Eph在颞叶癫痫大鼠齿状回苔藓纤维出芽机制中的作用

目的:探讨匹罗卡品致痫大鼠Eph A5和ephrin A3在海马齿状回的表达变化与苔藓纤维出芽和突触重建的关系。方法:急性诱导癫痫持续状态及慢性颞叶癫痫形成后,采用Neo-Timm银染观察苔藓纤维出芽及突触重建,并用原位杂交方法检测ephrin A3基因的动态变化,用免疫组织化学方法检测Eph A5蛋白的动态变化。结果:在内嗅皮质区(EC)仅有Eph A5的表达,致痫后第7天,Eph A5的表达下调,降至最低点(P<0.01),此后逐渐回升,但第15天时仍低于对照组(P<0.05),第30天时回归至对照组水平(P>0.05)。在齿状回(DG),Eph A5及ephrin A3在致痫后第7天明显较对照组降低(P<0.01),此后逐渐回升,但第15天时仍低于对照组,在第30天和第60天与对照组相比无统计学差异(P>0.05)。结论:内嗅皮质区EphA5和齿状回Eph A5及ephrin A3的表达下调可能是癫痫持续状态(SE)后苔藓纤维出芽至齿状回内分子层的分子学机制之一。

弯曲损耗不敏感单模光纤1310nm处模场直径测试方法比对分析

本文通过实验的方法分析研究了不同高阶模滤除条件对ITU-T G.657.A2、A3和ITU-T G.657.B3类光纤模场直径测量结果的影响。实验表明,采用22m试样光纤的测试条件或采用将2m标准的G.652光纤熔接在2mG.657试样光纤上,并在标准的G.652光纤上绕两个40mm半径圈的测试条件均可以准确测试G.657.A类包括A3类和G.657.B类光纤在1310nm处的模场直径。采用其他不同的弯曲半径或通过绕更多圈的滤除高阶模的方法并不总能够有效滤除G.657.A类包括A3类和G.657.B类2m试样光纤中的高阶模。特别是弯曲性能好且λc≥1310nm的G.657光纤,1310nm处模场直径测试的结果会受高阶模影响,并导致实测值比正确值偏小。为了避免高阶模的影响,推荐采用22m试样光纤测试条件或采用将2mG.652光纤熔接在2mG.657试样光纤上,并在G.652光纤上绕两个40mm半径圈的测试条件测试G.657光纤1310nm处模场直径。