期刊文献+
共找到117篇文章
< 1 2 6 >
每页显示 20 50 100
CVD Method for Carbon Nanotubes Preparation Based on Orthogonal Experiment Using C_3H_6
1
作者 苏勋文 JIANG Fang 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2015年第5期959-964,共6页
Carbon nanotubes (CNTs) have potential applications in many fields, chemical vapor deposition (CVD) is an effective method for CNTs preparation. By CVD, the catalytic pyrolysis temperature, pyrolysis time and the size... Carbon nanotubes (CNTs) have potential applications in many fields, chemical vapor deposition (CVD) is an effective method for CNTs preparation. By CVD, the catalytic pyrolysis temperature, pyrolysis time and the size of the raw gas flow have a great influence on yield rate of CNTs and their form. In this paper, the orthogonal experiment analysis method is used for studying the influence factors of yield rate of CNTs. Research results show that, in the suitable temperature range of preparing CNTs, there is relatively more CNTs with excellent morphology, otherwise, if the temperature is too low, the growth of CNTs will not be sufficient; if the temperature is too high, then CNTs will be generated with excessive defects; with longer growth time of suitable pyrolysis of CNTs, higher yield of CNTs will be obtained; CNTs morphology with reaction time is not proportional; too low or too high raw gas flow rate is not conducive to the growth of CNTs. We have found the optimum conditions for the CNTs preparation: pyrolysis temperature 68 degrees C, pyrolysis time 35 min, propylene flow rate of 180 mL/min. The results have a reference value for the preparation of CNTS and their composites. 展开更多
关键词 CNTS method of cvd SYNTHESIS orthogonal experiment
下载PDF
Zirconium Modified Aluminide Coatings Obtained by the CVD and PVD Methods
2
作者 Jolanta Romanowska Maryana Zagula-Yavorska +1 位作者 Jan Sieniawski Janusz Markowski 《Open Journal of Metal》 2013年第4期92-99,共8页
The paper presents the comparison of the structures of the zirconium modified aluminide coatings deposited on pure nickel by the CVD and PVD methods. In the CVD process, zirconium was deposited from the ZrCl3 gas phas... The paper presents the comparison of the structures of the zirconium modified aluminide coatings deposited on pure nickel by the CVD and PVD methods. In the CVD process, zirconium was deposited from the ZrCl3 gas phase at the 1000°C. Zirconium thin layer (1 or 7 μm thick) and aluminum thin layer (1.0, 0.7 or 0.5 μm thick) were deposited by the EB-PVD method. Deposition velocity was about 1 ?m/min. The layers obtained by the Electron Beam Evaporation method were subjected to diffusion treatment for 2 h in the argon atmosphere. The obtained coatings were examined by the use of an optical microscope (microstructure and coating thickness) a scanning electron microscope (chemical composition on the cross-section of the modified aluminide coating) and XRD phase analysis. Microstructures and phase compositions of coatings obtained by different methods differ significantly. NiAl(Zr), Ni3Al and Ni(Al) phases were found in the CVD aluminide coatings, whereas Ni5Zr, Ni7Zr2 and γNi(Al,Zr) were observed in coatings obtained by the PVD method. The results indicate that the microstructure of the coating is strongly influenced by the method of manufacturing. 展开更多
关键词 cvd method PVD method Zirconium Modified Aluminide Coatings
下载PDF
70-nanometer DRAM Process Technology Employing the CVD Method
3
作者 赵建才 《当代外语研究》 2005年第2期19-20,共2页
随着物质生活水平的提高,人们对手机、个人电脑和家用电器的使用功能要求越来越高。为了满足人们的需求,采用高性能的动态随机存取存储器是提高电子产品性能的关键,因此韩国三星公司利用化学汽相沉淀法开发出70纳米级的动态随机存取存... 随着物质生活水平的提高,人们对手机、个人电脑和家用电器的使用功能要求越来越高。为了满足人们的需求,采用高性能的动态随机存取存储器是提高电子产品性能的关键,因此韩国三星公司利用化学汽相沉淀法开发出70纳米级的动态随机存取存储器加工技术。该技术克服了目前采用物理汽相沉淀法加工存储器所存在的缺陷,如晶片表面沉积物分布不均,同时该技术可节约20%的制造成本。 展开更多
关键词 沉淀法 nanometer DRAM Process Technology Employing the cvd method 动态随机存取存储器 cvd
原文传递
基于48对棒CVD还原炉出口的CFD模拟
4
作者 黄凯 黄河 +3 位作者 刘娜 黄雪莉 靳立军 马春梅 《化学工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期79-82,88,共5页
现役大型多晶硅还原炉由于内部流场和温度场不均匀,存在产品性能差的问题,因此提出在原料出口增设内接管来改善炉内流场和温度场的均匀性问题。利用SolidWorks建模软件建立48对棒多晶硅CVD还原炉模型,对其进行数值模拟得到不同硅棒生长... 现役大型多晶硅还原炉由于内部流场和温度场不均匀,存在产品性能差的问题,因此提出在原料出口增设内接管来改善炉内流场和温度场的均匀性问题。利用SolidWorks建模软件建立48对棒多晶硅CVD还原炉模型,对其进行数值模拟得到不同硅棒生长阶段下的尾气温度的模拟结果,拟合实际温度验证模型的准确性,进一步对模型网格进行网格无关性验证,验证模拟的准确性。通过对其流场和温度场的截面分析得出:在出口处设置高度为500 mm的上端封闭式内接管,有利于增加还原炉内部物料在炉内的停留时间和多晶硅的均匀沉积。因此在还原炉出口处安装内接管,有利于改善炉内物料停留时间以及流场和温度场的均匀分布,提高多晶硅沉积致密性和均匀性。 展开更多
关键词 改良西门子法 cvd还原炉 多晶硅 数值模拟 流场 温度场
下载PDF
Catalytic CVD Growth of Carbon Nanotubes by Electric Heating Method
5
作者 徐先锋 欧阳甜 +3 位作者 CHAI Lingzhi ZENG Lingsheng LI Gang CHEN Yue 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2017年第1期136-139,共4页
Carbon nanotubes(CNTs) were synthesized by the electric heating catalytic chemical deposition method(CCVD) using acetylene(C2H2) as the carbon source and nitrogen(N2) as carrier gas,and nickel catalyst was loa... Carbon nanotubes(CNTs) were synthesized by the electric heating catalytic chemical deposition method(CCVD) using acetylene(C2H2) as the carbon source and nitrogen(N2) as carrier gas,and nickel catalyst was loaded by electroplating.The electric heating method,as a new method,electrifies the carbon fiber directly by using its conductivity.The morphology and structure of CNTs were characterized by SEM and TEM,and the surface properties of carbon fibers before and after the growth of CNT were characterized by Raman spectroscopy.The experimental results show that the electric heating method is a new method to produce CNT,and can grow a large number of CNTs in a short time,the crystallization degree and surface average crystallite size of carbon fiber increased after the growth of CNT on it.In addition,electroplating loading catalyst can also be used as an ideal loading way,which can control the number,shape,and distribution of nickel particles by controlling the plating time. 展开更多
关键词 electric heating method catalytic cvd nickel plating carbon nanotubes
下载PDF
CVD法制备多壁碳纳米管的研究进展
6
作者 葛菊芳 黄海军 +3 位作者 黄先锋 张玮煜 张晗 刘凯璐 《信息记录材料》 2023年第10期25-27,共3页
碳纳米管在力、热、光、电等方面均表现出独特的性质,因此受到众多领域专家的广泛关注。但碳纳米管价格较高,制作过程复杂,严重限制了大规模推广。因而探索高产量、低成本的碳纳米管制作方法备受关注。碳纳米管采用化学气相沉积(chemica... 碳纳米管在力、热、光、电等方面均表现出独特的性质,因此受到众多领域专家的广泛关注。但碳纳米管价格较高,制作过程复杂,严重限制了大规模推广。因而探索高产量、低成本的碳纳米管制作方法备受关注。碳纳米管采用化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)法制备,可实现连续批量化生产。综述了CVD法制备碳纳米管的生长机理,不同工艺参数对碳纳米管生产的影响,以及在定向碳纳米管的研究现状,并对CVD法制备的多壁碳纳米管在石油化工领域的应用前景做出了展望,为学者在CVD法制备多壁碳纳米方面的研究提供了一定参考。 展开更多
关键词 碳纳米管 cvd 生长机理 工艺参数
下载PDF
CVD多层涂层TiN-Al_(2)O_(3)-TiCN的应力表征
7
作者 江嘉鹭 庄丽敏 +3 位作者 王海燕 张晓丹 赵晓晓 林亮亮 《硬质合金》 CAS 2023年第6期487-496,共10页
内应力影响着涂层的组织及物理性能,是涂层制备中关键的检测指标。无损检测手段中,X射线衍射应力测定方法如sin2ψ法的应用已多见报道,但在CVD涂层α-Al_(2)O_(3)-TiCN体系中多采用侧倾法,少见其他测量方式的讨论。本文尝试采用Rietvel... 内应力影响着涂层的组织及物理性能,是涂层制备中关键的检测指标。无损检测手段中,X射线衍射应力测定方法如sin2ψ法的应用已多见报道,但在CVD涂层α-Al_(2)O_(3)-TiCN体系中多采用侧倾法,少见其他测量方式的讨论。本文尝试采用Rietveld掠射法辅助侧倾法表征硬质合金基CVD多层涂层残余应力,探讨TiN-Al_(2)O_(3)-TiCN体系中各涂层相在基底沉积方向上的受力情况。实验表明,TiN于喷砂前,浅表层已受压应力;喷砂后由浅表层至相基底则为压应力单调递减,但喷砂力度过大时,应力释放使得浅表层应力值下降。Al_(2)O_(3)喷砂前后均为压应力转为拉应力的变化趋势。MT-TiCN应力变化趋势与Al2O3相似,但由于其距表层的深度相对最大且相结构与TiN相近,分析结果容易受其他因素干扰,如衍射强度差异、样品厚度不均或喷砂力度过大导致的涂层减薄、应力释放等。系列工艺试验样的测试结果说明本方法有较高的可靠性。 展开更多
关键词 残余应力 X射线衍射 化学气相沉积 涂层 全谱拟合 侧倾法 掠射法
下载PDF
CVD法制备碳纳米管的TG-DTA研究——温度对CVD法制备碳纳米管的影响 被引量:18
8
作者 吕德义 徐丽萍 +1 位作者 徐铸德 葛忠华 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第2期118-122,共5页
基于碳纳米管粗产品中无定形碳和不同直径碳纳米管对氧的反应活性的差异 ,通过差热 -热重 (TG DTA)方法 ,结合透射电镜 (TEM)和X射线衍射 (XRD)的测试结果 ,研究了合成温度对以乙炔气体为碳源 ,用CVD法制备碳纳米管的石墨化程度、碳纳... 基于碳纳米管粗产品中无定形碳和不同直径碳纳米管对氧的反应活性的差异 ,通过差热 -热重 (TG DTA)方法 ,结合透射电镜 (TEM)和X射线衍射 (XRD)的测试结果 ,研究了合成温度对以乙炔气体为碳源 ,用CVD法制备碳纳米管的石墨化程度、碳纳米管直径以及直径分布的影响 .结果表明 :反应中 ,由于催化剂Co/SiO2中活性组分 (Co)微晶随合成温度的升高而增大 ,导致所制备的碳纳米管的直径增大 ,从 2 0~ 30nm (6 5 0℃ )增加到 30~ 5 0nm (75 0℃ ) .碳纳米管的石墨化程度随着反应温度的升高而增加 .XRD实验结果还表明 ,当合成温度从 6 5 0℃增加到 85 0℃时 ,2θ值从 2 5 .8°增加到 2 6 .8°,(0 0 2 )晶面的层间距从 3.45 减小到 3.32 ,即随着合成温度的升高 ,碳纳米管 (0 0 2 )晶面的层间距减小 .通过DTA放热峰的峰温和半峰宽的分析得出 ,无定形碳的放热峰峰温Tp<380℃ ,其含量随着温度的升高而减小 .碳纳米管的DTA放热峰的峰温Tp 随着碳纳米管的直径和石墨化的程度的增加而升高 ,半峰宽随着碳纳米管的直径的分布范围增大而增宽 .低温 (6 5 0℃ )有利于生成直径小且均匀的多层碳纳米管 (2 0~ 30nm) ,而高温 (大于 75 0℃ )则有利于生成直径大的多层碳纳米管 (大于 30~5 0nm) . 展开更多
关键词 制备 TG-DTA 温度 差热-热重分析 碳纳米管 cvd 化学气相沉积
下载PDF
催化剂载体对CVD法制备碳纳米管的影响 被引量:4
9
作者 吕德义 徐铸德 +1 位作者 徐丽萍 葛忠华 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第5期475-480,共6页
用DTA、TEM和XRD方法研究了碳氢化合物催化裂解制备碳纳米管(CNTs)反应中催化剂载体的影响。实验结果表明:当以金属Co作为活性组分时,对于催化剂Co/Al2O3,在最佳反应温度(650℃)条件下,碳纳米管粗产品的产率为457g/100g·cat,明显... 用DTA、TEM和XRD方法研究了碳氢化合物催化裂解制备碳纳米管(CNTs)反应中催化剂载体的影响。实验结果表明:当以金属Co作为活性组分时,对于催化剂Co/Al2O3,在最佳反应温度(650℃)条件下,碳纳米管粗产品的产率为457g/100g·cat,明显高于以Co/SiO2作载体时的产率131g/100g·cat,且碳纳米管直径小,直径分布范围窄(10nm~20nm)。但在空气气氛中的DTA结果表明,在催化剂Co/SiO2上生成的碳纳米管的抗氧化能力较在催化剂Co/Al2O3上生成的碳纳米管强。通过TEM和XRD方法进一步研究发现:反应过程中,催化剂Co/Al2O3中的Co微晶粒度随反应温度升高(从650℃到750℃)而增大(从15.8nm到16.7nm)的速率小于催化剂Co/SiO2中的Co微晶粒度随反应温度升高而增大(从11.0nm到13.4nm)的速率;相应地,在催化剂Co/Al2O3上生成的碳纳米管的(外)直径随反应温度升高而增大的速率(从10~20nm到20~25nm)亦小于在催化剂Co/SiO2上生成的碳纳米管的(外)直径随反应温度升高而增大的速率(从10~30nm到30~50nm)。 展开更多
关键词 碳纳米管 催化剂 载体 三氧化二铝 cvd 碳氢化合物 催化裂解
下载PDF
CVD法制备碳/高活性铝复合材料 被引量:4
10
作者 吕英迪 郑晓东 +4 位作者 陈志强 李洪丽 唐望 石强 邱少君 《火炸药学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期104-106,共3页
采用化学气相沉积技术(CVD),在乙炔气氛、500℃条件下制备了碳/高活性铝复合材料。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对复合材料的物相、形貌、组成进行了表征。结果表明,碳/高活性铝复合材料具有特殊的核... 采用化学气相沉积技术(CVD),在乙炔气氛、500℃条件下制备了碳/高活性铝复合材料。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对复合材料的物相、形貌、组成进行了表征。结果表明,碳/高活性铝复合材料具有特殊的核壳结构及良好的耐水能力。 展开更多
关键词 材料科学 化学气相沉积技术 高活性铝 高活性铝复合材料
下载PDF
CVD一步法制备纳米碳管的研究 被引量:4
11
作者 应永飞 严新焕 +1 位作者 王文静 徐振元 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期242-245,共4页
CVD法是制备纳米碳管的重要方法。本文研究了以乙炔为原料气 ,无需预先还原催化剂 ,以一定的程序速率从 5 0 0℃升至 75 0℃一步法生长纳米碳管 ,直接制备出了管径在 8~ 12nm之间 ,石墨化程度好的纳米碳管。同时 ,对升温速率、原料气... CVD法是制备纳米碳管的重要方法。本文研究了以乙炔为原料气 ,无需预先还原催化剂 ,以一定的程序速率从 5 0 0℃升至 75 0℃一步法生长纳米碳管 ,直接制备出了管径在 8~ 12nm之间 ,石墨化程度好的纳米碳管。同时 ,对升温速率、原料气配比等因素进行了讨论 。 展开更多
关键词 一步法 制备 纳米碳管 化学气相沉积法 乙炔
下载PDF
固体单相催化剂CVD法制备成束或分散MWCNT 被引量:2
12
作者 徐军明 张孝彬 +3 位作者 李昱 陶新永 陈飞 杨晓芳 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第6期433-434,共2页
Fe-Mo-Mg-O catalyst prepared by combustion method has great efficiency to grow carbon nanotubes with CVD method. Through investigation of TEM, it is found that bundles of multi-wall carbon nanotubes (MWCNT) can be got... Fe-Mo-Mg-O catalyst prepared by combustion method has great efficiency to grow carbon nanotubes with CVD method. Through investigation of TEM, it is found that bundles of multi-wall carbon nanotubes (MWCNT) can be got when the catalyst is directly used to synthesize the product in CH 4/H 2 atmosphere; however, the dispersed carbon nanotubes are obtained while the catalyst is reduced firstly in the H 2 before the synthesis. The morphology and structure of the catalysts before and after reduced are analyzed by TEM and XRD. The growth mechanism is suggeested for the formation off these two kinds of carbon nanotubes. 展开更多
关键词 纳米碳管 成束多壁纳米碳管 cvd 固体单相催化剂 分散多壁纳米碳管
下载PDF
CVD金刚石涂层煤液化减压阀关键部件的制备 被引量:4
13
作者 王新昶 孙方宏 +2 位作者 沈彬 彭东辉 张志明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第6期20-24,共5页
煤液化减压阀的工作条件非常苛刻,对其阀座、阀芯等关键部件在高温、高压差、高固态浓度流体冲蚀条件下的抗冲蚀磨损性能及使用稳定性提出了极高的要求。CVD金刚石涂层具有接近天然金刚石的优异性能,非常适合用于煤液化减压阀关键部件... 煤液化减压阀的工作条件非常苛刻,对其阀座、阀芯等关键部件在高温、高压差、高固态浓度流体冲蚀条件下的抗冲蚀磨损性能及使用稳定性提出了极高的要求。CVD金刚石涂层具有接近天然金刚石的优异性能,非常适合用于煤液化减压阀关键部件的表面强化。采用热丝CVD法在硬质合金阀座及阀芯主要的受冲蚀表面沉积获得了金刚石涂层,为保证沉积过程中温度分布及制备获得的金刚石涂层厚度分布的均匀性,针对阀座和阀芯的不同结构,分别采用了直拉热丝穿孔和平行阶梯式排列两种不同的热丝排布方式。采用扫描电子显微镜(SEM)和Raman谱仪对沉积获得的金刚石涂层进行了性能表征,结果表明,在阀芯和阀座表面均沉积获得了一层连续、厚度均匀、颗粒度约为3~5μm、具有典型的金刚石特征的高质量金刚石涂层。将CVD金刚石涂层煤液化减压阀关键部件应用在实际煤液化工况条件下试运行,其使用寿命超过了1 200 h,比普通同类部件的使用寿命提高了3倍以上。 展开更多
关键词 热丝cvd 金刚石涂层 煤液化 减压阀 抗冲蚀磨损性能 使用寿命
下载PDF
用压痕试验法研究CVD金刚石膜的粘附性能 被引量:17
14
作者 匡同春 刘正义 +2 位作者 周克崧 代明江 王德政 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期83-90,共8页
在观察与分析压入过程中CVD金刚石膜开裂方式的基础上,初步探讨了用压痕试验法评定CVD金刚石膜粘附性能的可行性.采用反映膜/基粘附性能的临界开裂或剥落载荷Per和抗裂性参数dP/dX两指标评定了硬质合金基体表面经不同预处理方法和... 在观察与分析压入过程中CVD金刚石膜开裂方式的基础上,初步探讨了用压痕试验法评定CVD金刚石膜粘附性能的可行性.采用反映膜/基粘附性能的临界开裂或剥落载荷Per和抗裂性参数dP/dX两指标评定了硬质合金基体表面经不同预处理方法和沉积工艺参数合成的金刚石膜的粘附性能;研究了粘附性能指标与沉积工艺参数(如甲烷浓度、沉积气压、沉积功率)之间的关系.适当的表面预处理、适中的甲烷浓度、较低的沉积气压、较高的沉积功率均有利于改善金刚石膜的粘附性能. 展开更多
关键词 压痕试验法 cvd 粘附性能 金刚石薄膜
下载PDF
载气在CVD法制备纳米碳管工艺中的作用 被引量:1
15
作者 冯猛 张羊换 +2 位作者 董小平 任江远 王新林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1435-1437,1441,共4页
纳米碳管是性能优异的具有准一维特征的纳米材料,CVD法是制备纳米碳管的典型工艺之一。本文以乙炔气体为原料气体、循环失效后的贮氢电极合金材料作为反应催化剂,研究了在相同反应条件下,CVD法制备纳米碳管过程中载气对纳米碳管形貌和... 纳米碳管是性能优异的具有准一维特征的纳米材料,CVD法是制备纳米碳管的典型工艺之一。本文以乙炔气体为原料气体、循环失效后的贮氢电极合金材料作为反应催化剂,研究了在相同反应条件下,CVD法制备纳米碳管过程中载气对纳米碳管形貌和产率的影响。通过对产物TEM观察和TG分析发现,虽然载气不直接参与合成反应但对产物产率和形貌有很大的影响,氢气作为载气可以获得形貌和热稳定性更好的纳米碳管。 展开更多
关键词 纳米碳管 cvd 载气 形貌 热稳定性
下载PDF
金刚石薄膜的ECR CVD及分形现象研究 被引量:2
16
作者 张阳 杨新武 陈光华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期69-73,共5页
用ECRCVD(电子回旋共振化学气相沉积)方法沉积出了多晶金刚石薄膜,测量了薄膜的Raman散射谱、X射线衍射谱和SEM。生长条件是:V(CH4)/V(H2)=4%,气体总流量是150scm,反应压力是0.1Pa,微... 用ECRCVD(电子回旋共振化学气相沉积)方法沉积出了多晶金刚石薄膜,测量了薄膜的Raman散射谱、X射线衍射谱和SEM。生长条件是:V(CH4)/V(H2)=4%,气体总流量是150scm,反应压力是0.1Pa,微波功率是700W,衬底偏压是-150V。发现了在金刚石薄膜沉积初期阶段的分形生长现象,用DLA模型解释了其分形生长机制,用MonteCarlo方法对其生长过程进行了计算机模拟,理论与实验结果相符。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 ECR cvd 分形 DLA模型
下载PDF
碳辅助CVD制备氧化硅纳米线及其光学性能 被引量:2
17
作者 郑立仁 黄柏标 尉吉勇 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期250-254,共5页
利用碳辅助CVD方法,在1100~1140℃、常压、N2/H2气氛下,以Fe-Al-O复合体系为催化剂,在石英衬底上制备了大量非晶氧化硅纳米线.该纳米线直径为20~200nm,长数百微米.利用透射电镜、扫描电镜及电子能谱对氧化硅纳米线的形貌及组分进行了... 利用碳辅助CVD方法,在1100~1140℃、常压、N2/H2气氛下,以Fe-Al-O复合体系为催化剂,在石英衬底上制备了大量非晶氧化硅纳米线.该纳米线直径为20~200nm,长数百微米.利用透射电镜、扫描电镜及电子能谱对氧化硅纳米线的形貌及组分进行了表征与分析;FTIR光谱显示了非晶氧化硅的3个特征峰(482,806和1095cm-1)和1132cm-1无序氧化硅结构的强吸收峰.氧化硅纳米线的光致发光光谱(PL)表明其具有较强的438nm荧光峰. 展开更多
关键词 SiOx(x≤2)纳米线 碳辅助cvd方法 FTIR光谱 光致发光
下载PDF
热丝CVD金刚石薄膜Auger电子能谱分析 被引量:1
18
作者 苏堤 陈本敬 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1995年第1期54-58,共5页
利用Auger电子能谱仪,对热丝CVD法生长出的金刚石膜样品进行了表面探测。结果表明热丝系统中钨、钼、石英等材料对金刚石膜的污染影响很小,以至探测不到;生长系统和生长工艺对金刚石膜的质量有较大影响。
关键词 气相沉积法 电子谱 表面分析 金刚石薄膜
下载PDF
CVD金刚石膜{100}取向在改进化学反应模型下生长的原子尺度模拟 被引量:4
19
作者 安希忠 张禹 +3 位作者 刘国权 秦湘阁 王辅忠 刘胜新 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期349-352,共4页
建立了CVD金刚石膜狖100狚取向生长过程中的化学反应模型,表面吸附生长机制以沟槽处碳氢组元加入的机制为主,并用改进的KMC方法在原子尺度上模拟了该模型下(100)表面的生长过程,给出了衬底温度和甲基浓度等操作参数对膜质量的影响。结... 建立了CVD金刚石膜狖100狚取向生长过程中的化学反应模型,表面吸附生长机制以沟槽处碳氢组元加入的机制为主,并用改进的KMC方法在原子尺度上模拟了该模型下(100)表面的生长过程,给出了衬底温度和甲基浓度等操作参数对膜质量的影响。结果表明,该化学反应模型能够较实际地揭示狖100狚取向CVD金刚石膜的生长。 展开更多
关键词 cvd 金刚石膜 KMC方法 原子尺度 化学反应模型 生长机制
下载PDF
热铁盘法抛光CVD金刚石的微观表面研究 被引量:1
20
作者 马泳涛 张建立 +1 位作者 李钝 马胜钢 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2008年第4期57-61,65,共6页
用原子力显微镜对热铁盘法抛光CVD金刚石达到R_a0.016μm的表面进行观察。在微观表面重现的基础上,对不同方向的表面粗糙度进行探测。发现抛光后的金刚石表面的粗糙度呈现出一定的方向性,最大粗糙度和最小粗糙度方向,两个方向相互垂直... 用原子力显微镜对热铁盘法抛光CVD金刚石达到R_a0.016μm的表面进行观察。在微观表面重现的基础上,对不同方向的表面粗糙度进行探测。发现抛光后的金刚石表面的粗糙度呈现出一定的方向性,最大粗糙度和最小粗糙度方向,两个方向相互垂直。三维形貌图显示,金刚石表面存在较少数量的由点到凸峰,且较大凸峰的高度在50~60 nm之间,是较小凸峰高度的2~3倍。影响表面粗糙度值的因素不仅有表面凸峰的高度,还应考虑表面凸峰的数量和方向性。这种表面特征与抛光时采用的直压式运动方式有着直接联系。 展开更多
关键词 热铁盘法 cvd金刚石 抛光 微观表面
下载PDF
上一页 1 2 6 下一页 到第
使用帮助 返回顶部