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SOI技术问题和BSIM3SOIv1.3模型参数特点
1
作者
顾爱军
孙锋
《电子与封装》
2007年第11期31-34,38,共5页
SOI器件具有高速、低压、低功耗、抗辐照、耐高温等体硅器件不具备的优点,SOI CMOS技术开始用于深亚微米高速、低功耗、低电压大规模集成电路应用。但SOI技术还面临浮体效应、自加热效应等问题的挑战。作为SOI模型国际标准,BSIM3SOIv1....
SOI器件具有高速、低压、低功耗、抗辐照、耐高温等体硅器件不具备的优点,SOI CMOS技术开始用于深亚微米高速、低功耗、低电压大规模集成电路应用。但SOI技术还面临浮体效应、自加热效应等问题的挑战。作为SOI模型国际标准,BSIM3SOIv1.3提出了新的模型参数解决方案。BSIMPDSPICE器件模型是基于物理意义的模型,是在体硅MOS器件模型工业标准(BSIM3V3)的基础上开发而成,BSIMPD针对SOI固有的浮体效应引起的动态特性,自加热和体接触提出相应的模型参数。
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关键词
PD
SOI
体效应
自加热效应
bsim3soi
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职称材料
题名
SOI技术问题和BSIM3SOIv1.3模型参数特点
1
作者
顾爱军
孙锋
机构
江南大学
出处
《电子与封装》
2007年第11期31-34,38,共5页
文摘
SOI器件具有高速、低压、低功耗、抗辐照、耐高温等体硅器件不具备的优点,SOI CMOS技术开始用于深亚微米高速、低功耗、低电压大规模集成电路应用。但SOI技术还面临浮体效应、自加热效应等问题的挑战。作为SOI模型国际标准,BSIM3SOIv1.3提出了新的模型参数解决方案。BSIMPDSPICE器件模型是基于物理意义的模型,是在体硅MOS器件模型工业标准(BSIM3V3)的基础上开发而成,BSIMPD针对SOI固有的浮体效应引起的动态特性,自加热和体接触提出相应的模型参数。
关键词
PD
SOI
体效应
自加热效应
bsim3soi
Keywords
PD SOI
floating-body effect
self-heating effect
bsim3soi
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
SOI技术问题和BSIM3SOIv1.3模型参数特点
顾爱军
孙锋
《电子与封装》
2007
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