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CTAB对水热合成纳米MoS_2颗粒的影响研究 被引量:1
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作者 崔雅茹 饶衍冰 +3 位作者 何江山 陈傲黎 袁方 王娟 《中国钼业》 2014年第6期30-32,共3页
以仲钼酸铵((NH4)6Mo7O24·4H2O)为钼源,硫脲(CS(NH2)2)为硫源和还原剂,阳离子表面活性剂CTAB为分散剂,采用水热法合成了纳米Mo S2。为防止产物团聚、抑制其长大并控制其形貌,添加了不同浓度的阳离子表面活性剂CTAB,对水热合成过程... 以仲钼酸铵((NH4)6Mo7O24·4H2O)为钼源,硫脲(CS(NH2)2)为硫源和还原剂,阳离子表面活性剂CTAB为分散剂,采用水热法合成了纳米Mo S2。为防止产物团聚、抑制其长大并控制其形貌,添加了不同浓度的阳离子表面活性剂CTAB,对水热合成过程进行了控制研究,通过XRD和SEM对产物物相纯度和形貌进行表征,从微观结构理论的角度分析了CTAB加入对反应过程和产物形貌及分散性的影响。结果显示,阳离子表面活性剂CTAB的加入对产物Mo S2的结晶粒度和结晶度有影响,同时又起着模板和分散剂的作用。当其添加量为5倍的临界胶束浓度时,对抑制产物的团聚和形貌的修饰作用最强。 展开更多
关键词 水热法 纳米MoS2 硫脲 CTAB
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