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调制周期数对Mo/AZO成分调制多层膜透光、反光特性以及电性能的影响
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作者 张邵奇 吴隽 +3 位作者 王凯丰 宋坤峰 卢志红 祝柏林 《武汉科技大学学报》 CAS 北大核心 2024年第2期107-113,共7页
采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,M... 采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,Mo除单质态外,还存在部分+4和+5的离子价态,当薄膜厚度降至0.83 nm时,已无单质态Mo;调制周期数对成分调制多层膜的透光、反光特性以及电性能影响显著,当调制周期数为3时,Mo/AZO成分调制多层膜的综合性能达到最佳,电阻率、霍尔迁移率和载流子浓度分别为8.64×10^(-4)Ω·cm、8.78 cm^2)/(V·s)和8.23×10^(20)cm^(-3)。在保持金属层、半导体层总厚度不变的情况下,通过改变调制周期数可以增加薄膜的光学透过率并可在较宽范围内调节多层膜的综合性能,这为制备综合性能优异的金属/半导体型透光导电薄膜提供了一条切实可行的途径。 展开更多
关键词 磁控溅射 Mo/azo多层膜 调制周期 光性能 电性能
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Influence of Zr(50)Cu(50) thin film metallic glass as buffer layer on the structural and optoelectrical properties of AZO films
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作者 张宝庆 刘高鹏 +4 位作者 宗海涛 付丽歌 魏志飞 杨晓炜 曹国华 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期361-368,共8页
Aluminum-doped ZnO(AZO) thin films with thin film metallic glass of Zr(50)Cu(50) as buffer are prepared on glass substrates by the pulsed laser deposition. The influence of buffer thickness and substrate temperature o... Aluminum-doped ZnO(AZO) thin films with thin film metallic glass of Zr(50)Cu(50) as buffer are prepared on glass substrates by the pulsed laser deposition. The influence of buffer thickness and substrate temperature on structural, optical, and electrical properties of AZO thin film are investigated. Increasing the thickness of buffer layer and substrate temperature can both promote the transformation of AZO from amorphous to crystalline structure, while they show(100)and(002) unique preferential orientations, respectively. After inserting Zr(50)Cu(50) layer between the glass substrate and AZO film, the sheet resistance and visible transmittance decrease, but the infrared transmittance increases. With substrate temperature increasing from 25℃ to 520℃, the sheet resistance of AZO(100 nm)/Zr(50)Cu(50)(4 nm) film first increases and then decreases, and the infrared transmittance is improved. The AZO(100 nm)/Zr(50)Cu(50)(4 nm) film deposited at a substrate temperature of 360℃ exhibits a low sheet resistance of 26.7 ?/, high transmittance of 82.1% in the visible light region, 81.6% in near-infrared region, and low surface roughness of 0.85 nm, which are useful properties for their potential applications in tandem solar cell and infrared technology. 展开更多
关键词 aluminum-doped ZnO(azo) Zr(50)Cu(50) thin film metallic glass optoelectrical properties morphology
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磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究 被引量:15
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作者 张丽伟 卢景霄 +5 位作者 段启亮 王海燕 李瑞 靳锐敏 王红娟 张宇翔 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第8期46-48,共3页
用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响。结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄... 用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响。结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄膜电阻越小,超过400℃后,真空中退火温度再升高电阻变化不大,而空气中退火温度再升高电阻反而变大。 展开更多
关键词 无机非金属材料 azo薄膜 磁控溅射法 制备气氛 退火温度
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衬底温度对AZO/Cu/AZO多层薄膜结构及光电特性的影响 被引量:4
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作者 杨田林 张之圣 +4 位作者 宋淑梅 李延辉 吕茂水 韩圣浩 庞智勇 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期1209-1213,共5页
采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的AZO/Cu/AZO多层薄膜。研究了衬底温度对薄膜的结构和光电特性影响。X射线衍射谱表明AZO/Cu/AZO多层薄膜是多晶膜,AZO层具有六角纤锌矿结... 采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的AZO/Cu/AZO多层薄膜。研究了衬底温度对薄膜的结构和光电特性影响。X射线衍射谱表明AZO/Cu/AZO多层薄膜是多晶膜,AZO层具有六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向,Cu层具有立方结构。当三层薄膜制备过程中,衬底始终加热,衬底温度为100℃时,制备的薄膜具有最高的品质因子2.26×10^(-2)Ω^(-1),其方块电阻为11Ω·□^(-1),在波长500~800nm范围内平均透过率达到了87%。当制备靠近衬底的AZO层,衬底才加热时,发现衬底温度为250℃时,制备的多层薄膜光电特性最优,其方块电阻为8Ω·□^(-1),平均透过率为86%。 展开更多
关键词 azo 多层薄膜 离子束溅射 透明导电膜
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AZO透明导电薄膜的结构与光电性能 被引量:8
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作者 李金丽 邓宏 刘财坤 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期43-45,共3页
采用射频溅射工艺制备了Zn1-xAlxO透明导电薄膜。通过XRD、UV透射和电学性能测试等分析手段,研究了Al浓度对薄膜的组织结构和光电性能的影响规律。结果表明:薄膜具有c轴择优取向,随着Al浓度的增加,(002)衍射峰向高角度移动,峰强度逐渐减... 采用射频溅射工艺制备了Zn1-xAlxO透明导电薄膜。通过XRD、UV透射和电学性能测试等分析手段,研究了Al浓度对薄膜的组织结构和光电性能的影响规律。结果表明:薄膜具有c轴择优取向,随着Al浓度的增加,(002)衍射峰向高角度移动,峰强度逐渐减弱,x(Al)为15%掺杂极限浓度。x(Al)为2%时,薄膜电阻率是3.4×10–4Ω.cm。随着掺杂量x(Al)从0增加到20%,薄膜的禁带宽度从3.34 eV增加到4.0 eV。 展开更多
关键词 无机非金属材料 azo薄膜 组织结构 光电性能
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AZO透明导电薄膜光电性能的研究进展 被引量:1
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作者 张程 代明江 +1 位作者 石倩 代建清 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2016年第1期228-234,共7页
掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光学与... 掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光学与电学性能的研究进展,讨论了各制备工艺条件对薄膜性能的影响,分析了AZO/metal/AZO多层膜的研究现状,并对AZO薄膜的研究方向给予了展望。 展开更多
关键词 azo薄膜 磁控溅射 光电性能 azo/metal/azo多层膜
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粉末靶磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的特性 被引量:1
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作者 刘思宁 周艳文 +1 位作者 吴川 吴法宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第12期937-943,共7页
室温下采用射频磁控溅射粉末靶,在玻璃基底上制备了掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(AZO/Ag/AZO)三层透明导电薄膜。通过优化中间银层厚度,优化了三层透明导电薄膜的光电性能。采用原子力显微镜和X射线衍射仪分别对薄膜的形貌和结构进行检测分... 室温下采用射频磁控溅射粉末靶,在玻璃基底上制备了掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(AZO/Ag/AZO)三层透明导电薄膜。通过优化中间银层厚度,优化了三层透明导电薄膜的光电性能。采用原子力显微镜和X射线衍射仪分别对薄膜的形貌和结构进行检测分析;采用紫外可见分光光度计和霍尔效应仪分别对薄膜的光电性能进行检测分析。结果表明,所制备的三层膜表面平整,颗粒大小错落均称;三层膜呈现多晶结构,AZO层薄膜具有(002)择优取向的六方纤锌矿结构,Ag层薄膜具有(111)择优取向的立方结构;当三层薄膜为AZO(20 nm)/Ag(12 nm)/AZO(20 nm)时,在550 nm处的透光率为88%,方块电阻为4.3Ω/□,电阻率为2.2×10^(-5)Ω·cm,载流子浓度为2.8×1022/cm^3,迁移率为10 cm^2/(V·s),品质因子为3.5×10-2Ω^(-1)。 展开更多
关键词 azo/Ag/azo 多层透明导电薄膜 六方纤锌矿结构 粉末靶 射频磁控溅射
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中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺
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作者 齐玉明 梅冰 杨光 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期62-64,共3页
以锌铝合金为靶材,采用工业生产设备,用中频交流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,研究了氩氧比、退火温度、退火时间对薄膜结构、光学和电学性能的影响。结果表明,氩气和氧气体积流量比为3:1时常温下得到... 以锌铝合金为靶材,采用工业生产设备,用中频交流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,研究了氩氧比、退火温度、退火时间对薄膜结构、光学和电学性能的影响。结果表明,氩气和氧气体积流量比为3:1时常温下得到薄膜的方阻值最低,400℃真空退火1 h后薄膜可见光平均透过率由84.0%上升到86.7%,方阻值由5 000Ω/□下降到108Ω/□。 展开更多
关键词 无机非金属材料 中频磁控溅射 azo薄膜 退火
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基于AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的染料敏化太阳电池研究
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作者 李俊泓 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期777-780,共4页
采用化学气相沉积和直流溅射沉积方法成功制备了与基体附着力高的不同Pt厚度的Pt/碳纳米管(CNT)膜层。通过扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)分别对薄膜厚度和表面形貌以及膜层中Pt的含量进行了研究;通过电化学阻抗谱和循环伏安曲线... 采用化学气相沉积和直流溅射沉积方法成功制备了与基体附着力高的不同Pt厚度的Pt/碳纳米管(CNT)膜层。通过扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)分别对薄膜厚度和表面形貌以及膜层中Pt的含量进行了研究;通过电化学阻抗谱和循环伏安曲线分别对Pt和Pt/CNT对电极的光电催化性进行了研究。结果表明:CNT与基体具有良好的接触性,并且随Pt沉积时间的增加,Pt在CNT薄膜中的含量增加,染料敏化太阳电池(DSSC)的光电转化效率随Pt厚度的增加而增加;与单纯的Pt对电极相比,Pt/CNT对电极具有更高的活性比表面,更低的电子迁移电阻以及更高的还原电流密度;以Pt(80 nm)/CNT为对电极的DSSC具有最高的光电转化效率8.54%;另外,与Pt(80 nm)对电极相比,以Pt(40 nm)/CNT为对电极制备的DSSC具有更高的光电转化效率,因此,该新型对电极结构可大大节省贵金属Pt的用量,在DSSC的应用中具有很大的潜力。 展开更多
关键词 染料敏化太阳电池 铝掺杂氧化锌(azo)/银/azo多层膜 铌掺杂二氧化钛阻挡膜 Pt/CNT对电极
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掺杂金属卟啉的TiO_2薄膜对活性艳红X-3B染料的光催化降解性能 被引量:3
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作者 许艳 安庆大 +2 位作者 张秀芳 孙衍宁 张祯成 《大连轻工业学院学报》 2005年第2期84-87,共4页
采用溶胶凝胶的方法,将具有高光敏性的四(对羟基)苯基锌卟啉(ZnTHPP,下简称锌卟啉)在钛酸丁酯[Ti(OBu)4]水解的条件下均匀嵌入到了TiO2无机网络中,又采用旋涂法制备了ZnTHPP/TiO2复合薄膜。利用UV Vis吸收光谱对薄膜的紫外可见光吸收性... 采用溶胶凝胶的方法,将具有高光敏性的四(对羟基)苯基锌卟啉(ZnTHPP,下简称锌卟啉)在钛酸丁酯[Ti(OBu)4]水解的条件下均匀嵌入到了TiO2无机网络中,又采用旋涂法制备了ZnTHPP/TiO2复合薄膜。利用UV Vis吸收光谱对薄膜的紫外可见光吸收性质进行了研究,结果表明锌卟啉的加入能有效的拓宽TiO2的可见光吸收范围。通过光催化降解活性艳红X 3B染料实验,对所制备的ZnTHPP/TiO2复合薄膜的光催化活性进行了考察,研究发现以ZnTHPP/TiO2作为光催化剂对活性艳红X 3B染料能有效的降解,表现出了较好的可见光催化活性。 展开更多
关键词 活性艳红X-3B 光催化降解性能 TiO2薄膜 染料 金属卟啉 UV-Vis吸收光谱 光催化活性 掺杂 复合薄膜 可见光吸收 锌卟啉 钛酸丁酯 吸收性质 光催化剂 光敏性 旋涂法 制备 溶胶 凝胶 苯基 无机
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一种侧链含偶氮基团共聚物的合成及其多层膜的制备与表征
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作者 郑雪琳 翁家宝 +2 位作者 吕习周 孟东利 黄志彬 《合成化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期45-48,68,共5页
环氧氯丙烷与4,4′-二羟基偶氮苯(AZO)经缩聚反应合成了预聚物DGAZO(聚4,4′-二缩水甘油醚偶氮苯);DGAZO通过开环加成反应与PEI(枝化聚乙烯亚胺)连接制得侧链含偶氮基团的共聚物DGAZO-co-PEI(聚4,4′-二缩水甘油醚偶氮苯-co-聚乙烯亚胺)... 环氧氯丙烷与4,4′-二羟基偶氮苯(AZO)经缩聚反应合成了预聚物DGAZO(聚4,4′-二缩水甘油醚偶氮苯);DGAZO通过开环加成反应与PEI(枝化聚乙烯亚胺)连接制得侧链含偶氮基团的共聚物DGAZO-co-PEI(聚4,4′-二缩水甘油醚偶氮苯-co-聚乙烯亚胺),其结构经UV,IR和荧光光谱表征。DGAZOc-o-PEI具有良好的光致发光性能,在615 nm处有明显的荧光发射峰。采用层层自组装法,通过石英基片在DGAZO苯溶液与PEI甲醇溶液中交替沉积构筑(DGAZO/PEI)n多层膜(Fn)。利用UV和原子力显微镜对Fn构筑过程与表面形貌进行了研究,结果显示,F7表面平整、光滑。 展开更多
关键词 偶氮侧链 乙烯亚胺 共聚物 合成 多层膜
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退火氧分压对AZO薄膜的透光和导电性能的影响 被引量:1
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作者 王艳雪 李瑞武 +3 位作者 范巍 郭媛媛 周艳文 吴法宇 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期861-866,共6页
在室温下采用射频磁控溅射粉末靶在玻璃基底上制备掺铝氧化锌(AZO)薄膜,采用扫描电镜、X射线衍射仪、紫外可见分光光度计和霍尔效应仪等手段表征和分析了薄膜的微观结构和光电性能,研究了退火氧分压对薄膜光电性能的影响。结果表明:退... 在室温下采用射频磁控溅射粉末靶在玻璃基底上制备掺铝氧化锌(AZO)薄膜,采用扫描电镜、X射线衍射仪、紫外可见分光光度计和霍尔效应仪等手段表征和分析了薄膜的微观结构和光电性能,研究了退火氧分压对薄膜光电性能的影响。结果表明:退火后的AZO薄膜仍具有c轴择优取向的六方纤锌矿结构,薄膜的表面致密光滑;随着退火氧分压的降低AZO薄膜光学带隙变窄、透光率有所降低,但是其值均高于80%;随着退火氧分压的降低载流子浓度显著升高,电导特性明显改善,电阻率最低达到2.1×10^(-3)Ω·cm。 展开更多
关键词 无机非金属材料 掺铝氧化锌薄膜 磁控溅射 氧分压 电学性能 光学性能
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Photocatalytic degradation of methyl orange by nano-TiO_2 thin films prepared by RF magnetron sputtering 被引量:3
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作者 孟凡明 曹铃 +1 位作者 宋学萍 孙兆奇 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第10期956-959,共4页
Nano-TiO2 thin films are deposited by radio frequency (RF) magnetron sputtering using TiO2 ceramic target and characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscope, and ultraviolet-visible spectrophotometer... Nano-TiO2 thin films are deposited by radio frequency (RF) magnetron sputtering using TiO2 ceramic target and characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscope, and ultraviolet-visible spectrophotometer. The photocatalytic activity is evaluated by light-induced degradation of methyl orange solutions (5, 10, and 20 ppm) using a high pressure mercury lamp as the light source. The film is amorphous, and its energy gap is 3.02 eV. The photocatalytic degradation of methyl orange solution is the first-order reaction and the apparent reaction rate constants are 0.00369, 0.0024, and 0.00151 for the methyl orange solution concentrations of 5, 10, and 20 ppm, respectively. 展开更多
关键词 Amorphous films? ?azo dyes? ?Degradation? ?Light? ?Light sources? ?Magnetron sputtering? ?Magnetrons? ?Mercury (metal)? ?Organic polymers? ?Photocatalysis ? ?Rate constants? ?Thin films
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偶氮金属螯合物薄膜的光学常数和吸收光谱 被引量:5
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作者 魏斌 吴谊群 +1 位作者 顾冬红 干福熹 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期739-742,共4页
偶氮金属螯合物薄膜是一类新型光信息存储和光学非线性材料。通过旋涂法在单晶硅上制备了三种新型偶氮染料 :2 (4 甲基 2 噻唑基偶氮 ) 5 二乙基胺苯酚 (MTADP)掺杂聚合物 ,MTADP的镍螯合物 (Ni MTADP)和锌螯合物 (Zn MTADP)薄膜... 偶氮金属螯合物薄膜是一类新型光信息存储和光学非线性材料。通过旋涂法在单晶硅上制备了三种新型偶氮染料 :2 (4 甲基 2 噻唑基偶氮 ) 5 二乙基胺苯酚 (MTADP)掺杂聚合物 ,MTADP的镍螯合物 (Ni MTADP)和锌螯合物 (Zn MTADP)薄膜。利用宽谱扫描全自动椭圆偏振光谱仪测定了上述薄膜的椭偏光谱 ,获得了三种薄膜在 4 0 0~ 70 0nm波段的复折射率、复介电常量和吸收系数。两种金属螯合物薄膜的共振波长比非螯合物薄膜红移了 6 0~70nm ;光学常数和吸收系数在峰值的数值也发生了明显的变化。由于这两种螯合物具有不同的立体结构 ,Ni MTADP薄膜的共振波长比Zn MTADP有 10nm的红移。 展开更多
关键词 光学薄膜 偶氮金属螯合物薄膜 光学常数 吸收系数 复折射率
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