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改变铝溅射材料解决电视机场功放电路中点电位漂移
1
作者
邱静君
宿田
《电子与封装》
2017年第9期44-48,共5页
集成电路芯片对器件参数的均匀性、稳定性要求很高。集成电路制造过程中由工艺异常引起的器件参数不均匀,直接影响着芯片性能和圆片良率。引起器件参数不均匀的原因千变万化,结合产品分析解决问题、保证芯片性能和工艺正常,是设计和产...
集成电路芯片对器件参数的均匀性、稳定性要求很高。集成电路制造过程中由工艺异常引起的器件参数不均匀,直接影响着芯片性能和圆片良率。引起器件参数不均匀的原因千变万化,结合产品分析解决问题、保证芯片性能和工艺正常,是设计和产品工程师经常面对的问题。通过一个产品实例,从失效现象、原因分析、实验室分析佐证、设计改进方案到试验结果,介绍了通过改变铝溅射材料减小基区孔接触电阻、改善接触电阻均匀性,解决电视机场功放电路由于工艺问题导致的基区孔接触电阻不均匀、引起中点电位漂移的方法。
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关键词
铝溅射
铝硅铜
铝铜
基区接触电阻
硅空洞
铝欠缺
中点电位
均匀性
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职称材料
题名
改变铝溅射材料解决电视机场功放电路中点电位漂移
1
作者
邱静君
宿田
机构
无锡华润矽科微电子有限公司
出处
《电子与封装》
2017年第9期44-48,共5页
文摘
集成电路芯片对器件参数的均匀性、稳定性要求很高。集成电路制造过程中由工艺异常引起的器件参数不均匀,直接影响着芯片性能和圆片良率。引起器件参数不均匀的原因千变万化,结合产品分析解决问题、保证芯片性能和工艺正常,是设计和产品工程师经常面对的问题。通过一个产品实例,从失效现象、原因分析、实验室分析佐证、设计改进方案到试验结果,介绍了通过改变铝溅射材料减小基区孔接触电阻、改善接触电阻均匀性,解决电视机场功放电路由于工艺问题导致的基区孔接触电阻不均匀、引起中点电位漂移的方法。
关键词
铝溅射
铝硅铜
铝铜
基区接触电阻
硅空洞
铝欠缺
中点电位
均匀性
Keywords
Aluminum sputtering
aisicu
AlCu
base contact resistance
silicon cavity
Aluminum deficiency
midpoint potential
tmiformity
分类号
TN406 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
改变铝溅射材料解决电视机场功放电路中点电位漂移
邱静君
宿田
《电子与封装》
2017
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