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题名酒石酸钾钠对HEDP镀铜形核的影响
被引量:7
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作者
任兵
杜楠
崔宇
邱媛
于宽深
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机构
南昌航空大学轻合金加工科学与技术国防重点学科实验室
沈阳飞机工业(集团)有限公司制造工程部
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出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2016年第5期5-10,15,共7页
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文摘
研究了酒石酸钾钠对羟基乙叉二膦酸(HEDP)镀铜形核的影响。通过线性扫描伏安、交流阻抗和循环伏安曲线研究铜沉积的电化学行为。随着镀铜液中酒石酸钾钠含量的提高,阴极极化曲线负移,X-射线衍射结果表明,晶粒由44 nm减小到40 nm;酒石酸钾钠的加入使循环伏安电流环消失;在-1.44、-1.45和-1.46 V的电位下,酒石酸钾钠的质量浓度在0~21 g/L内,镀液中铜离子在玻碳电极上的形核方式都为三维瞬时形核,不改变铜的形核方式;酒石酸钾钠的质量浓度增加到21 g/L,成核数密度和晶核垂直生长速率较基础液都有所增大;在电位-1.00^-1.20 V之间,铜络离子还原的表观反应活化能随着电位负移而减小,表观反应活化能由14 k J/mol增大到25 k J/mol,电极反应由扩散控制转向扩散过程和电极反应过程联合控制。
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关键词
羟基乙叉二膦酸
铜电沉积
成核机理
酒石酸钾钠
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Keywords
HEDP
copper electrodeposition
nucleation mechanism
c4o6 h4 kna
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分类号
TQ153.14
[化学工程—电化学工业]
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