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纳米ZnO去除CH_3SH性能的研究
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作者 邵纯红 孙曙光 +2 位作者 李芬 姜安玺 王路 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2008年第3期418-420,共3页
在常温、常压条件下,考察了平均粒径分别为14.3nm,21.2nm,24.1nm,35.3nm的ZnO和商品ZnO(约200nm)对CH3SH的去除性能,通过FTIR和XPS等技术对脱硫反应后的试样进行了表征。结果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于纳米ZnO表面,并随纳米ZnO粒... 在常温、常压条件下,考察了平均粒径分别为14.3nm,21.2nm,24.1nm,35.3nm的ZnO和商品ZnO(约200nm)对CH3SH的去除性能,通过FTIR和XPS等技术对脱硫反应后的试样进行了表征。结果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于纳米ZnO表面,并随纳米ZnO粒径的减小,吸附在纳米ZnO表面上CH3SH的FTIR特征峰和硫物种XPS特征峰逐渐增强,CH3SH在纳米ZnO表面进一步脱质子,反应活性逐渐增大,脱硫性能逐渐提高。说明纳米ZnO的表面结构是影响脱硫性能的主要因素。 展开更多
关键词 纳米ZNO 常温 CH3sh 脱硫
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