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Identifying the enhancement mechanism of Al/MoO_(3) reactive multilayered films on the ignition ability of semiconductor bridge using a one-dimensional gas-solid two-phase flow model
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作者 Jianbing Xu Yuxuan Zhou +3 位作者 Yun Shen Yueting Wang Yinghua Ye Ruiqi Shen 《Defence Technology(防务技术)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期168-179,共12页
Energetic Semiconductor bridge(ESCB)based on reactive multilayered films(RMFs)has a promising application in the miniature and intelligence of initiator and pyrotechnics device.Understanding the ignition enhancement m... Energetic Semiconductor bridge(ESCB)based on reactive multilayered films(RMFs)has a promising application in the miniature and intelligence of initiator and pyrotechnics device.Understanding the ignition enhancement mechanism of RMFs on semiconductor bridge(SCB)during the ignition process is crucial for the engineering and practical application of advanced initiator and pyrotechnics devices.In this study,a one-dimensional(1D)gas-solid two-phase flow ignition model was established to study the ignition process of ESCB to charge particles based on the reactivity of Al/MoO_(3) RMFs.In order to fully consider the coupled exothermic between the RMFs and the SCB plasma during the ignition process,the heat release of chemical reaction in RMFs was used as an internal heat source in this model.It is found that the exothermal reaction in RMFs improved the ignition performance of SCB.In the process of plasma rapid condensation with heat release,the product of RMFs enhanced the heat transfer process between the gas phase and the solid charge particle,which accelerated the expansion of hot plasma,and heated the solid charge particle as well as gas phase region with low temperature.In addition,it made up for pressure loss in the gas phase.During the plasma dissipation process,the exothermal chemical reaction in RMFs acted as the main heating source to heat the charge particle,making the surface temperature of the charge particle,gas pressure,and gas temperature rise continuously.This result may yield significant advantages in providing a universal ignition model for miniaturized ignition devices. 展开更多
关键词 Ignition enhancement mechanism 1D gas-solid two-phase flow al/MoO_(3)reactive multilayered films Semiconductor bridge Miniaturized ignition device
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Properties of multilayer gallium and aluminum doped ZnO(GZO/AZO) transparent thin films deposited by pulsed laser deposition process 被引量:1
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作者 Jin-Hyun SHIN Dong-Kyun SHIN +1 位作者 Hee-Young LEE Jai-Yeoul LEE 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第A01期96-99,共4页
Multilayer gallium and aluminum doped ZnO (GZO/AZO) films were fabricated by alternative deposition of Ga-doped zinc oxide(GZO) and Al-doped zinc oxide(AZO) thin film by using pulsed laser deposition(PLD) process. The... Multilayer gallium and aluminum doped ZnO (GZO/AZO) films were fabricated by alternative deposition of Ga-doped zinc oxide(GZO) and Al-doped zinc oxide(AZO) thin film by using pulsed laser deposition(PLD) process. The electrical and optical properties of these GZO/AZO thin films were investigated and compared with those of GZO and AZO thin films. The GZO/AZO (1:1) thin film deposited at 400 °C shows the electrical resistivity of 4.18×10-4 Ω·cm, an electron concentration of 7.5×1020 /cm3, and carrier mobility of 25.4 cm2/(V·s). The optical transmittances of GZO/AZO thin films are over 85%. The optical band gap energy of GZO/AZO thin films linearly decreases with increasing the Al ratio. 展开更多
关键词 AZO薄膜 脉冲激光沉积 沉积过程 透明薄膜 氧化锌 铝掺杂 性能 载流子迁移率
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电泳沉积PVDF/Al/CuO复合含能薄膜及其燃烧性能研究
3
作者 胡祥 王宇 +3 位作者 王玉滢 齐梦迪 马自力 尹艳君 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期30-35,共6页
基于含氟聚合物的强氧化及含氟量高的特性,以聚偏二氟乙烯(PVDF)为代表,通过电泳技术,采用石胆酸(LCA)作为表面活性剂,制备了PVDF/Al/CuO有机/无机杂化含能薄膜,并对其组分、结构、形貌及含能特性进行了系统的表征。结果表明:PVDF电泳... 基于含氟聚合物的强氧化及含氟量高的特性,以聚偏二氟乙烯(PVDF)为代表,通过电泳技术,采用石胆酸(LCA)作为表面活性剂,制备了PVDF/Al/CuO有机/无机杂化含能薄膜,并对其组分、结构、形貌及含能特性进行了系统的表征。结果表明:PVDF电泳沉积过程中石胆酸的最佳添加剂量为3mL(1wt%);当PVDF添加量为2wt%时,PVDF/Al/CuO复合薄膜的燃烧性能最好,热释放能量达3924J/g,远远高于Al/CuO的热释放能量。产生上述实验结果的主要原因是PVDF本身具有氧化特性,能够与铝发生化学反应,释放热量;此外,PVDF热分解产生的氟能够腐蚀铝表面的钝化膜,进而释放活性铝,极大提升了Al/CuO体系的能量释放效果。 展开更多
关键词 电泳沉积 PVDF/al/cuo含能薄膜 燃烧现象
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介电式Al/CuO复合薄膜点火桥的电爆性能 被引量:8
4
作者 朱朋 周翔 +2 位作者 沈瑞琪 叶迎华 胡艳 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期366-369,共4页
提出了"介电式复合薄膜点火桥"的概念,并以Al膜作电极,CuO膜作电介质层,用微细加工技术制备了介电式Al/CuO复合薄膜点火桥样品,尺寸为2000μm×2000μm×2.6μm,电阻值约4Ω。用60 V以上恒压源可激发点火桥发生电爆炸,电爆过... 提出了"介电式复合薄膜点火桥"的概念,并以Al膜作电极,CuO膜作电介质层,用微细加工技术制备了介电式Al/CuO复合薄膜点火桥样品,尺寸为2000μm×2000μm×2.6μm,电阻值约4Ω。用60 V以上恒压源可激发点火桥发生电爆炸,电爆过程中Al/CuO复合薄膜发生了氧化还原反应,生成的单质Cu使点火桥产生了延迟放电效应。用原子发射光谱双谱线法测试了60 V和80 V激发时点火桥的电爆炸温度和持续时间。60 V激发时点火桥电爆炸温度主要分布在2500~3500 K,持续时间约0.35 ms;80 V激发时点火桥电爆炸温度主要分布在3500~4000 K,持续时间约0.55 ms。 展开更多
关键词 军事化学与烟火技术 介电式 al/cuo复合薄膜 点火桥 电爆性能
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多晶硅与Al/CuO复合薄膜集成的含能点火器件的点火性能 被引量:6
5
作者 李勇 王军 +2 位作者 高泽志 周彬 沈瑞琪 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期182-187,共6页
为研究多晶硅桥型与尺寸对Al/Cu O含能点火器件点火性能的影响规律,用多晶硅和Al/Cu O复合薄膜集成制备了6种不同形状和尺寸的含能点火器件,采用尼亚D-最优感度试验法测试了四种尺寸、两种桥形共6种类型(S、M、Lr、Lv、Hr、Hv)点火器件... 为研究多晶硅桥型与尺寸对Al/Cu O含能点火器件点火性能的影响规律,用多晶硅和Al/Cu O复合薄膜集成制备了6种不同形状和尺寸的含能点火器件,采用尼亚D-最优感度试验法测试了四种尺寸、两种桥形共6种类型(S、M、Lr、Lv、Hr、Hv)点火器件的点火感度。探索了临界爆发电压,得到了点火时间随激励电压的变化规律。采用感度实验和点火实验对比研究了多晶硅点火器件和含能点火器件的点火性能。结果表明,含能点火器件的感度与点火时间随桥膜体积的增大而减小。V形桥膜有助于降低作用时间与作用所需能量。Lv型含能点火器件感度为8.19 V,标准偏差0.14,均低于Lv型多晶硅点火器件(8.70 V、0.53)。Lv型含能点火器件14 V时的点火时间(52.85μs)比多晶硅点火器件点火时间(109.12μs)短,且该差值随激励能量升高而降低。 展开更多
关键词 点火器件 含能复合薄膜 al/cuo 多晶硅 点火性能
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基于Al/CuO_x复合薄膜半导体桥间隙点火性能研究 被引量:4
6
作者 倪德彬 于国强 +4 位作者 史胜楠 徐栋 陈利魁 朱雅红 王培勇 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期149-154,86,共7页
为了提升半导体桥(SCB)的点火能力,尤其是点燃钝感药剂的能力,采用磁控溅射技术将Al/CuO_x复合薄膜与半导体桥相融合,形成含能点火器件,并研究了该含能点火器件的发火感度和点火能力。采用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)、X-... 为了提升半导体桥(SCB)的点火能力,尤其是点燃钝感药剂的能力,采用磁控溅射技术将Al/CuO_x复合薄膜与半导体桥相融合,形成含能点火器件,并研究了该含能点火器件的发火感度和点火能力。采用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)、X-射线衍射仪(XRD)研究了Al/CuO_x复合薄膜的微观形貌和组成。结果表明,在溅射过程中氧化铜薄膜主要以黑铜矿(Cu_2^(1+)Cu_2~1+O_3)形式存在;复合薄膜中Al、Cu、O三种元素质量分数分别为28.8%,32.5%和38.7%,且Al与Cu原子比例接近于理论比1:1;差示扫描量热仪(DSC)显示Al/CuO_x复合薄膜放热量约为2175.4J·g^(-1);高速摄影技术测试Al/CuO_x复合薄膜的燃烧速率约为3.0m·s^(-1);兰利法测得该含能点火器件50%发火电压为8.45 V,99.9%发火电压为12.39 V。点火能力实验表明,在点火间隙为4 mm时,该含能器件能够点燃钝感点火药硼-硝酸钾(B/KNO_3)药片,显著提升了半导体桥的点火能力。 展开更多
关键词 al/cuox 复合薄膜 半导体桥(SCB) 间隙点火
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纳米Al/CuO含能复合薄膜的反应性研究进展 被引量:3
7
作者 史安然 鲍立荣 +3 位作者 张伟 陈芷怡 沈瑞琪 叶迎华 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期262-275,共14页
亚稳态分子间复合物(Metastable Intermolecular Composites,MICs)具有超高的反应速率、高体积能量密度、微米级的临界反应传播尺寸等优点,在微型含能器件和火箭推进剂等领域展现出广阔的应用前景。纳米Al/CuO含能复合薄膜是当前亚稳态... 亚稳态分子间复合物(Metastable Intermolecular Composites,MICs)具有超高的反应速率、高体积能量密度、微米级的临界反应传播尺寸等优点,在微型含能器件和火箭推进剂等领域展现出广阔的应用前景。纳米Al/CuO含能复合薄膜是当前亚稳态分子间复合物领域的研究热点之一,其利用气相沉积方法进行制备,与含能微机电系统(Microelectromechanical Systems,MEMS)的微细加工工艺兼容,在集成化含能器件方面具有极大的应用前景。本文综述了纳米Al/CuO含能复合薄膜的制备、热性能、燃烧性能、反应动力学以及过渡层对其反应性的影响、含能器件(点火器)及其应用技术方面的研究,并对纳米Al/CuO含能复合薄膜的发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 纳米al/cuo含能复合薄膜 反应性 含能器件 研究进展
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Al/CuO复合半导体桥静电安全性研究
8
作者 王榴 刘虎 +1 位作者 周彬 李勇 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期6-9,共4页
为了研究Al/CuO复合半导体桥(简称Al/CuO-SCB)的静电安全性,分别对不同桥型的Al/CuO-SCB进行静电放电实验及研究。结果发现:在500pF、5kΩ、25kV静电放电条件下,不同桥型的Al/CuO-SCB均未发火;小尺寸的Al/CuO-SCB在相同静电作用下桥膜... 为了研究Al/CuO复合半导体桥(简称Al/CuO-SCB)的静电安全性,分别对不同桥型的Al/CuO-SCB进行静电放电实验及研究。结果发现:在500pF、5kΩ、25kV静电放电条件下,不同桥型的Al/CuO-SCB均未发火;小尺寸的Al/CuO-SCB在相同静电作用下桥膜容易受到损伤,并且经过静电放电后的Al/CuO-SCB的爆发时间和爆发所需能量均没有发生显著性差异。比较Al/CuO-SCB和未加Al/CuO含能薄膜层的半导体桥静电实验结果,得出Al/CuO含能薄膜层没有影响半导体桥的静电安全性。 展开更多
关键词 半导体桥 al/cuo纳米复合薄膜 静电安全 电爆参数
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多层Al/Ni含能薄膜在电容放电激励下的能量释放特性和规律 被引量:4
9
作者 付帅 沈瑞琪 +2 位作者 朱朋 叶迎华 马宏玲 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期155-161,86,共8页
为了研究Al/Ni含能薄膜的能量释放特性和规律,采用微细加工方法制备了双"V"型夹角的Al/Ni含能薄膜换能元。研究了Al/Ni含能薄膜换能元在47μF固体钽电容放电激励下的能量释放特性和规律。电爆炸测试时,用自主研制的ALG-CN1储... 为了研究Al/Ni含能薄膜的能量释放特性和规律,采用微细加工方法制备了双"V"型夹角的Al/Ni含能薄膜换能元。研究了Al/Ni含能薄膜换能元在47μF固体钽电容放电激励下的能量释放特性和规律。电爆炸测试时,用自主研制的ALG-CN1储能放电起爆仪作激励电源。电容器用47μF固体钽电容,充电电压为10~45 V。用高速摄影仪(HG-100K)观察换能元的发火过程。用数字示波器(LeCroy44Xs,4通道)记录换能元发火时电流、电压随时间的变化曲线。结果表明,Al/Ni含能薄膜换能元在电容激励下的电爆过程按照电流变化率(dI/dt)可以分为三个阶段:回路寄生电感的储能,换能元的电爆炸及等离子体加热。与相同桥型的NiCr薄膜换能元比较,所制备的Al/Ni含能薄膜换能元具有输出能量高以及电爆后产生的火花飞溅距离长的特点。发火回路的寄生电感对于换能元的起爆具有重要作用。Al/Ni含能薄膜换能元电爆炸时的输出能量主要来源于两部分:电容的输入能量和含能薄膜释放的化学能。 展开更多
关键词 al/Ni含能薄膜 换能元 电爆性能 输出能量
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难混溶体系Al/Pb金属多层膜的Pb膜微观形貌和生长方式 被引量:3
10
作者 段林昆 孙勇 +1 位作者 郭中正 沈黎 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期14-17,共4页
用磁控溅射法在载玻片上镀制了难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜,考察了调制波长对Pb膜成膜的影响,借用Philip XL370型扫描电子显微镜研究了成膜质量、表面形貌及膜层断面结构形貌,并采用X射线观测了样品中Al、Pb相的存在形式和膜层结构... 用磁控溅射法在载玻片上镀制了难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜,考察了调制波长对Pb膜成膜的影响,借用Philip XL370型扫描电子显微镜研究了成膜质量、表面形貌及膜层断面结构形貌,并采用X射线观测了样品中Al、Pb相的存在形式和膜层结构变化。结果表明,当Pb膜达到一定厚度时,可得到均一、致密的难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜。探讨了膜的形成机理,给出了成核过程模型,并进一步修正了传统成膜机制。 展开更多
关键词 难混溶体系 al/Pb金属纳米多层膜 成膜质量 表面形貌
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PTFE/Al反应多层膜的制备及力学性能 被引量:2
11
作者 蒋小军 王军 +3 位作者 沈金朋 李瑞 杨光成 黄辉 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期365-370,共6页
以铝(Al)为可燃物质,聚四氟乙烯(PTFE)为氧化剂,利用射频磁控溅射法制备了不同厚度,交替沉积的PTFE/Al反应多层膜。采用原子力显微镜(AFM)、X-射线衍射仪(XRD)研究了溅射功率对薄膜表面形貌的影响规律,得到了PTFE/Al反应多层膜适宜的制... 以铝(Al)为可燃物质,聚四氟乙烯(PTFE)为氧化剂,利用射频磁控溅射法制备了不同厚度,交替沉积的PTFE/Al反应多层膜。采用原子力显微镜(AFM)、X-射线衍射仪(XRD)研究了溅射功率对薄膜表面形貌的影响规律,得到了PTFE/Al反应多层膜适宜的制备工艺,利用纳米压痕仪研究了PTFE/Al反应多层膜的力学性能。结果表明,当射频溅射功率分别为50 W和150 W时,制得的PTFE薄膜和Al薄膜的平均粗糙度与均方根粗糙度均较低。当PTFE/Al反应多层膜总厚度约为300 nm时,与相同厚度的纯PTFE膜和纯Al膜相比,PTFE/Al反应多层膜具有较高的硬度和弹性模量,分别为5.8 GPa和120.0 GPa。 展开更多
关键词 物理化学 聚四氟乙烯/铝(PTFE/al) 纳米反应多层膜 磁控溅射 力学性能
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nm Al粒子多层复合膜的电磁波散射特性 被引量:3
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作者 徐则川 罗永祥 +1 位作者 林更琪 李佐宜 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1997年第4期77-79,共3页
用射频溅射工艺制备了nmAl粒子的多层复合膜,通过控制Al粒子和AIN膜的生长时间,成功地控制了A1粒子的粒径和在复合膜中的纵向分布。用TEM暗场法并结合TV图像分析测得了AI粒子的粒径,并导出了粒径和生长时间的经验... 用射频溅射工艺制备了nmAl粒子的多层复合膜,通过控制Al粒子和AIN膜的生长时间,成功地控制了A1粒子的粒径和在复合膜中的纵向分布。用TEM暗场法并结合TV图像分析测得了AI粒子的粒径,并导出了粒径和生长时间的经验公式。nmAl粒子多层复合膜的电磁波散射特性与Al粒子的粒径、填充因子、凝聚程度及纵向分布有关。 展开更多
关键词 复合膜 电磁散射 多层膜 铝粒子
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中频磁控溅射周期性变电流(Ti,Al)N多层薄膜的结构与性能 被引量:2
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作者 罗庆洪 孙丽丽 +3 位作者 杨会生 王燕斌 陆永浩 于栋利 《现代科学仪器》 2008年第4期97-101,共5页
使用独特的镶拼矩形TiAl靶,用中频反应磁控溅射方法,采用周期性改变靶电流的方法在高速钢(W18C14V)基体上沉积了(Ti,Al)N多层薄膜。利用场发射扫描电镜、纳米硬度仪和X射线衍射仪等方法研究了(Ti,Al)N多层薄膜组织结构、硬度和膜基结合... 使用独特的镶拼矩形TiAl靶,用中频反应磁控溅射方法,采用周期性改变靶电流的方法在高速钢(W18C14V)基体上沉积了(Ti,Al)N多层薄膜。利用场发射扫描电镜、纳米硬度仪和X射线衍射仪等方法研究了(Ti,Al)N多层薄膜组织结构、硬度和膜基结合性能。结果表明,制备的(Ti,Al)N多层薄膜硬度略低于20GPa,弹性模量均大于230GPa,薄膜的临界载荷均大于50N;多层薄膜有一定的择优取向,且择优取向随着靶电流周期性的改变而有所变化。同时发现,(Ti,Al)N多层薄膜硬度是结构、界面和择优取向共同作用的结果。 展开更多
关键词 显微结构 中频反应磁控溅射 (Ti al)N多层薄膜
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Cu/Al浇铸界面连接及拉伸性能的分子动力学模拟 被引量:7
14
作者 钱相飞 郭巧能 +3 位作者 杨仕娥 王明星 刘强 王杰芳 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期2886-2900,共15页
基于分子动力学方法研究不同浇铸温度和浇铸时间对Cu/Al多层膜连接过程界面扩散的影响,从力学性能和位错滑移方面,对比研究不同浇铸时间和浇铸温度下Cu/Al多层膜的拉伸变形,揭示微观原子结构对金属薄膜力学性能的影响。结果表明:随着浇... 基于分子动力学方法研究不同浇铸温度和浇铸时间对Cu/Al多层膜连接过程界面扩散的影响,从力学性能和位错滑移方面,对比研究不同浇铸时间和浇铸温度下Cu/Al多层膜的拉伸变形,揭示微观原子结构对金属薄膜力学性能的影响。结果表明:随着浇铸温度和浇铸时间增加,界面区域的Cu、Al原子相互扩散数目增多,过渡层厚度增大,Cu/Al多层膜屈服强度和抗拉强度随浇铸时间增加先增加后降低,在浇铸温度为1013 K、浇铸时间为0.2 ns时,Cu/Al多层膜的力学性能最佳。 展开更多
关键词 分子动力学 浇铸 Cu/al多层膜 界面扩散
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不同调制比的Al/MoO_3含能半导体桥电爆特性研究 被引量:3
15
作者 太玉 许建兵 +2 位作者 叶迎华 沈瑞琪 吴立志 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期6-10,共5页
调制比是薄膜制备中体现材料化学计量比的重要参数,直接影响含能复合薄膜的反应性能。为了研究Al/MoO_3含能复合薄膜在半导体桥上复合的最佳调制比,采用磁控溅射工艺分别制备了3种调制比的Al/MoO_3含能复合薄膜和Al/MoO_3含能半导体桥... 调制比是薄膜制备中体现材料化学计量比的重要参数,直接影响含能复合薄膜的反应性能。为了研究Al/MoO_3含能复合薄膜在半导体桥上复合的最佳调制比,采用磁控溅射工艺分别制备了3种调制比的Al/MoO_3含能复合薄膜和Al/MoO_3含能半导体桥。研究了薄膜的形貌、热反应性能与Al/MoO_3含能半导体桥在不同充电电压下的电爆过程。结果表明适当调整调制比可以减小临界激发能量,缩短临界激发时间,提高含能半导体桥的燃烧时间。 展开更多
关键词 al/MoO3含能复合薄膜 半导体桥 调制比 电爆特性
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Al/Ni含能多层膜在Al2O3陶瓷/不锈钢焊接中的应用 被引量:1
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作者 林凤洁 代波 +2 位作者 任勇 张小伟 龙中敏 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期65-69,共5页
采用磁控溅射设备,生长AuSn合金做焊料层、Al/Ni含能多层膜做热量提供层,实现了不锈钢和Al2O3间的异质材料自蔓延高温扩散焊。利用SEM、XRD和DSC等测试手段表征AuSn合金和Al/Ni含能多层膜的微观形貌、相成分和放热量;用万能试验机测试... 采用磁控溅射设备,生长AuSn合金做焊料层、Al/Ni含能多层膜做热量提供层,实现了不锈钢和Al2O3间的异质材料自蔓延高温扩散焊。利用SEM、XRD和DSC等测试手段表征AuSn合金和Al/Ni含能多层膜的微观形貌、相成分和放热量;用万能试验机测试焊接接头的力学性能。结果表明,AuSn合金的质量比基本达到80∶20,而多层膜的层状结构清晰,反应热达到1 239 J/g。焊接实验结果表明,仅使用AuSn焊料时,剪切强度仅为46 MPa,在增加Al/Ni含能多层膜后,其剪切强度可达90 MPa,强度提高了约一倍。焊接接头的界面显微形貌和相结构研究表明,剪切强度的增强主要是Al/Ni多层膜提供了额外能量使得界面处的反应剧烈,陶瓷金属化层与中间层的反应加剧,形成了新的反应生成物。 展开更多
关键词 al/Ni含能多层膜 异质材料 自蔓延高温扩散焊
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Layer Thickness-Dependent Hardness and Strain Rate Sensitivity of Cu–Al/Al Nanostructured Multilayers
17
作者 Ya-Qiang Wang Zhao-Qi Hou +4 位作者 Jin-Yu Zhang Xiao-Qing Liang Gang Liu Guo-Jun Zhang Jun Sun 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第2期156-162,共7页
Cu-Al/Al nanostructured metallic multilayers with Al layer thickness hAl varying from 5 to 100 nm were prepared, and their mechanical properties and deformation behaviors were studied by nanoindentation testing. The r... Cu-Al/Al nanostructured metallic multilayers with Al layer thickness hAl varying from 5 to 100 nm were prepared, and their mechanical properties and deformation behaviors were studied by nanoindentation testing. The results showed that the hardness increased drastically with decreasing hAl down to about 20 nm, whereafter the hardness reached a plateau that approaches the hardness of the alloyed Cu-Al monolithic thin films. The strain rate sensitivity (SRS, m), however, decreased monotonically with reducing hAl. The layer thickness-dependent strengthening mechanisms were discussed, and it was revealed that the alloyed Cu-Al nanolayers dominated at hAl≤ 20 nm, while the crystalline Al nanolayers dominated at hAl 〉 20 nm. The plastic deformation was mainly related to the ductile Al nanolayers, which was responsible for the monotonic evolution of SRS with hAl. In addition, the hAFdependent hardness and SRS were quanti- tatively modeled in light of the strengthening mechanisms at different length scales. 展开更多
关键词 Nanostructured films Cu-al/al multilayers HARDNESS Strain rate sensitivity Layer thickness dependence
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铝-氧化铜复合薄膜化学反应性能 被引量:8
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作者 朱朋 沈瑞琪 +2 位作者 叶迎华 胡艳 黄道伍 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期427-430,共4页
用磁控溅射的方法制备了铝-氧化铜复合薄膜,采用差热分析(DSC)方法研究了其化学反应性能。研究结果表明:铝-氧化铜复合薄膜在一定的条件下,可以发生氧化还原反应,化学反应热为ΔH=-1197.5kJ.mol-1,与标准状态下的ΔH0=-1203.8kJ.mol-1... 用磁控溅射的方法制备了铝-氧化铜复合薄膜,采用差热分析(DSC)方法研究了其化学反应性能。研究结果表明:铝-氧化铜复合薄膜在一定的条件下,可以发生氧化还原反应,化学反应热为ΔH=-1197.5kJ.mol-1,与标准状态下的ΔH0=-1203.8kJ.mol-1十分接近。用Kissinger方法计算了第二步反应的活化能为565.146kJ.mol-1,说明在无外界刺激的情况下,薄膜材料可以稳定存在。理论推导出,反应可以达到的最高温度是2573℃(即铜的沸点),薄膜间的化学反应分两步进行。 展开更多
关键词 军事化学与烟火技术 al/cuo复合薄膜 热分析 化学反应性能
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铝-氧化铜可反应性桥膜的制备及表征 被引量:8
19
作者 胡艳 叶迎华 +1 位作者 沈瑞琪 董能发 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期339-342,共4页
采用磁控溅射技术在衬底基片上制备了Al-CuO复合桥膜。利用扫描电镜、X射线衍射对复合桥膜的微观形貌和晶相结构进行了表征。采用恒压电源对复合桥膜进行了通电点火实验,通过对比Al桥膜和Al-CuO复合桥膜的电流变化曲线、对桥膜点火后的... 采用磁控溅射技术在衬底基片上制备了Al-CuO复合桥膜。利用扫描电镜、X射线衍射对复合桥膜的微观形貌和晶相结构进行了表征。采用恒压电源对复合桥膜进行了通电点火实验,通过对比Al桥膜和Al-CuO复合桥膜的电流变化曲线、对桥膜点火后的晶相结构进行XRD分析、利用高速摄影仪观察复合桥膜的点火过程,从而对复合桥膜的化学反应性能进行了表征。结果表明,复合桥膜具有分层结构,Al膜和CuO膜皆由均匀、近似球状的纳米晶粒构成,Al-CuO复合桥膜在通电后发生了氧化还原反应。 展开更多
关键词 军事化学与烟火技术 al-cuo 复合桥膜 化学反应性
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基于AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的染料敏化太阳电池研究
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作者 李俊泓 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期777-780,共4页
采用化学气相沉积和直流溅射沉积方法成功制备了与基体附着力高的不同Pt厚度的Pt/碳纳米管(CNT)膜层。通过扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)分别对薄膜厚度和表面形貌以及膜层中Pt的含量进行了研究;通过电化学阻抗谱和循环伏安曲线... 采用化学气相沉积和直流溅射沉积方法成功制备了与基体附着力高的不同Pt厚度的Pt/碳纳米管(CNT)膜层。通过扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)分别对薄膜厚度和表面形貌以及膜层中Pt的含量进行了研究;通过电化学阻抗谱和循环伏安曲线分别对Pt和Pt/CNT对电极的光电催化性进行了研究。结果表明:CNT与基体具有良好的接触性,并且随Pt沉积时间的增加,Pt在CNT薄膜中的含量增加,染料敏化太阳电池(DSSC)的光电转化效率随Pt厚度的增加而增加;与单纯的Pt对电极相比,Pt/CNT对电极具有更高的活性比表面,更低的电子迁移电阻以及更高的还原电流密度;以Pt(80 nm)/CNT为对电极的DSSC具有最高的光电转化效率8.54%;另外,与Pt(80 nm)对电极相比,以Pt(40 nm)/CNT为对电极制备的DSSC具有更高的光电转化效率,因此,该新型对电极结构可大大节省贵金属Pt的用量,在DSSC的应用中具有很大的潜力。 展开更多
关键词 染料敏化太阳电池 铝掺杂氧化锌(AZO)/银/AZO多层膜 铌掺杂二氧化钛阻挡膜 Pt/CNT对电极
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