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Study on AlSb Polycrystalline Films Prepared by Magnetron Sputtering
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作者 XU Fu WU Lili FENG Lianghuan ZHANG Jingquan LI Wei LI Bing LEI Zhi ZENG Guanggen 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2010年第1期53-56,61,共5页
AlSb polycrystalline thin films were prepared by magnetron sputtering with an improved geometric target, and their structural,electrical and optical properties were studied. The results of XRD measurements suggest tha... AlSb polycrystalline thin films were prepared by magnetron sputtering with an improved geometric target, and their structural,electrical and optical properties were studied. The results of XRD measurements suggest that the annealed AlSb thin films are Zinc-blende structure with the average size of about 23~31 nm, and the higher temperature promotes the crystallization of the films. The morphology obtained from the AFM measurements reveals that the surfaces of the films are smooth and the particles are uniform with the average size of about 50 nm. Hall Effect measurements show that AlSb films are p-type semiconductors and the test of temperature dependence of dark conductivity in vacuum indicates the conductivity activation energys are 0.05 eV at low temperature and 0.13 eV at a higher temperature. The optical bandgap for a typical AlSb film is 1.52eV, which is indicated from the optical absorption measurements. 展开更多
关键词 alsb polycrystalline films magnetron sputtering solar cell
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AlSb多晶薄膜的制备及其潮解性研究 被引量:2
2
作者 贺剑雄 武莉莉 +5 位作者 郑家贵 夏庚培 冯良桓 张静全 李卫 黎兵 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期173-176,共4页
采用磁控溅射法制备了Al-Sb多层薄膜,通过调节Al和Sb亚层厚度及层数改变原子配比,并在真空中退火。用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜、Hall测试及俄歇电子能谱仪研究了薄膜的结构和性能。结果表明,刚沉积的薄膜只有S... 采用磁控溅射法制备了Al-Sb多层薄膜,通过调节Al和Sb亚层厚度及层数改变原子配比,并在真空中退火。用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜、Hall测试及俄歇电子能谱仪研究了薄膜的结构和性能。结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,经500℃退火后化合为P型AlSb多晶薄膜,且沿(111)择优取向,退火温度超过600℃薄膜产生局部损伤。通过台阶仪显微摄像探头及俄歇深度剖图观察和分析了薄膜的潮解现象,提出了几种保护措施。 展开更多
关键词 alsb 薄膜 退火 磁控溅射法
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AlSb多晶薄膜材料的性能研究 被引量:7
3
作者 宋慧瑾 贺剑雄 +3 位作者 武莉莉 郑家贵 冯良桓 雷智 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期517-520,共4页
采用共蒸法制备了新型AlSb多晶薄膜.通过XRF、XRD、Hall测试及电导率温度关系等研究了AlSb多晶薄膜的组分、结构及性能.分析表明,刚沉积的AlSb薄膜为非晶相,在540℃以上退火转变为AlSb相,转变的程度取决于退火的温度及Al、Sb的原子配比... 采用共蒸法制备了新型AlSb多晶薄膜.通过XRF、XRD、Hall测试及电导率温度关系等研究了AlSb多晶薄膜的组分、结构及性能.分析表明,刚沉积的AlSb薄膜为非晶相,在540℃以上退火转变为AlSb相,转变的程度取决于退火的温度及Al、Sb的原子配比,其中NAl∶NSb为47.2∶52.8,580℃退火后的薄膜多晶转变最为明显,结晶度较高;测试结果表明,退火后的AlSb薄膜为p型间接带隙半导体,载流子浓度为1019cm-1,吸收系数为104,而且在升降温阶段电导率发生不可逆变化.这种薄膜用于TCO/CdS/AlSb结构的太阳电池器件中已经得到200mV左右的开路电压. 展开更多
关键词 alsb 退火 多晶薄膜 共蒸发
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AlSb薄膜的研究进展
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作者 夏凯 鄢强 +1 位作者 宋慧瑾 王洋 《广东化工》 CAS 2021年第21期98-99,106,共3页
本文综述了可用于太阳电池光吸收层的AlSb薄膜的特性以及研究进展。为进一步探究AlSb薄膜难制备、易潮解的难题,调研分析了近年来AlSb薄膜的研究成果。介绍了几种AlSb薄膜的制备方法并探讨了这些制备方法的优缺点,总结了改善AlSb薄膜性... 本文综述了可用于太阳电池光吸收层的AlSb薄膜的特性以及研究进展。为进一步探究AlSb薄膜难制备、易潮解的难题,调研分析了近年来AlSb薄膜的研究成果。介绍了几种AlSb薄膜的制备方法并探讨了这些制备方法的优缺点,总结了改善AlSb薄膜性能的手段。阐述了AlSb薄膜的潮解机理以及抑制AlSb薄膜潮解的方法。从目前研究成果的分析来看,AlSb薄膜是能够应用于太阳电池的。最后对AlSb薄膜应用于太阳电池的发展前景进行展望,并提出研究思路与建议。 展开更多
关键词 太阳电池 alsb 薄膜 制备 潮解
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Cu doped AlSb polycrystalline thin films
5
作者 武莉莉 金硕 +5 位作者 曾广根 张静全 李卫 冯良桓 黎兵 王文武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第1期20-22,共3页
Cu-doped AlSb polycrystalline films were grown on quartz glass by magnetron co-sputtering.The structural,morphological and electrical properties of the films were studied.The incorporation of copper atoms can result i... Cu-doped AlSb polycrystalline films were grown on quartz glass by magnetron co-sputtering.The structural,morphological and electrical properties of the films were studied.The incorporation of copper atoms can result in the increase of lattice constants,and annealing is helpful to eliminate this deformation.Cu-doped AlSb films exhibit weak n-type conductivity.The results show that the doping effect has a close relationship with the annealing process,meaning that the position of Cu atom in AlSb polycrystalline films might influence the doping effect. 展开更多
关键词 DOPE alsb film conductivity activation energy
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用几何靶溅射方法制备AISb多晶薄膜
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作者 杨凯 徐福 +5 位作者 武莉莉 张静全 冯良桓 李卫 蔡亚平 黎兵 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1461-1464,共4页
采用Al-Sb几何靶用直流磁控溅射方法沉积了AlSb薄膜(衬底温度为30℃和200℃),然后在N_2气氛下,300~540℃,对沉积的薄膜进行退火。用X射线衍射分析了AlSb薄膜的结构,用X射线荧光光谱法测定了Al和Sb的原子比,用原子力显微镜观察了表面形... 采用Al-Sb几何靶用直流磁控溅射方法沉积了AlSb薄膜(衬底温度为30℃和200℃),然后在N_2气氛下,300~540℃,对沉积的薄膜进行退火。用X射线衍射分析了AlSb薄膜的结构,用X射线荧光光谱法测定了Al和Sb的原子比,用原子力显微镜观察了表面形貌。结果表明:几何靶可以很好地控制薄膜中Al和Sb原子的比例。制备的AlSb薄膜经过退火之后形成了面心立方结构的AlSb半导体化合物,平均晶粒大小约28nm。较高的退火温度有利于AISb薄膜的晶粒生长。 展开更多
关键词 AISb多晶薄膜 磁控溅射 太阳电池
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AlSb多晶薄膜的制备及性质 被引量:1
7
作者 贺剑雄 武莉莉 +6 位作者 夏庚培 郑家贵 冯良桓 雷智 李卫 张静全 黎兵 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期11-16,共6页
用磁控溅射法制备了Al/Sb多层薄膜,通过X射线衍射(XRD)、X射线荧光(XRF)、Hall效应、暗电导率温度关系及透过谱的测试研究了退火前后薄膜的结构和性质。XRD测试结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,而Al则以非晶态形式存在,500℃退火... 用磁控溅射法制备了Al/Sb多层薄膜,通过X射线衍射(XRD)、X射线荧光(XRF)、Hall效应、暗电导率温度关系及透过谱的测试研究了退火前后薄膜的结构和性质。XRD测试结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,而Al则以非晶态形式存在,500℃退火后化合为AlSb多晶,且沿(111)择优取向。Hall效应测试、电导激活能及光能隙的计算结果表明,所制备的AlSb多晶薄膜为P型材料,且载流子浓度为1019cm-3,光能隙为1.64eV,电导率随温度的变化可分为两个过程,在30℃到110℃,薄膜的电导率随温度的增加而缓慢增加,而在110℃到260℃间增加明显,升温电导激活能为0.11eV和0.01eV,这与AlSb多晶薄膜在升温过程中的结构变化有关。将制备的AlSb多晶薄膜应用于TCO/CdS/AlSb/ZnTe:Cu/Au结构的太阳电池器件中,已观察到明显的光伏效应,说明用这种方法制备的AlSb多晶薄膜适于作太阳电池的吸收层。 展开更多
关键词 alsb 薄膜 磁控溅射法 退火
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Te掺杂AlSb多晶薄膜的性质研究
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作者 郝霞 江洪超 +7 位作者 赵宇 冷丹 武莉莉 冯良桓 李卫 张静全 曾广根 王文武 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期661-664,共4页
本文用蒸发的方法在AlSb薄膜上蒸镀一层Te膜,再经过退火处理使Te扩散进入AlSb实现掺杂.对薄膜的结构、电学及电子学性质进行了表征.结果表明,AlSb:Te薄膜在退火后,出现了Al_xTe_y化合物.AlSb:Te薄膜在150℃~170℃之间表现出反常的电导... 本文用蒸发的方法在AlSb薄膜上蒸镀一层Te膜,再经过退火处理使Te扩散进入AlSb实现掺杂.对薄膜的结构、电学及电子学性质进行了表征.结果表明,AlSb:Te薄膜在退火后,出现了Al_xTe_y化合物.AlSb:Te薄膜在150℃~170℃之间表现出反常的电导率温度行为,且A1Sb:Te薄膜在这一温度区间退火后呈现n型导电类型,而在更低或更高温度退火则为P型导电类型,这样的实验结果尚未见他人报道. 展开更多
关键词 Te掺杂 alsb多晶薄膜
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