期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
以浸没式技术引领光刻设备市场(英文)
1
作者
ASML Netherlands
《电子工业专用设备》
2007年第4期19-21,59,共4页
在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图。通过对浸没式光刻技术的再现和提升。
关键词
ASML
浸没式光刻
双扫描台
扫描曝光设备
二次成像
双重曝光
极紫外光刻
下载PDF
职称材料
题名
以浸没式技术引领光刻设备市场(英文)
1
作者
ASML Netherlands
机构
ASML Netherlands
出处
《电子工业专用设备》
2007年第4期19-21,59,共4页
文摘
在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图。通过对浸没式光刻技术的再现和提升。
关键词
ASML
浸没式光刻
双扫描台
扫描曝光设备
二次成像
双重曝光
极紫外光刻
Keywords
ASML
immersion technology
TWINSCAN
arf scanner
double patterning
EUVL
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
以浸没式技术引领光刻设备市场(英文)
ASML Netherlands
《电子工业专用设备》
2007
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部