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以浸没式技术引领光刻设备市场(英文)
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作者 ASML Netherlands 《电子工业专用设备》 2007年第4期19-21,59,共4页
在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图。通过对浸没式光刻技术的再现和提升。
关键词 ASML 浸没式光刻 双扫描台 扫描曝光设备 二次成像 双重曝光 极紫外光刻
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