1
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193nm光刻胶的研制 |
郑金红
黄志齐
陈昕
焦小明
杨澜
文武
高子奇
王艳梅
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《感光科学与光化学》
CSCD
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2005 |
5
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2
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193nm光致抗蚀剂用新型阻溶剂的合成及性能研究 |
王文君
王力元
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《黑龙江大学自然科学学报》
CAS
北大核心
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2009 |
0 |
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3
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一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析 |
王文君
王力元
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《黑龙江大学自然科学学报》
CAS
北大核心
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2007 |
0 |
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4
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193nm浸没式光刻材料的研究进展 |
何鉴
高子奇
李冰
郑金红
穆启道
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
3
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5
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193nm浸入式光刻技术独树一帜 |
翁寿松
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《电子工业专用设备》
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2005 |
8
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6
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先进光刻胶材料的研究进展 |
许箭
陈力
田凯军
胡睿
李沙瑜
王双青
杨国强
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《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
25
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7
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甲基丙烯酸(2-烷基-2-金刚烷)酯的合成及水解研究 |
回闯
孟庆伟
宫斌
曲景平
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《感光科学与光化学》
CSCD
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2007 |
2
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