期刊文献+
共找到43篇文章
< 1 2 3 >
每页显示 20 50 100
3-氯丙基三甲氧基硅烷合成新方法的研究 被引量:4
1
作者 李季 杨春晖 +2 位作者 张磊 杨恺 邵韦 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期135-138,143,共5页
为提高产率、降低成本,以3-氯丙烯和三甲氧基硅烷为原料、水合三氯化钌为催化剂进行3-氯丙基三甲氧基硅烷的一步合成反应,研究了反应温度、催化剂浓度、原料的加料方式、反应时间、原料的配比对产物收率的影响.结果表明,最佳的反应条件... 为提高产率、降低成本,以3-氯丙烯和三甲氧基硅烷为原料、水合三氯化钌为催化剂进行3-氯丙基三甲氧基硅烷的一步合成反应,研究了反应温度、催化剂浓度、原料的加料方式、反应时间、原料的配比对产物收率的影响.结果表明,最佳的反应条件为反应温度80℃、钌催化剂质量分数63μg/g、3-氯丙烯向三甲氧基硅烷中滴加方式、三甲氧基硅烷/3-氯丙烯的物质的量比为1.2~1.4,在此优化工艺条件下可以得到最高产物收率为96.7%. 展开更多
关键词 3-氯丙基三甲氧基硅烷 硅氢加成 3-氯丙烯 三甲氧基硅烷
下载PDF
纳米金/3-氨丙基-三乙氧基硅烷修饰传感器电化学检测NO_2^- 被引量:6
2
作者 张雁 康天放 +1 位作者 鲁理平 刘桐珅 《分析科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期253-256,共4页
将3-氨丙基-三乙氧基硅烷(ATS)修饰在玻碳电极表面,再自组装一层纳米金,制备了一种新型NO2-的电化学传感器。该修饰电极对NO2-有较好的催化作用。在pH为3时,NO2-的氧化峰电流与其浓度在5.0×10-7~1.0×10-3mol/L范围内呈良好的... 将3-氨丙基-三乙氧基硅烷(ATS)修饰在玻碳电极表面,再自组装一层纳米金,制备了一种新型NO2-的电化学传感器。该修饰电极对NO2-有较好的催化作用。在pH为3时,NO2-的氧化峰电流与其浓度在5.0×10-7~1.0×10-3mol/L范围内呈良好的线性关系,检出限可达2.0×10-7mol/L。方法具有较高的灵敏度和较好的重现性。 展开更多
关键词 纳米金 3-氨丙基-三乙氧基硅烷 电化学传感器 NO2-
下载PDF
3-巯丙基三甲氧基硅烷自组装膜的制备及其摩擦学性能 被引量:9
3
作者 白涛 程先华 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期293-296,共4页
采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3-巯丙基三甲氧基硅烷单层膜(MPTS-SAM),运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了... 采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3-巯丙基三甲氧基硅烷单层膜(MPTS-SAM),运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明:在组装初期,硅烷水解产物主要是与基体表面的羟基发生聚合反应,表面出现岛状物;随着组装时间的增加,基体表面的有机硅烷分子之间发生聚合反应,当组装90min后,可以在基体表面形成完整的自组装薄膜.当组装MPTE-SAM后,基片表面的摩擦系数由无膜时的0.85降到了0.19,说明MPTE-SAM可以降低基片的摩擦系数,并且在较低载荷下具有较好的耐磨性能. 展开更多
关键词 3-巯丙基三甲氧基硅烷 自组装 纳米膜 摩擦磨损性能
下载PDF
用于玻纤布表面处理的一种苯乙烯基氨基硅烷偶联剂的合成与表征
4
作者 田永畅 张雨 +3 位作者 申克静 邱小魁 孙佳丽 许立信 《有机硅材料》 CAS 2024年第2期13-19,31,共8页
以N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷和对氯甲基苯乙烯为原料进行亲核取代反应,成功合成了3-(N-苯乙烯基甲基-2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷偶联剂,并通过核磁氢谱、气相色谱质谱联用仪、高效液相色谱和傅立叶红外光谱进行表征。考... 以N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷和对氯甲基苯乙烯为原料进行亲核取代反应,成功合成了3-(N-苯乙烯基甲基-2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷偶联剂,并通过核磁氢谱、气相色谱质谱联用仪、高效液相色谱和傅立叶红外光谱进行表征。考察了物料比、反应温度、不同阻聚剂和缚酸剂的种类对反应的影响以及溶剂的选择对产品外观的影响。最优反应条件为:N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷与对氯甲基苯乙烯的物质的量之比为1.0∶1,反应温度为80℃,对苯二酚作阻聚剂,三乙胺作缚酸剂,甲苯或苯作溶剂。在最优反应条件下,反应转化率达到100%,产品透明度较好。 展开更多
关键词 N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷 对氯甲基苯乙烯 亲核取代 3-(N-苯乙烯基甲基-2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷
下载PDF
超灵敏葡萄糖生物传感基于自组装纳米金和(3-巯基丙基)-三甲氧基硅烷凝胶溶胶(英文) 被引量:1
5
作者 钟霞 袁若 +4 位作者 柴雅琴 赵勤 刘颜 唐点平 戴建远 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期976-980,共5页
采用一种新颖的方法将(3 巯基丙基) 三甲氧基硅烷凝胶溶胶、纳米金和葡萄糖氧化酶自组装于金电极表面,制得了 高灵敏度的葡萄糖生物传感器.实验表明固定在三维网状的凝胶溶胶中的葡萄糖氧化酶和纳米金颗粒具有很强的稳定性并 且能够保... 采用一种新颖的方法将(3 巯基丙基) 三甲氧基硅烷凝胶溶胶、纳米金和葡萄糖氧化酶自组装于金电极表面,制得了 高灵敏度的葡萄糖生物传感器.实验表明固定在三维网状的凝胶溶胶中的葡萄糖氧化酶和纳米金颗粒具有很强的稳定性并 且能够保持自身的活性.本实验采用Co(bpy)3+3作为电子媒介体,峰电流值与葡萄糖浓度在8.0×10-10~4.2×10-8mol/L 成线形关系,检测下线为3.0×10-10mol/L(S/N=3). 展开更多
关键词 自组装 胶溶 三甲氧基硅烷 溶胶 纳米金 网状 金电极 巯基 凝胶 灵敏
下载PDF
β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷的合成研究 被引量:2
6
作者 陈向前 郑元华 +2 位作者 尤小姿 彭华龙 朱晓英 《有机硅材料》 CAS 2011年第4期229-231,共3页
以三甲氧基硅烷与4-乙烯基环氧环己烷为原料、氯铂酸-吩噻嗪-三苯基磷异丙醇溶液为催化剂,通过硅氢加成反应得β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷,讨论了影响硅氢加成反应的主要因素。最佳合成工艺:铂的质量分数为3×10-6、反... 以三甲氧基硅烷与4-乙烯基环氧环己烷为原料、氯铂酸-吩噻嗪-三苯基磷异丙醇溶液为催化剂,通过硅氢加成反应得β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷,讨论了影响硅氢加成反应的主要因素。最佳合成工艺:铂的质量分数为3×10-6、反应温度95~105℃、反应时间为1.5 h、原料配比三甲氧基硅烷/4-乙烯基环氧环己烷的量之比为1.05,在此条件下β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷的收率达92.3%。 展开更多
关键词 β-(3 4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷 三甲氧基硅烷 4-乙烯基环氧环己烷 硅氢加成
下载PDF
MPTS改性高岭土吸附剂的制备及其吸附性能研究
7
作者 谢雪珍 胡杨玲 +1 位作者 叶有明 曾军 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第1期105-110,共6页
为了处理含电镀络合铜废水,以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为改性剂,对高岭土进行改性,制备了改性高岭土吸附剂,并研究了其对柠檬酸络合铜(E330-Cu)的吸附效果。适宜的高岭土改性条件为:MPTS相对高岭土用量为0.04 mL/g、改性温度50℃、... 为了处理含电镀络合铜废水,以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为改性剂,对高岭土进行改性,制备了改性高岭土吸附剂,并研究了其对柠檬酸络合铜(E330-Cu)的吸附效果。适宜的高岭土改性条件为:MPTS相对高岭土用量为0.04 mL/g、改性温度50℃、改性时间6 h。改性高岭土吸附剂对E330-Cu适宜的吸附条件为:E330-Cu初始浓度5 mg/L、吸附剂相对用量15 g/L、pH值4.5、吸附时间35 min、吸附温度35℃,此时吸附率达到92.50%。吸附过程满足Langmuir等温吸附模型和准二级动力学模型。吸附剂至少可使用3次,处理后废水可达到国家一级排放标准。研究结果可为含电镀络合铜废水的处理提供有力支撑。 展开更多
关键词 废水处理 吸附剂 3-巯丙基三甲氧基硅烷 改性高岭土 电镀废水 吸附
下载PDF
Highly-selective Pt/PAA@MIL-125 Catalyst for Hydrosilylation of γ-(2,3-Epoxypropoxy) Trimethoxysilane
8
作者 ZHU Yahui LUO Yanping +6 位作者 ZHU Fangyu LIANG Qiuhong YUAN Mingwei ZHANG Bingzhen SHI Shunli WANG Shuhua CHEN Chao 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2023年第6期1077-1083,共7页
γ-(2,3-Epoxypropoxy)trimethoxysilane is a crucial silicone product synthesized by hydrosilylation.Its derived downstream silicone products have galvanized the development of silicone industry.However,the Speier's... γ-(2,3-Epoxypropoxy)trimethoxysilane is a crucial silicone product synthesized by hydrosilylation.Its derived downstream silicone products have galvanized the development of silicone industry.However,the Speier's or Karstedt's catalysts commonly utilized in its industrial process are homogeneous,leading to complications,such as low catalytic selectivity and recycling difficulty.Herein,a new heterogeneous platinum catalyst was developed by using a titanium-based metal organic framework(MIL-125)composite with polylactic acid(PAA)as the support.The as-synthesized Pt/PAA-2@MIL-125 catalyst exhibited impressive catalytic performance,producing a 97%yield inβ-product,and maintained recyclability for the synthesis ofγ-(2,3-epoxypropoxy)trimethoxysilane.Further characterization analyses revealed that the introduction of PAA resulted in the formation of a defective mesoporous MIL-125,which accelerated the transmission efficiency of reactants.Moreover,the abundant carboxylic acid groups in the MIL-125/PAA composite could interact strongly with Pt active species,thereby enhancing the catalytic performance and minimizing the loss of Pt,ultimately improving its cycling performance.The comprehensive experiments demonstrated the potential of this catalyst as an effective and versatile heterogeneous catalyst not only for the hydrosilylation of various olefins,but also for the hydrosilyation of silanes. 展开更多
关键词 γ-(2 3-Epoxypropoxy)trimethoxysilane HYDROSILYLATION Metal-organic framework
原文传递
改性3-氨丙基三甲氧基硅烷对聚酰亚胺/二氧化硅复合薄膜性能的影响 被引量:2
9
作者 王晓琳 周宏 +1 位作者 范勇 李德明 《绝缘材料》 CAS 北大核心 2009年第2期42-45,共4页
用正硅酸乙酯(TEOS)和改性3-氨丙基三甲氧基硅烷(APTMOS)作为无机前驱体,采用溶胶-凝胶法制备了聚酰亚胺/二氧化硅(PI/SiO2)复合薄膜。采用傅立叶变换红外光谱(FT-IR),扫描电子显微镜(SEM)和热重分析(TGA)对PI/SiO2纳米复合薄膜进行了表... 用正硅酸乙酯(TEOS)和改性3-氨丙基三甲氧基硅烷(APTMOS)作为无机前驱体,采用溶胶-凝胶法制备了聚酰亚胺/二氧化硅(PI/SiO2)复合薄膜。采用傅立叶变换红外光谱(FT-IR),扫描电子显微镜(SEM)和热重分析(TGA)对PI/SiO2纳米复合薄膜进行了表征,讨论了改性APTMOS的加入对PI/SiO2复合薄膜结构和耐电晕性能的影响。结果表明,改性APTMOS的加入明显降低了SiO2粒子的团聚,并提高了PI/SiO2纳米复合薄膜的耐电晕性能。 展开更多
关键词 聚酰亚胺薄膜 二氧化硅 APTMOS
下载PDF
绿色合成3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷的研究 被引量:1
10
作者 纪秀俊 余江 +1 位作者 金一丰 张玉桥 《广东化工》 CAS 2022年第1期53-55,61,共4页
采用氰酸钾和3-氯丙基三甲氧基硅烷为原料,以氰化法合成3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷。确定了最佳工艺条件:反应温度105℃,催化剂用量1%,投料比n_(KOCN)︰n_(3-氯丙基三甲氧基硅烷)=2.5,保温时间4 h,保护试剂为己内酰胺,最佳用量n_(己... 采用氰酸钾和3-氯丙基三甲氧基硅烷为原料,以氰化法合成3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷。确定了最佳工艺条件:反应温度105℃,催化剂用量1%,投料比n_(KOCN)︰n_(3-氯丙基三甲氧基硅烷)=2.5,保温时间4 h,保护试剂为己内酰胺,最佳用量n_(己内酰胺)︰n_(3-氯丙基三甲氧基硅烷)=1.6,溶剂为N-甲基甲酰胺,添加量为45%。通过气相色谱,红外光谱分析和核磁谱图分析确定了产物为3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷及其纯度。在最佳条件下产品收率为92.38%,纯度为97.26%。 展开更多
关键词 3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷 3-氯丙基三甲氧基硅烷 氰化法 氰酸钾 己内酰胺
下载PDF
有机硅改性水性聚氨酯乳液的研制 被引量:4
11
作者 陶响娥 胡斌 +7 位作者 刘珠 冼文琪 刘国聪 卢明 强娜 罗青宏 刘晓非 林立忠 《有机硅材料》 CAS 2023年第5期1-8,共8页
以二氧化碳基二元醇(PPC)、聚丙二醇、聚酯二醇、甲苯二异氰酸酯、二羟甲基丙酸、N-2-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷(KH 792)、三乙胺为主要原料,制得有机硅改性聚氨酯(Si-WPU)乳液。研究了异氰酸酯基与羟基物质的量之比(R值)、软段种类... 以二氧化碳基二元醇(PPC)、聚丙二醇、聚酯二醇、甲苯二异氰酸酯、二羟甲基丙酸、N-2-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷(KH 792)、三乙胺为主要原料,制得有机硅改性聚氨酯(Si-WPU)乳液。研究了异氰酸酯基与羟基物质的量之比(R值)、软段种类与含量、KH 792用量对Si-WPU外观、粒径、稳定性的影响,并研究了其对Si-WPU固化后胶膜的力学强度、附着力、吸水率、水接触角和耐热性能的影响。结果表明,当R值为1.67、PPC为软段且含量为75%、KH 792用量为3.5%时,制得的Si-WPU乳液外观为泛蓝乳液状且稳定性较佳,黏度为313 mPa·s,粒径为213 nm;该条件下Si-WPU固化膜的综合性能较佳,硬度为2H、拉伸强度为53.83 MPa、断裂伸长率为1465%、附着力等级为4B、水接触角为93.5°、吸水率为2.65%。可为高性能环保水性聚氨酯涂层提供一条新的制备路径。 展开更多
关键词 有机硅改性 水性聚氨酯 乳液 二氧化碳基二元醇 N-2-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷
下载PDF
正硅酸乙酯改性的GPMS有机-无机材料研究 被引量:8
12
作者 尤宏 张兴文 +2 位作者 吕祖舜 刘琰 张皓 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2003年第4期430-433,共4页
为了考察正硅酸乙酯(TEOS)对材料性能的影响,采用溶胶-凝胶法制备了TEOS改性的γ-环氧丙基醚丙基三甲氧基硅烷(GPMS)有机-无机杂化材料,并用浸渍法使其在玻璃基体上成膜.利用红外光谱、核磁共振谱和原子力显微镜对GPMS-TEOS杂化材料的... 为了考察正硅酸乙酯(TEOS)对材料性能的影响,采用溶胶-凝胶法制备了TEOS改性的γ-环氧丙基醚丙基三甲氧基硅烷(GPMS)有机-无机杂化材料,并用浸渍法使其在玻璃基体上成膜.利用红外光谱、核磁共振谱和原子力显微镜对GPMS-TEOS杂化材料的结构进行了表征,采用差热分析仪、纳米硬度测试仪和扫描分光光度计等对其物化性能进行了测试.结果表明,制得的材料具有纳米级倍半硅氧烷结构,TEOS的含量对杂化体系性能有较大影响;当TEOS质量分数为15%~20%时,杂化体系的热稳定性、硬度和模量等性能最佳,并且具有良好的透光性. 展开更多
关键词 正硅酸乙酯 TEOS 溶胶-凝胶法 γ-环氧丙基醚丙基三甲氧基硅烷 GPMS 浸渍法 纳米材料
下载PDF
表面印迹法制备钴(Ⅱ)离子印迹硅胶及性能 被引量:11
13
作者 范洪涛 隋殿鹏 +4 位作者 赵立兴 任泽岩 袁自云 周勤 孙挺 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期2902-2907,共6页
采用表面印迹技术,以Co(Ⅱ)离子作为印迹离子,二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,硅胶为支撑物,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备Co(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜和热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研... 采用表面印迹技术,以Co(Ⅱ)离子作为印迹离子,二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,硅胶为支撑物,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备Co(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜和热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研究了印迹硅胶材料的吸附性能和选择识别能力.结果表明,印迹硅胶材料和非印迹硅胶材料的最大吸附量分别为35.2和6.5 mg/g;印迹硅胶材料对Co(Ⅱ)离子的吸附行为符合Langmuir模型;20 min即可达到吸附平衡;当pH=3.9~7.8时,印迹硅胶材料保持了较好的吸附容量;印迹硅胶材料对Co(Ⅱ)离子具有较强的选择性识别能力;重复使用时性能稳定. 展开更多
关键词 二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷 吸附 离子印迹硅胶
下载PDF
新型FITC掺杂的二氧化硅荧光纳米粒子的合成及其应用于pH传感的研究 被引量:7
14
作者 谢春娟 尹东光 +3 位作者 李剑 张礼 刘斌虎 吴明红 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期488-492,共5页
将异硫氰酸荧光素(FITC)与3-氨基丙基三甲氧基硅烷(APTMS)反应制得前驱体FITC-APTMS,采用油包水微乳液法,利用APTMS与正硅酸乙酯(TEOS)的共水解与聚合作用,制备了FITC掺杂的二氧化硅核壳型荧光纳米粒子。经TEM与荧光光谱表征及光稳定性... 将异硫氰酸荧光素(FITC)与3-氨基丙基三甲氧基硅烷(APTMS)反应制得前驱体FITC-APTMS,采用油包水微乳液法,利用APTMS与正硅酸乙酯(TEOS)的共水解与聚合作用,制备了FITC掺杂的二氧化硅核壳型荧光纳米粒子。经TEM与荧光光谱表征及光稳定性实验与染料泄露实验等,表明所制得纳米颗粒呈规则球形,粒径为(150±15)nm,具有良好的单分散性与光稳定性,不易发生染料泄露。这种纳米颗粒对pH值敏感,在pH3.6~9.7范围内,荧光强度与溶液酸度有良好的响应,其中在pH6.0~9.0之间呈良好的线性关系,此纳米颗粒能被单个小鼠神经干细胞吞噬,可应用于细胞的pH值实时监测。 展开更多
关键词 异硫氰酸荧光素 3-氨基丙基三甲氧基硅烷 油包水微乳液 pH传感
下载PDF
铜电极表面硅烷膜的自组装及其性能研究 被引量:8
15
作者 黄令 林克发 +2 位作者 杨防祖 许书楷 周绍民 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期188-192,共5页
应用自组装技术在铜电极表面上制备3巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜.红外光谱研究该自组装膜结构,电化学方法考察3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜在5%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀性能.结果表明,于不同浓度的3-巯基丙基三甲氧基硅烷乙醇溶液中自... 应用自组装技术在铜电极表面上制备3巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜.红外光谱研究该自组装膜结构,电化学方法考察3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜在5%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀性能.结果表明,于不同浓度的3-巯基丙基三甲氧基硅烷乙醇溶液中自组装的硅烷膜表现出较好的抗腐蚀性. 展开更多
关键词 3-巯基丙基三甲氧基硅烷 自组装 耐蚀性 缓蚀效率
下载PDF
γ-巯丙基三甲氧基硅烷对纳米二氧化硅表面接枝改性的研究 被引量:13
16
作者 李峰 李红强 +2 位作者 赖学军 吴文剑 曾幸荣 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2014年第4期33-36,共4页
采用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)对纳米二氧化硅表面进行接枝改性,研究KH590用量、反应时间和反应温度等对纳米二氧化硅相对接枝率和粒径的影响;采用红外光谱(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)等手段对改性前后的纳米二氧化硅进行表征。... 采用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)对纳米二氧化硅表面进行接枝改性,研究KH590用量、反应时间和反应温度等对纳米二氧化硅相对接枝率和粒径的影响;采用红外光谱(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)等手段对改性前后的纳米二氧化硅进行表征。结果表明:KH590通过水解后与二氧化硅粒子表面的羟基发生反应,成功接枝到纳米二氧化硅表面;其最佳工艺条件为:KH590用量为二氧化硅质量的15%,反应温度为80℃,反应时间为10 h,其相对接枝率达到10.3%;与未改性纳米二氧化硅相比,其平均粒径明显变小,分散性及亲油性明显变好。 展开更多
关键词 纳米SIO2 γ-巯丙基三甲氧基硅烷 表面接枝改性
下载PDF
表面改性硅溶胶粒子增强聚甲基硅树脂薄膜材料 被引量:10
17
作者 陆静娟 郭兴忠 杨辉 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期2152-2156,共5页
以甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为主要成膜物质,经甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MEMO)表面改性的正硅酸乙酯(TEOS)水解产物硅胶作为无机增强物,利用两者羟基之间的共缩聚反应在聚碳酸酯(PC)板表面制备有机/无机复... 以甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为主要成膜物质,经甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MEMO)表面改性的正硅酸乙酯(TEOS)水解产物硅胶作为无机增强物,利用两者羟基之间的共缩聚反应在聚碳酸酯(PC)板表面制备有机/无机复合透明耐磨薄膜;采用TG/DTA、FTIR、UV-vis、金相显微镜及SEM等测试手段对不同含量MEMO改性硅胶对薄膜结构及性能的影响进行表征.研究结果表明,MTMS和TEOS的水解聚合产物通过共缩聚反应在PC板表面形成带有机基团的无机交联网络结构,基本骨架由Si-O-Si组成;在150~250℃之间,MEMO所带的CC会发生热引发自由基聚合反应;随MEMO含量的增加,薄膜的柔韧性提高;薄膜对PC板有一定的增透作用,MEMO含量的改变对其增透性能影响不大;薄膜能显著提高PC板的硬度,随着MEMO含量的增加,能制备厚膜而不易开裂. 展开更多
关键词 甲基三甲氧基硅烷 甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷 水解 缩聚 表面改性 复合 涂层
下载PDF
铜表面修饰硅烷膜在碱性溶液中的耐蚀性能研究 被引量:6
18
作者 黄令 林克发 +2 位作者 杨防祖 许书楷 周绍民 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期10-13,共4页
为了提高铜的耐蚀性,用自组装技术在铜表面上制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜。利用红外光谱和扫描电子显微镜研究了该膜的结构,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了MPTS膜在0.5 mol/L NaOH溶液中对铜电极的缓蚀... 为了提高铜的耐蚀性,用自组装技术在铜表面上制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜。利用红外光谱和扫描电子显微镜研究了该膜的结构,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了MPTS膜在0.5 mol/L NaOH溶液中对铜电极的缓蚀性能。结果表明,MPTS在铜表面可能以化学吸附方式强烈吸附到铜表面,同时在表面以Si-O-Si键自我交联形成了线性低聚物,MPTS浓度越高,其膜更致密。与裸铜电极相比,经MPTS修饰后的铜的腐蚀电位正移200mV,腐蚀电流降低一个数量级,其缓蚀效率为86.5%。 展开更多
关键词 耐蚀性 缓蚀效率 3-巯基丙基三甲氧基硅烷 自组装膜
下载PDF
水热辅助表面接枝印迹法制备Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶及其性能研究 被引量:4
19
作者 范洪涛 李晶 +2 位作者 李展超 阎峰 孙挺 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第15期2060-2064,共5页
采用水热辅助表面接枝印迹技术,以Cd(Ⅱ)离子作为模板,巯基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备出高容量的Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜、热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研究了... 采用水热辅助表面接枝印迹技术,以Cd(Ⅱ)离子作为模板,巯基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备出高容量的Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜、热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研究了印迹硅胶材料的吸附性能和选择识别能力。结果表明,印迹硅胶材料和非印迹硅胶材料的最大吸附量分别为42.5和22.1mg/g;印迹硅胶材料对Cd(Ⅱ)离子具有较强的选择识别能力,对Cd(Ⅱ)离子的吸附行为更符合Langmuir模型,20min即可达到吸附平衡,符合准二级动力学方程,pH值在4~8范围内,保持了较好的吸附容量;重复使用时性能较好。 展开更多
关键词 水热辅助 离子印迹 CD 巯基丙基三甲氧基硅烷 吸附
下载PDF
聚丙烯酸酯-γ-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷共聚物/二氧化硅杂化材料的研究 被引量:2
20
作者 邱凤仙 倪良 +2 位作者 周钰明 刘举正 韩世钧 《现代化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期37-39,共3页
通过溶胶-凝胶法制备了聚丙烯酸酯-γ-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷(KH-560)共聚物/二氧化硅杂化材料,用紫外光谱、傅里叶红外光谱对杂化材料进行了结构表征,用热重法测试对材料进行了性能表征,利用热重分析法研究了聚合反应动力学并可... 通过溶胶-凝胶法制备了聚丙烯酸酯-γ-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷(KH-560)共聚物/二氧化硅杂化材料,用紫外光谱、傅里叶红外光谱对杂化材料进行了结构表征,用热重法测试对材料进行了性能表征,利用热重分析法研究了聚合反应动力学并可得其相应的动力学参数活化能为1307.83 J/mol,反应级数为2,用对比法测定了聚合物的BET比表面积为83.5805 m2/g。 展开更多
关键词 聚丙烯酸酯 γ-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷 杂化材料
下载PDF
上一页 1 2 3 下一页 到第
使用帮助 返回顶部