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AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺
被引量:
2
1
作者
邢栗
汪明波
《电子工业专用设备》
2011年第12期43-46,共4页
对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别...
对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性的光刻胶流量和浓度;实验得到的膜厚和均匀性可以满足图形复杂、有深孔的晶圆。结尾列出了喷雾式涂胶在实际中的一些应用。这些结果证明喷雾式涂胶存在的潜力以及美好前景。
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关键词
喷雾式涂胶机
AZ4620光刻胶
膜厚
均匀性
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职称材料
题名
AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺
被引量:
2
1
作者
邢栗
汪明波
机构
沈阳芯源微电子设备有限公司
出处
《电子工业专用设备》
2011年第12期43-46,共4页
文摘
对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性的光刻胶流量和浓度;实验得到的膜厚和均匀性可以满足图形复杂、有深孔的晶圆。结尾列出了喷雾式涂胶在实际中的一些应用。这些结果证明喷雾式涂胶存在的潜力以及美好前景。
关键词
喷雾式涂胶机
AZ4620光刻胶
膜厚
均匀性
Keywords
Spray coating
az4562 photoresist
Thickness
Uniformity
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺
邢栗
汪明波
《电子工业专用设备》
2011
2
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