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均匀化前预处理对Al-Zn-Mg-Cu合金中含V相析出及再结晶的影响
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作者 郭占英 丛福官 +2 位作者 赵刚 X.-Grant Chen 田妮 《轻合金加工技术》 CAS 北大核心 2016年第3期24-30,42,共8页
用透射电子显微镜(TEM)及扫描电镜电子背散射(EBSD)技术,研究了均匀化前250℃~400℃的预处理对w(V)=0.11%的超高强Al-Zn-Mg-Cu合金中Al21V2弥散相析出行为及变形后再结晶抗力的影响,并计算了V在铝基体中的扩散常数和扩散距离。结... 用透射电子显微镜(TEM)及扫描电镜电子背散射(EBSD)技术,研究了均匀化前250℃~400℃的预处理对w(V)=0.11%的超高强Al-Zn-Mg-Cu合金中Al21V2弥散相析出行为及变形后再结晶抗力的影响,并计算了V在铝基体中的扩散常数和扩散距离。结果表明,铸锭均匀化处理过程形成Al21V2弥散相,并在晶界附近形成明显的无析出区,其宽度基本不受均匀化处理前预处理的影响;在普通均匀化处理前预处理能明显提高Al21V2弥散相的密度、减小其尺寸;在铝基体中,V在300℃及400℃的扩散常数分别为9.81×10-31m2/s、5.32×10-24m2/s。在300℃预处理合金能获得尺寸最小、密度最高的Al21V2弥散相,而且其热变形后再结晶抗力最大。 展开更多
关键词 超高强Al-Zn-Mg-Cu合金 均匀化 al21v2 弥散相 再结晶
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