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AlN-SiC固溶体的制备及介电性能 被引量:1
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作者 苏晓磊 李智敏 +2 位作者 罗发 朱冬梅 周万城 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期129-131,共3页
以碳化硅和铝粉为原料,均匀混合后在不同气氛中于2000℃下保温0.5h制得粉体。用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对其进行表征。同时在8.2~12.4GHz频率范围内测试其介电性能。结果表明:在N2气氛中,当铝的含量较少时... 以碳化硅和铝粉为原料,均匀混合后在不同气氛中于2000℃下保温0.5h制得粉体。用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对其进行表征。同时在8.2~12.4GHz频率范围内测试其介电性能。结果表明:在N2气氛中,当铝的含量较少时,未出现AIN物相,当铝含量超过10at%时,AIN相开始出现,并且AIN的含量随着铝含量的增加而增加。掺杂铝样品与未掺杂铝样品相比,其介电常数实部ε′和介电损耗tanδ皆降低,且随着铝含量的增加而逐步降低,主要是因为AIN具有较低的介电常数实部和损耗。 展开更多
关键词 ainsic 固溶体 扩散 介电常数
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AIN和B对热压烧结C_f/SiC复合材料性能的影响
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作者 何新波 张长瑞 +2 位作者 周新贵 张新明 周安郴 《材料科学与工程》 CSCD 1999年第4期30-34,35,共6页
研究了烧结助剂AIN 和B对Cf/SiC复合材料力学性能的影响。结果表明:B含量较低时(小于0.5w t% ),B的增加能有效地提高复合材料的抗弯强度与断裂韧性,继续增加B的用量至1w t% ,虽能大幅度提高复合材料的强... 研究了烧结助剂AIN 和B对Cf/SiC复合材料力学性能的影响。结果表明:B含量较低时(小于0.5w t% ),B的增加能有效地提高复合材料的抗弯强度与断裂韧性,继续增加B的用量至1w t% ,虽能大幅度提高复合材料的强度,但使复合材料的断裂韧性大大降低。AIN 与SiC高温反应形成固溶体,能起到强化和细化基体SiC晶粒以及改善SiC晶界结构的作用,但对复合材料内纤维与基体间界面的结合影响较小,因此与B的作用相比,AIN 对复合材料密度和力学性能的影响较小。烧结助剂为5w t% AIN-0.5w t% B,经1850℃和25MPa 热压烧结后的Cf/SiC复合材料具有较佳的综合力学性能,其抗弯强度与断裂韧性值分别为526.6MPa 和17.14MPa·m 1/2。 展开更多
关键词 热压烧结 CF/sic复合材料 氮化铝 烧结助剂
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亚微米颗粒增强6061铝基复合材料的微塑变特性 被引量:15
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作者 武高辉 马森林 +1 位作者 赵永春 杨德庄 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期307-310,共4页
发现亚微米级Al2O3p/6061复合材料的微屈服抗力较高、组织稳定性好,其微屈服抗力与微望变符合Brown和Lukens提出的线性规律:通过与SiCp/6061和AlNp/6061的微屈服行为与组织的对比分析,认为增强体颗粒形状、尺寸以及基体中位错密... 发现亚微米级Al2O3p/6061复合材料的微屈服抗力较高、组织稳定性好,其微屈服抗力与微望变符合Brown和Lukens提出的线性规律:通过与SiCp/6061和AlNp/6061的微屈服行为与组织的对比分析,认为增强体颗粒形状、尺寸以及基体中位错密度、亚晶粒尺寸等因素直接影响微屈服抗力.亚微米级颗粒增强复合材料对尺寸稳定性要求来说,微观组织形态较合理,是较理想的精密仪表材料. 展开更多
关键词 颗粒增强 微塑变特性 铝基复合材料 亚微米级
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氮化铝基微波衰减材料的研究进展 被引量:14
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作者 石明 鲁燕萍 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期76-79,共4页
论述了氮化铝基微波衰减材料在微波电真空器件中的应用和发展趋势,介绍了国内外关于氮化铝基高损耗材料尤其是氮化铝-碳化硅复合材料的研究进展,结合笔者的研究和认识,指出了存在的问题和研究方向。
关键词 氮化铝 微波衰减 氮化铝-碳化硅
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蓝晶石原位合成氮化铝结合碳化硅复相材料 被引量:1
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作者 杨剑英 徐利华 +1 位作者 张冀 郝洪顺 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A02期491-494,共4页
以天然矿物蓝晶石为原料,通过碳热还原氮化法(CRN)原位合成AlN结合SiC复相材料。通过将不同配比的原料与石墨混合(根据成分比例设定为30%和35%),在氮气气氛下分别于1500、1550和1600℃下进行烧结,确定了最佳的烧制温度为1600℃。在最佳... 以天然矿物蓝晶石为原料,通过碳热还原氮化法(CRN)原位合成AlN结合SiC复相材料。通过将不同配比的原料与石墨混合(根据成分比例设定为30%和35%),在氮气气氛下分别于1500、1550和1600℃下进行烧结,确定了最佳的烧制温度为1600℃。在最佳烧结温度下进一步对比25%、30%和35%的不同石墨加入量的烧成结果。分别通过XRD和SEM对烧结后的样品进行物相分析和微观形貌表征,并分析样品中AlN和SiC的含量。结果表明,石墨还原剂的最佳添加量为25%。 展开更多
关键词 蓝晶石 原位合成 AlN结合sic
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Low ohmic contact AlN/GaN HEMTs grown by MOCVD
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作者 顾国栋 敦少博 +4 位作者 吕元杰 韩婷婷 徐鹏 尹甲运 冯志红 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第11期42-44,共3页
AlN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) on SiC substrates were fabricated by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) and then characterized. An Si/Ti/Al/Ni/Au stack was used to reduce ohmic conta... AlN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) on SiC substrates were fabricated by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) and then characterized. An Si/Ti/Al/Ni/Au stack was used to reduce ohmic contact resistance (0.33 g2.mm) at a low annealing temperature. The fabricated devices exhibited a maximum drain current density of 1.07 A/mm (Vows = I V) and a maximum peak extrinsic transconductance of 340 mS/mm. The off-state breakdown voltage of the device was 64 V with a gate-drain distance of 1.9 μm. The current gain extrinsic cutoff frequency fT and the maximum oscillation frequency fmax were 36 and 80 GHz with a 0.25 μm gate length, respectively. 展开更多
关键词 ain/GaN HEMT ohmic contact sic substrate MOCVD
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