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A New Empirical Large Signal Model of 4H-SiC MESFETs for the Nonlinear Analysis
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作者 曹全君 张义门 +4 位作者 张玉明 吕红亮 郭辉 汤晓燕 王悦湖 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1023-1029,共7页
A new comprehensive empirical large signal model for 4H-SiC MESFETs is proposed. An enhanced drain current model,along with an improved charge conservation capacitance model,is presented by the improvement of the chan... A new comprehensive empirical large signal model for 4H-SiC MESFETs is proposed. An enhanced drain current model,along with an improved charge conservation capacitance model,is presented by the improvement of the channel length modulation and the hyperbolic tangent function coefficient based on the Materka model. The Levenberg-Marquardt method is used to optimize the parameter extraction. A comparison of simulation resuits with experimental data is made,and good agreements of I-V curves, Pout (output power), PAE (power added efficiency) ,and gain at the bias of Vos = 20V, Ips = 80mA as well as the operational frequency of 1.8GHz are obtained. 展开更多
关键词 4h-sic mesfet large signal empirical model Levenberg-Marquardt method
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4H-SiC MESFET工艺中的金属掩膜研究 被引量:2
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作者 陈刚 李哲洋 +3 位作者 陈征 冯忠 陈雪兰 柏松 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期241-243,共3页
在4H-SiC MESFET微波功率器件制造技术中干法刻蚀是一个很重要的工艺,而对SiC外延片的RIE、ICP等干法刻蚀来说,有光刻胶、Ni、Al和NiSi化合物等多种掩膜方法,其中用光刻胶做掩膜时刻蚀形成的台阶角度缓,不垂直,而Ni、Al等金属掩膜在干... 在4H-SiC MESFET微波功率器件制造技术中干法刻蚀是一个很重要的工艺,而对SiC外延片的RIE、ICP等干法刻蚀来说,有光刻胶、Ni、Al和NiSi化合物等多种掩膜方法,其中用光刻胶做掩膜时刻蚀形成的台阶角度缓,不垂直,而Ni、Al等金属掩膜在干法刻蚀后易形成接近垂直的台阶。通过对Ni、Al、NiSi化合物等多种金属掩膜的研究,得到了干法刻蚀台阶垂直且表面状况良好的Ni金属掩膜条件,最终成功制备出9mm SiC MESFET微波功率器件,在2GHz脉冲输出功率超过38W,功率增益9dB。 展开更多
关键词 4H碳化硅 金属掩膜 金属-肖特基势垒FET
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A CAD oriented quasi-analytical large-signal drain current model for 4H-SiC MESFETs 被引量:3
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作者 曹全君 张义门 +4 位作者 张玉明 吕红亮 王悦湖 常远程 汤晓燕 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1097-1100,共4页
This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain curr... This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain current model is based on semi-empirical MESFET model, and all parameters in this model are determined by physical parameters of 4H-SiC MESFET. The verification of the present model embedded in CAD tools is made, which shows a good agreement with measured data of large signal DC I-V characteristics, PAE (power added efficiency), output power and gain. 展开更多
关键词 4h-sic mesfet drain current model CAD large signal
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4H-SiC MESFET的反应离子刻蚀和牺牲氧化工艺研究 被引量:5
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作者 柏松 韩春林 陈刚 《电子工业专用设备》 2005年第11期59-61,共3页
对于栅挖槽的4H-SiCMESFET,栅肖特基接触的界面经过反应离子刻蚀,界面特性对于肖特基特性和器件性能至关重要。反应离子刻蚀的SiC表面平滑度不是很好,刻蚀损伤严重。选择合适的RIE刻蚀条件减小刻蚀对半导体表面的损伤;利用牺牲氧化改善... 对于栅挖槽的4H-SiCMESFET,栅肖特基接触的界面经过反应离子刻蚀,界面特性对于肖特基特性和器件性能至关重要。反应离子刻蚀的SiC表面平滑度不是很好,刻蚀损伤严重。选择合适的RIE刻蚀条件减小刻蚀对半导体表面的损伤;利用牺牲氧化改善刻蚀后的表面形貌,进一步减小表面的刻蚀损伤。工艺优化后栅的肖特基特性有了明显改善,理想因子接近于1。制成的4H-SiCMESFET直流夹断特性良好,饱和电流密度达到350mAmm。 展开更多
关键词 4h-sic mesfet 反应离子刻蚀 牺牲氧化 肖特基势垒
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4H-SiC MESFET高频小信号特性的模拟与分析 被引量:3
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作者 王雷 张义门 +1 位作者 张玉明 盛立志 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期825-828,共4页
建立了4H SiCMESFETs的模型,运用二维器件模拟软件MEDICI对4H SiCMESFETs的高频小信号特性进行了研究.利用正弦稳态分析的方法对4H SiCMESFETs的高频小信号特性进行了模拟,模拟结果与实验数值比较表明在特征频率fT以内得到了较为满意的... 建立了4H SiCMESFETs的模型,运用二维器件模拟软件MEDICI对4H SiCMESFETs的高频小信号特性进行了研究.利用正弦稳态分析的方法对4H SiCMESFETs的高频小信号特性进行了模拟,模拟结果与实验数值比较表明在特征频率fT以内得到了较为满意的结果.分析了不同的栅长、栅漏间距、不同的沟道掺杂以及温度变化对SiCMESFET特征频率fT的影响. 展开更多
关键词 4h-sic 金属-半导体场效应晶体管 高频小信号 特征频率
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4H-SiC MESFET器件工艺 被引量:1
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作者 陈刚 柏松 +3 位作者 张涛 汪浩 李哲洋 蒋幼泉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期565-567,共3页
介绍了制作4H-SiC MESFET器件的关键工艺.通过改进工艺,采用半绝缘衬底的国产SiC三层外延片,制造出总栅宽为1mm,2GHz连续波下输出功率大于4W,小信号增益大于10dB的SiC MESFET.
关键词 4h-sic 金属半导体场效应管 微波 宽禁带半导体
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n沟道4H-SiC MESFET研究 被引量:1
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作者 陈刚 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期177-179,218,共4页
报告了4H-SiCMESFET的研制。通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制成单栅宽120μmn沟道4H-SiCMESFET,其主要直流特性为在Vds=30V时,最大漏电流密度Idss为56mA/mm,最大跨导Gm为15mS/mm;漏源击穿电压最高达150V... 报告了4H-SiCMESFET的研制。通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制成单栅宽120μmn沟道4H-SiCMESFET,其主要直流特性为在Vds=30V时,最大漏电流密度Idss为56mA/mm,最大跨导Gm为15mS/mm;漏源击穿电压最高达150V;微波特性测试结果在fo=1GHz、Vds=32V时该器件最大输出功率7.05mW,在fo=1.8GHz、Vds=32V时最大输出功率3.1mW。 展开更多
关键词 4H碳化硅 金属半导体场效应管 微波 宽禁带半导体
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4H-SiC MESFET结构外延生长技术
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作者 李哲洋 董逊 +3 位作者 柏松 陈刚 陈堂胜 陈辰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期379-381,共3页
利用热壁式CVD技术生长4H-SiC MESFET结构外延材料,TMA和氮气分别用作p型和n型掺杂源.外延层厚度使用SEM进行表征,SIMS及汞探针C-V用作外延层掺杂浓度测试.通过优化生长参数,成功生长出高质量的MESFET结构外延材料并获得陡峭的过渡掺杂... 利用热壁式CVD技术生长4H-SiC MESFET结构外延材料,TMA和氮气分别用作p型和n型掺杂源.外延层厚度使用SEM进行表征,SIMS及汞探针C-V用作外延层掺杂浓度测试.通过优化生长参数,成功生长出高质量的MESFET结构外延材料并获得陡峭的过渡掺杂曲线,并给出了部分器件测试结果. 展开更多
关键词 4h-sic mesfet SEM SIMS 汞探针C-V
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4H-SiC MESFET器件的制备与性能
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作者 宁瑾 张杨 刘忠立 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期385-387,共3页
在半绝缘4H-SiC衬底上成功制备出MESFET器件,并完成直流特性测试和交流小信号特性测试工作.共制备出3种结构尺寸的MESFET器件,其栅长栅宽分别为0.5μm/80μm,0.7μm/80μm和2μm/2mm,其中0.5μm/80/μm的MESFET器件的漏极电流密度最高,... 在半绝缘4H-SiC衬底上成功制备出MESFET器件,并完成直流特性测试和交流小信号特性测试工作.共制备出3种结构尺寸的MESFET器件,其栅长栅宽分别为0.5μm/80μm,0.7μm/80μm和2μm/2mm,其中0.5μm/80/μm的MESFET器件的漏极电流密度最高,频率特性最好.在漏源电压Vds=10V时,它的漏极电流Ids约为14mA,电流密度为175mA/mm,最大跨导为25mS/mm,fT=3.5GHz,fmax=7GHz. 展开更多
关键词 4h-sic mesfet S参数 直流测试
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Advanced SPICE-Modeling of 4H-SiC MESFETs 被引量:2
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作者 徐跃杭 徐锐敏 +1 位作者 延波 王磊 《Journal of Electronic Science and Technology of China》 2007年第1期62-65,共4页
A modified drain source current suitable for simulation program with integrated circuit emphasis (SPICE) simulations of SiC MESFETS is presented in this paper. Accurate modeling of SiC MESFET is achieved by introduc... A modified drain source current suitable for simulation program with integrated circuit emphasis (SPICE) simulations of SiC MESFETS is presented in this paper. Accurate modeling of SiC MESFET is achieved by introducing three parameters in Triquint's own model (TOM). The model, which is single piece and continuously differentiable, is verified by measured direct current (DC) I-V curves and scattering parameters (up to 20 GHz). 展开更多
关键词 4h-sic mesfet large signal model simulation program with integratedcircuit emphasis (SPICE)
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4H-SiC MESFET的新型经验电容模型 被引量:1
11
作者 曹全君 张义门 +3 位作者 张玉明 汤晓燕 吕红亮 王悦湖 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期33-37,共5页
基于器件工作机理,提出了一种新型的4H-SiC MESFET经验大信号电容模型。模型参数提取采用Lev-enberg-Marquardt优化算法,提取的模型主要参数具有一定物理意义。C-V特性的模型模拟结果与实验数据的比较表明两者符合良好。该模型还与CAD... 基于器件工作机理,提出了一种新型的4H-SiC MESFET经验大信号电容模型。模型参数提取采用Lev-enberg-Marquardt优化算法,提取的模型主要参数具有一定物理意义。C-V特性的模型模拟结果与实验数据的比较表明两者符合良好。该模型还与CAD工具的通用电容模型进行了比较,结果表明新模型具有更高的精度。 展开更多
关键词 4H-碳化硅 金属半导体场效应晶体管 大信号电容 经验模型 Levenberg-Marquardt方法
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4H-SiC MESFET新结构的特性研究 被引量:2
12
作者 彭沛 陈勇 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期404-407,共4页
提出了一种具有阶梯沟道和浮空金属板的新型4H-SiC MESFET结构。在双凹型4HSiC MESFET的栅漏之间加入浮空金属板,并引入阶梯沟道,减少了靠近漏端的栅边缘的电场积聚,提高了击穿电压。对提出的结构进行二维数值模拟,结果表明,该结构的击... 提出了一种具有阶梯沟道和浮空金属板的新型4H-SiC MESFET结构。在双凹型4HSiC MESFET的栅漏之间加入浮空金属板,并引入阶梯沟道,减少了靠近漏端的栅边缘的电场积聚,提高了击穿电压。对提出的结构进行二维数值模拟,结果表明,该结构的击穿电压达到232V,相对于双凹型4H-SiC MESFET的击穿电压103 V,提高了125%,其饱和漏电流相对提高了4.1%,截止频率为15.1GHz,最大振荡频率为69.2GHz。该结构在击穿电压提高125%时,没有严重降低截止频率。 展开更多
关键词 4h-sic 金属半导体场效应晶体管 击穿电压
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4H-SiC MESFET直流I-V特性解析模型 被引量:1
13
作者 任学峰 杨银堂 贾护军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期129-132,共4页
提出了一种改进的4H-SiC MESFET非线性直流解析模型,基于栅下电荷的二维分布,对该模型进行了分析,采用多参数迁移率模型描述速场关系。在分析了电流速度饱和的基础上,考虑沟道长度调制效应对饱和区漏电流的影响,建立了基于物理的沟道长... 提出了一种改进的4H-SiC MESFET非线性直流解析模型,基于栅下电荷的二维分布,对该模型进行了分析,采用多参数迁移率模型描述速场关系。在分析了电流速度饱和的基础上,考虑沟道长度调制效应对饱和区漏电流的影响,建立了基于物理的沟道长度调制效应模型,模拟结果符合高场下漏极的MC(蒙特卡罗)计算的结果。与以前的研究模型相比较,结果说明了该研究的有效性,饱和电流的结果与实测的I-V特性更加吻合。 展开更多
关键词 4H-碳化硅 射频功率金属半导体场效应晶体管 Ⅰ-Ⅴ特性 解析模型
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双沟4H-SiC MESFET优化结构的解析模型及性能 被引量:1
14
作者 游娜 张现军 《计算物理》 CSCD 北大核心 2014年第1期103-108,共6页
优化双沟4H-SiC MESFET结构,通过求解一维和二维泊松方程,建立优化结构的解析模型,分析这种结构的直流和交流特性.结果表明,饱和电流密度的计算结果与实验一致,结构优化后4H-SiC MESFET的饱和电流密度和击穿电压分别为420μA·μm-1... 优化双沟4H-SiC MESFET结构,通过求解一维和二维泊松方程,建立优化结构的解析模型,分析这种结构的直流和交流特性.结果表明,饱和电流密度的计算结果与实验一致,结构优化后4H-SiC MESFET的饱和电流密度和击穿电压分别为420μA·μm-1和155 V,明显高于优化前的275μA·μm-1和141 V;最高输出功率密度为7.4 W·mm-1,比优化前提高约64%;截止频率和最高振荡频率比优化前略微提高.双沟结构经优化后其交流小信号特性未退化而功率特性获得明显改善. 展开更多
关键词 4H—SiC mesfetS 泊松方程
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基于陷阱的4H-SiC MESFET频散效应分析
15
作者 邵科 曹全军 +2 位作者 张义门 张玉明 孙明 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期830-832,841,共4页
在建立正确模型的基础上,运用ISE软件的二维仿真,模拟了4H-SiC MESFET在交流小信号条件下,表面陷阱和体陷阱对跨导和漏电导随频率变化的影响。分析了产生频散效应的原因以及内部机理,同时考虑了不同环境温度对跨导的频散影响。结果表明... 在建立正确模型的基础上,运用ISE软件的二维仿真,模拟了4H-SiC MESFET在交流小信号条件下,表面陷阱和体陷阱对跨导和漏电导随频率变化的影响。分析了产生频散效应的原因以及内部机理,同时考虑了不同环境温度对跨导的频散影响。结果表明,在低频条件下,陷阱会导致跨导和漏电导频散,漏电压越大,环境温度越高,频散越不明显。 展开更多
关键词 4h-sic mesfet 陷阱 跨导 漏电导 频散
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4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究
16
作者 陈壮梁 罗小蓉 +4 位作者 邓小川 周春华 黄何 张波 李肇基 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期160-163,共4页
借助ISE TCAD,对4H-SiC MESFET进行二维数值模拟,研究分析了表面陷阱对直流和瞬态特性的影响。数值模拟表明,在直流特性上,由于表面陷阱电荷引入附加耗尽层,器件饱和电流下降,输出电阻增加,夹断电压向右偏移,跨导降低;在瞬态特性上,表... 借助ISE TCAD,对4H-SiC MESFET进行二维数值模拟,研究分析了表面陷阱对直流和瞬态特性的影响。数值模拟表明,在直流特性上,由于表面陷阱电荷引入附加耗尽层,器件饱和电流下降,输出电阻增加,夹断电压向右偏移,跨导降低;在瞬态特性上,表面陷阱电荷的缓慢变化引起了栅延迟的出现。能级靠近价带、密度较高时,表面陷阱效应越明显。 展开更多
关键词 4H—SiC mesfet 表面陷阱 直流特性 栅延迟
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一种改进的4H-SiC MESFET大信号解析模型
17
作者 曹全君 张义门 张玉明 《电子器件》 CAS 2007年第4期1148-1151,共4页
提出了一种基于器件物理和结构参数并可直接应用于射频电路CAD工具的4H-SiC MESFET大信号解析模型.大信号模型基于4H-SiC MESFET的物理工作机理,源漏电流模型采用Materka的改进模型,沟道长度调制系数和饱和电压系数采用了栅源电压的一... 提出了一种基于器件物理和结构参数并可直接应用于射频电路CAD工具的4H-SiC MESFET大信号解析模型.大信号模型基于4H-SiC MESFET的物理工作机理,源漏电流模型采用Materka的改进模型,沟道长度调制系数和饱和电压系数采用了栅源电压的一次函数建模;大信号电容模型采用电荷-电压(Q-V)的电容积分形式.该大信号模型已经应用在CAD工具中.模拟结果与实验结果符合良好,模型的有效性得到验证. 展开更多
关键词 4h-sic mesfet 大信号 解析模型 射频
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一种基于数值模型的4H-SiC MESFET大信号建模方法
18
作者 曹全君 张义门 张玉明 《电子科技》 2005年第8期14-17,共4页
提出了一种基于数值模型的4H-SiC MESFET大信号建模方法。该方法基于4H-SiC MESFET的物理参数和结构参数,采用MEDICI的小信号正弦稳态分析法和高频小信号等效电路,模拟得到电流和电容的非线性特性,通过大信号等效电路,分析了建立4H-SiC ... 提出了一种基于数值模型的4H-SiC MESFET大信号建模方法。该方法基于4H-SiC MESFET的物理参数和结构参数,采用MEDICI的小信号正弦稳态分析法和高频小信号等效电路,模拟得到电流和电容的非线性特性,通过大信号等效电路,分析了建立4H-SiC MESFET大信号模型的途径。模拟与实验测试值的比较表明这种方法是可行的,可用于预先评估器件大信号工作时的非线性特性,指导4H-SiC MESFET的器件设计。 展开更多
关键词 4h-sic mesfet 大信号模型 射频
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4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究
19
作者 陈壮梁 罗小蓉 +2 位作者 邓小川 周春华 黄何 《实验科学与技术》 2006年第B12期43-45,56,共4页
分析了表面陷阱对4H-SiCMESFET直流和瞬态特性的各种影响。在直流特性上,由表面陷阱引入的附加耗尽层使得饱和电流降低和夹断电压偏移;在瞬态特性上,引起栅延迟以及跨导和输出电导的频散。表面陷阱能级和密度的变化也会影响表面陷阱效... 分析了表面陷阱对4H-SiCMESFET直流和瞬态特性的各种影响。在直流特性上,由表面陷阱引入的附加耗尽层使得饱和电流降低和夹断电压偏移;在瞬态特性上,引起栅延迟以及跨导和输出电导的频散。表面陷阱能级和密度的变化也会影响表面陷阱效应。该文还对栅延迟现象进行了分析,并给出了电子浓度分布随时间的变化。 展开更多
关键词 4H—SiC mesfet 表面陷阱 直流特性 瞬态特性
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4H-SiC MESFET直流I-V特性解析模型
20
作者 任学峰 杨银堂 贾护军 《现代电子技术》 2008年第10期24-26,共3页
提出一种改进的4H-SiC MESFET非线性直流解析模型,该模型基于栅下电荷的二维分布进行分析,在分析电场相关迁移率、速度饱和的基础上,考虑沟道长度调制效应对饱和区漏电流的影响,建立基于物理的沟道长度调制效应模型,模拟结果与实测的I-... 提出一种改进的4H-SiC MESFET非线性直流解析模型,该模型基于栅下电荷的二维分布进行分析,在分析电场相关迁移率、速度饱和的基础上,考虑沟道长度调制效应对饱和区漏电流的影响,建立基于物理的沟道长度调制效应模型,模拟结果与实测的I-V特性较为吻合。在器件设计初期,可以有效地预测器件的工作状态。 展开更多
关键词 4h-sic射频功率mesfet I-V特性 解析模型
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