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先进光刻胶材料的研究进展 被引量:25
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作者 许箭 陈力 +4 位作者 田凯军 胡睿 李沙瑜 王双青 杨国强 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期417-429,共13页
本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.
关键词 光刻胶 193nm光刻 EUV光刻 化学放大光刻胶 分子玻璃
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甲基丙烯酸(2-烷基-2-金刚烷)酯的合成及水解研究 被引量:2
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作者 回闯 孟庆伟 +1 位作者 宫斌 曲景平 《感光科学与光化学》 CSCD 2007年第5期357-363,共7页
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体.两个化合物是由2-金刚酮与碘甲烷、碘乙烷的格氏试剂反应得到2-甲基-2-金刚醇、2-乙基-2-金刚醇,然后在氢化钠的作用下与甲基丙... 甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体.两个化合物是由2-金刚酮与碘甲烷、碘乙烷的格氏试剂反应得到2-甲基-2-金刚醇、2-乙基-2-金刚醇,然后在氢化钠的作用下与甲基丙烯酰氯发生酯化反应制得.酯化产率50%—60%.产品结构经1HNMR、IR、MS和元素分析表征.在对甲基苯磺酸-水合物的催化作用下对两个单体进行了水解测试,探讨了水解机理,计算出水解速率常数k,k值分别为-1.52和-3.90. 展开更多
关键词 193 nm光刻胶 甲基丙烯N(2-烷基-2-金刚烷)酯 2-金刚酮 水解
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