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VCCS controlled LDO with small on-chip capacitor
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作者 李秋丽 钱耀 +1 位作者 吕旦竹 洪志良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第11期161-167,共7页
A stable LDO using VCCS (voltage control current source) is presented. The LDO is designed and implemented on GF 2P4M 0.35μm CMOS technology. Compared with a previous compensation scheme, VCCS can implement a real ... A stable LDO using VCCS (voltage control current source) is presented. The LDO is designed and implemented on GF 2P4M 0.35μm CMOS technology. Compared with a previous compensation scheme, VCCS can implement a real stable LDO with a small on-chip capacitor of 1 pF, whose stability is not affected by the variable ESR (equivalent series resistance) of the output capacitor. The unit gain frequency of the LDO loop can achieve 1.5 MHz, improving the transient response. The PSR of the LDO is larger than 45 dB within 0-40 kHz. The static current of the LDO at heavy load of 100 mA is 57 μA and the dropout voltage of the LDO is 150 mV. Experimental results show that a setting time of 10 ks is achieved, and the variation of output voltage is smaller than 35 mV for a 100 mA load step in transient response of the LDO. 展开更多
关键词 LDO VCCS small on-chip capacitor frequency compensation LDO stability
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高密度电容器件的制备及其可靠性
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作者 商庆杰 王敬轩 +2 位作者 董春晖 宋洁晶 杨志 《电子工艺技术》 2024年第3期13-16,共4页
介绍了一种基于微机械加工技术(MicroElectronMechanical System,MEMS)的硅基高密度电容芯片的制备方法。该电容芯片采用了深孔刻蚀、介质淀积生长以及原位掺杂多晶硅等工艺技术,实现了高击穿电压(50V@1μA)、高电容密度(38.8~39.5nF/mm... 介绍了一种基于微机械加工技术(MicroElectronMechanical System,MEMS)的硅基高密度电容芯片的制备方法。该电容芯片采用了深孔刻蚀、介质淀积生长以及原位掺杂多晶硅等工艺技术,实现了高击穿电压(50V@1μA)、高电容密度(38.8~39.5nF/mm^(2))的电容芯片制备。 展开更多
关键词 微系统芯片 高密度电容 深孔刻蚀 原位掺杂多晶硅
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在片电容测量系统溯源及测量方法研究
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作者 丁晨 乔玉娥 +2 位作者 刘岩 翟玉卫 吴爱华 《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第11期1735-1739,共5页
针对在片电容参数溯源及测量不准确问题,提出一种溯源及测量方法,通过在片形式的直通线将测量结果与成熟的四端对标准电容器的量值联系起来,实现了在片电容参数的溯源。通过定量研究干扰回路对测量结果的影响,对探针系统及测量线缆的影... 针对在片电容参数溯源及测量不准确问题,提出一种溯源及测量方法,通过在片形式的直通线将测量结果与成熟的四端对标准电容器的量值联系起来,实现了在片电容参数的溯源。通过定量研究干扰回路对测量结果的影响,对探针系统及测量线缆的影响进行修正,准确测量在片电容值,使得测量数据的准确性可验证,计量级在片电容测量系统测量准确度提高0.08%。 展开更多
关键词 计量学 在片电容参数 在片直通线 四端对标准电容器 干扰回路 溯源
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一种快速瞬态响应的LDO设计 被引量:1
4
作者 孙力 王志亮 +2 位作者 杨雨辰 谭庶欣 陈靖 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第8期690-698,共9页
针对传统低压差线性稳压器(LDO)的瞬态响应差、电源抑制比(PSRR)低、片外电容大等问题,提出了一种由采样运算放大器和补偿运算放大器构成的新型摆率增强电路,改善了LDO的瞬态响应能力,实现了无片外电容设计。电路基于BCD-120 V CMOS工... 针对传统低压差线性稳压器(LDO)的瞬态响应差、电源抑制比(PSRR)低、片外电容大等问题,提出了一种由采样运算放大器和补偿运算放大器构成的新型摆率增强电路,改善了LDO的瞬态响应能力,实现了无片外电容设计。电路基于BCD-120 V CMOS工艺完成了建模。仿真结果显示,负载电流为50 mA时,10、103和104Hz下的PSRR分别为108、96和80 dB;负载调整率为0.002 95 V·A^(-1);典型TT工艺角25℃/5 V条件下,1μs内负载电流从100μA跳变到500 mA,输出端上冲电压为19.16 mV,响应时间为0.4μs,下冲电压为56.41 mV,响应时间为0.2μs。 展开更多
关键词 低压差线性稳压器(LDO) 瞬态响应 电源抑制比(PSRR) 无片外电容 摆率增强
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一种基于CLASS-AB类运放的无片外电容LDO设计 被引量:1
5
作者 崔明辉 王星 +2 位作者 李娜 相立峰 张国贤 《电子技术应用》 2023年第9期53-57,共5页
介绍了一种基于CLASS-AB类运放无片外电容的低压差线性稳压器(LDO)。电路在高摆率误差放大器(EA)的基础上,通过构建动态偏置电路反馈到EA内部动态偏置管,大幅改善了LDO的瞬态响应能力,且动态偏置电路引入的左半平面零点保证了LDO的环路... 介绍了一种基于CLASS-AB类运放无片外电容的低压差线性稳压器(LDO)。电路在高摆率误差放大器(EA)的基础上,通过构建动态偏置电路反馈到EA内部动态偏置管,大幅改善了LDO的瞬态响应能力,且动态偏置电路引入的左半平面零点保证了LDO的环路稳定性。同时,EA采用过冲检测电路减小了输出过冲,缩短了环路稳定时间。电路基于65 nm CMOS工艺设计和仿真。仿真结果表明,在负载电流10μA~50 mA、输出电容0~50 pF条件下,LDO输出稳定无振荡。在LDO输入2.5 V、输出1.2 V、无片外电容条件下,控制负载在10μA和50 mA间跳变,LDO输出恢复时间为0.7μs和0.8μs,下冲和上冲电压为58 mV和15 mV。 展开更多
关键词 低压差线性稳压器 瞬态增强电路 动态偏置电路 无片外电容
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一种快速瞬态响应的无片外电容型LDO电路设计 被引量:1
6
作者 李娜 陆峰 崔明辉 《微电子学与计算机》 2023年第8期94-100,共7页
本文基于SMIC65 nm工艺,设计了一款快速瞬态响应的无片外电容型低压差线性稳压器(low dropout regulator,LDO).采用高增益跨导结构(OTA)的误差放大器,利用局部共模反馈结构(CFRFC),增加了放大器跨导率,提高了放大器的直流增益.同时,引... 本文基于SMIC65 nm工艺,设计了一款快速瞬态响应的无片外电容型低压差线性稳压器(low dropout regulator,LDO).采用高增益跨导结构(OTA)的误差放大器,利用局部共模反馈结构(CFRFC),增加了放大器跨导率,提高了放大器的直流增益.同时,引入一个由电容耦合电流镜构成的瞬态检测电路,取代了传统LDO电路中的大电容,便于检测输出的跳变,增大对功率管的充放电能力,提高了环路瞬态响应速度,降低LDO环路的上/下冲电压.缓冲级采用了带电压负反馈的源级跟随器,在一定的静态功耗下,提高了动态电流,将次级点推到更高的频率,提高了电路相位裕度.仿真结果表明,输入电压为2~3 V时,该电路输出为1.2 V,最大负载电流为100 mA;当负载电流在0~100 mA时,LDO输出的最大过冲电压和欠冲电压为23 mV和27 mV,并且在低频时有较高的电源抑制比. 展开更多
关键词 无片外电容 瞬态增强 源级跟随器 LDO
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一种片外电容交叉充放电型振荡电路设计
7
作者 曹杨 曹振吉 +1 位作者 曹靓 赵桂林 《电子技术应用》 2023年第3期77-81,共5页
CMOS环形振荡器具有版图面积小、调谐范围大、电路简单便于集成等优点,广泛应用于各类电源系统及电子通信应用中。在常规的环形振荡电路基础上,设计了独立的充放电控制通路,实现了一种交叉充放电型环形振荡电路,并通过外接片外电容的方... CMOS环形振荡器具有版图面积小、调谐范围大、电路简单便于集成等优点,广泛应用于各类电源系统及电子通信应用中。在常规的环形振荡电路基础上,设计了独立的充放电控制通路,实现了一种交叉充放电型环形振荡电路,并通过外接片外电容的方式,得到更低频率的振荡周期。基于0.18μm工艺,采用HSIM工具对电路进行功能仿真,经过后端物理实现后,版图面积为172μm×76μm,对电路进行提参后仿,结果表明:在3.3 V电压及25℃条件下,外接10 nF接地电容时,电路获得约1.2 ms的稳定振荡周期。在Vcc=2.7 V~5.5 V、T=-55℃~125℃条件下,时钟周期的最大偏移为5.83%。该电路已成功应用于某电源控制芯片中。 展开更多
关键词 环形振荡 电容充放电 电源控制芯片 时钟
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无片外电容LDO的补偿方法研究
8
作者 李天硕 李严 刘莹 《微处理机》 2023年第5期9-12,共4页
无片外电容LDO器件无法通过片外电容提供频率补偿和瞬态稳压,为了弥补由此带来的器件在稳定性和瞬态特性上的缺陷,需要额外设计补偿电路。研究选用普通源极跟随器作为一种结构简单的缓冲器,作为补偿手段,以提高无片外电容LDO的功能表现... 无片外电容LDO器件无法通过片外电容提供频率补偿和瞬态稳压,为了弥补由此带来的器件在稳定性和瞬态特性上的缺陷,需要额外设计补偿电路。研究选用普通源极跟随器作为一种结构简单的缓冲器,作为补偿手段,以提高无片外电容LDO的功能表现。补偿电路通过SMIC 0.18μm CMOS工艺实现,基于对普通源极跟随器的特性的理论分析,进一步设计出超级源极跟随器。通过理论分析与电路仿真,综合研究了无缓冲器、普通源极跟随器、超级源极跟随器三种情况对LDO特性的影响。 展开更多
关键词 无片外电容LDO 瞬态特性 普通源极跟随器 超级源极跟随器
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单层片式瓷介电容器电镀金工艺
9
作者 温占福 罗彦军 +1 位作者 聂开付 汤清 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2023年第7期37-42,共6页
介绍了单层片式瓷介电容器镀金设备的选择和挂具的设计要点。采用中性微氰镀金溶液电镀金,研究了Au^(+)质量浓度对电镀金允许电流密度范围的影响,以及脉冲参数对镀层表面粗糙度的影响。建议在实际生产中控制参数如下:Au^(+)质量浓度约7 ... 介绍了单层片式瓷介电容器镀金设备的选择和挂具的设计要点。采用中性微氰镀金溶液电镀金,研究了Au^(+)质量浓度对电镀金允许电流密度范围的影响,以及脉冲参数对镀层表面粗糙度的影响。建议在实际生产中控制参数如下:Au^(+)质量浓度约7 g/L,平均电流密度0.3~0.4 A/dm^(2),频率2000 Hz,占空比20%。介绍了镀液的维护要点,以及镀金层的外观、结合力、厚度、键合强度等性能的要求和检测方法。 展开更多
关键词 单层片式瓷介电容器 电镀金 设备 工艺参数 性能检测
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超低功耗无片外电容的低压差线性稳压器 被引量:10
10
作者 陈琛 孙可旭 +2 位作者 冯建宇 奚剑雄 何乐年 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期1669-1675,共7页
为了减小无片外电容低压差线性稳压器(LDO)的功耗并提高稳定性,提出带有阻抗衰减缓冲器的LDO.该LDO主环路采用三级运放结构,具有动态偏置并联反馈结构和摆率增强电路的缓冲器作为中间级,驱动PMOS功率管.使用嵌套密勒补偿方式(NMC),将低... 为了减小无片外电容低压差线性稳压器(LDO)的功耗并提高稳定性,提出带有阻抗衰减缓冲器的LDO.该LDO主环路采用三级运放结构,具有动态偏置并联反馈结构和摆率增强电路的缓冲器作为中间级,驱动PMOS功率管.使用嵌套密勒补偿方式(NMC),将低频主极点放置在第一级输出,将缓冲器输出极点和LDO输出极点作为次极点构成极点-极点追踪,达到无片外电容LDO稳定性和瞬态响应的要求.芯片采用GSMC公司的130nm CMOC工艺模型设计并经流片测试.测试结果表明:在1.6~4V输入电压下,输出1.5V电压,最大输出电流为1.5mA时静态电流小于881nA.测试结果验证了设计要求. 展开更多
关键词 低压差线性稳压器 超低功耗 无片外电容 嵌套密勒补偿(NMC) 阻抗衰减缓冲器
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标准数字CMOS工艺中LC谐振回路的改进和应用 被引量:4
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作者 苏彦锋 王涛 +1 位作者 朱臻 洪志良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1330-1334,共5页
提出了一种在标准数字 CMOS工艺条件下 ,提高片上螺旋电感性能的实用方法 ,以及在缺少双层多晶硅电容的情况下 ,可以大大节约芯片面积的一种电容实现方法 .介绍了这两种方法在电路设计中的一种应用 ,即利用0 .35 μm1P4 M标准数字 CMOS... 提出了一种在标准数字 CMOS工艺条件下 ,提高片上螺旋电感性能的实用方法 ,以及在缺少双层多晶硅电容的情况下 ,可以大大节约芯片面积的一种电容实现方法 .介绍了这两种方法在电路设计中的一种应用 ,即利用0 .35 μm1P4 M标准数字 CMOS工艺实现的、单片集成的 L C压控振荡器 . 展开更多
关键词 片上电感 电容 LC谐振回路 压控振荡器 CMOS 半导体工艺 LC压控振荡器
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贴片电容器失效分析 被引量:4
12
作者 汪洋 何为 +2 位作者 莫云绮 林均秀 徐玉珊 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期74-76,共3页
采用外观检查、金相切片、SEM和EDS分析等手段,通过对贴片电容器失效实例的分析,介绍了对贴片电容器失效的分析过程与方法,得出了内部电极间的陶瓷介质裂纹存在并联电阻特性,这是导致电容器产生漏电失效的主要原因,该裂纹属制造缺陷。... 采用外观检查、金相切片、SEM和EDS分析等手段,通过对贴片电容器失效实例的分析,介绍了对贴片电容器失效的分析过程与方法,得出了内部电极间的陶瓷介质裂纹存在并联电阻特性,这是导致电容器产生漏电失效的主要原因,该裂纹属制造缺陷。失效分析对贴片电容器制造工艺有质量控制作用。 展开更多
关键词 电子技术 贴片电容 失效分析 外观检查 金相切片分析
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高稳定性高瞬态响应无片外电容LDO的设计 被引量:2
13
作者 谢海情 肖正 +3 位作者 唐俊龙 周斌腾 曾承伟 陈希贤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期416-420,共5页
基于Nuvoton 0.5μm 5 V标准CMOS工艺,设计了一种高稳定性、高瞬态响应、无片外电容低压差线性稳压器(LDO)。电路中引入了过冲、欠冲电压改善模块,用来削减过/欠充电压,互不干扰。过冲电压改善电路将LDO输出电压与参考电压进行比较,过... 基于Nuvoton 0.5μm 5 V标准CMOS工艺,设计了一种高稳定性、高瞬态响应、无片外电容低压差线性稳压器(LDO)。电路中引入了过冲、欠冲电压改善模块,用来削减过/欠充电压,互不干扰。过冲电压改善电路将LDO输出电压与参考电压进行比较,过冲状态下开启从LDO输出端到地的快速放电通路,欠冲电压改善电路通过电容耦合获得反映LDO输出电压瞬态变化的采样信号,经反向放大后加速功率管栅极电容放电,进而通过功率管对LDO输出电容充电。仿真结果表明,在TT工艺角下该低压差线性稳压器的空载相位裕度为64.57°,满载相位裕度为62.58°,过冲电压为40 m V,欠冲电压为97.6 m V,线性调整率为0.733‰;负载调整率19μV/m A;电源电压抑制比(PSRR)为-73 d B。 展开更多
关键词 稳定性 瞬态响应 低压差线性稳压器 无片外电容 瞬态增强电路
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一种有源零点补偿的片上LDO设计 被引量:3
14
作者 胡云斌 周勇 +1 位作者 胡永贵 顾宇晴 《微电子学》 CSCD 北大核心 2017年第3期326-329,共4页
提出了一种新颖的有源零点补偿LDO结构,实现了LDO在全负载范围内的稳定,1~10 MHz范围内的电源抑制比提高了10dB。采用欠冲电压减小技术,显著减小了输出欠冲电压,提高了瞬态响应性能。基于SMIC 65nm CMOS工艺,设计了输出电压为1V、压差... 提出了一种新颖的有源零点补偿LDO结构,实现了LDO在全负载范围内的稳定,1~10 MHz范围内的电源抑制比提高了10dB。采用欠冲电压减小技术,显著减小了输出欠冲电压,提高了瞬态响应性能。基于SMIC 65nm CMOS工艺,设计了输出电压为1V、压差电压为200mV、最大输出电流为100mA的无片外电容LDO。仿真结果显示,空载时LDO的相位裕度为64.3°,最大过冲和欠冲电压分别为52mV和47mV,满载时LDO的电源抑制比为-66dB@10kHz。 展开更多
关键词 低压差线性稳压器 有源零点补偿 无片外电容 电源抑制比
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具有RS232串口的电容式油量传感器的设计 被引量:3
15
作者 于相斌 常丽敏 张亚刚 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2007年第4期56-57,60,共3页
电容式油量传感器由于结构简单、工作可靠,因此使用的比较广泛。但这种传感器的准确性受连接导线分布电容和温度的影响较大,从而制约了电容式油量表测量精度的提高。提出了一种基于单片机的具有RS232串口的电容式油量传感器的设计方法,... 电容式油量传感器由于结构简单、工作可靠,因此使用的比较广泛。但这种传感器的准确性受连接导线分布电容和温度的影响较大,从而制约了电容式油量表测量精度的提高。提出了一种基于单片机的具有RS232串口的电容式油量传感器的设计方法,解决了电容式油量传感器受连接导线分布电容影响和硬件补偿温度误差精度不高的问题。该传感器具有便于数字显示,性价比高,工作可靠等特点。 展开更多
关键词 RS232串口 单片机 电容式 油量传感器
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多层片式陶瓷电容器电极浆料研究进展 被引量:7
16
作者 张丽丽 宣天鹏 《稀有金属快报》 CSCD 2008年第9期5-10,共6页
简单介绍了多层片式陶瓷电容器MLCC(Multilayer Ceramic Capacitor)的组成、结构及要求。详细阐述了多层陶瓷电容器电极浆料的构成、功能及作用,重点介绍了导电相、玻璃相及有机载体的种类、性能和应用。最后叙述了MLCC电极浆料研究进... 简单介绍了多层片式陶瓷电容器MLCC(Multilayer Ceramic Capacitor)的组成、结构及要求。详细阐述了多层陶瓷电容器电极浆料的构成、功能及作用,重点介绍了导电相、玻璃相及有机载体的种类、性能和应用。最后叙述了MLCC电极浆料研究进展和发展趋势。 展开更多
关键词 多层陶瓷电容器 片式电容 电极浆料
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从数字看发展片式电容器面临的机遇与挑战 被引量:12
17
作者 陆锁链 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期48-53,共6页
采用海关进、出口统计和行业生产统计资料,通过计算、分析,用数字来说明国内发展片式多层陶瓷电容器、片式钽电解电容器、片式铝电解电容器、片式有机薄膜电容器所面临的机遇与挑战,并对其国内市场需求总量、额,国产品在国内市场占有率... 采用海关进、出口统计和行业生产统计资料,通过计算、分析,用数字来说明国内发展片式多层陶瓷电容器、片式钽电解电容器、片式铝电解电容器、片式有机薄膜电容器所面临的机遇与挑战,并对其国内市场需求总量、额,国产品在国内市场占有率等做出评估,为有关单位了解片式电容器的发展提供参考,为国产产品更有效地进入国内市场、促进其发展提供依据。 展开更多
关键词 片式电容器 经济总量规模 市场需求量 国产品占有率
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国内外片式钽电容器的开发与发展 被引量:2
18
作者 屈乃琴 陈久录 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2000年第3期50-52,共3页
论述了国内外片式钽电容器的开发以及发展现状和趋势 ,简要阐述了片式钽电容器的应用。
关键词 片式钽电容器 开发 发展
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贴片式电子元件典型的失效模式及机理分析 被引量:12
19
作者 贺光辉 邹雅冰 +1 位作者 李少平 莫富尧 《电子工艺技术》 2012年第6期341-343,379,共4页
针对贴片式电阻器和贴片式陶瓷电容器中银电极典型的腐蚀漏电失效模式,选取两个案例进行分析。通过采用X-ray、金相切片和SEM&EDS等分析手段,阐述了这类贴片式电子元件的失效机理,剖析了元件出现硫化腐蚀、电化学迁移失效与银电极... 针对贴片式电阻器和贴片式陶瓷电容器中银电极典型的腐蚀漏电失效模式,选取两个案例进行分析。通过采用X-ray、金相切片和SEM&EDS等分析手段,阐述了这类贴片式电子元件的失效机理,剖析了元件出现硫化腐蚀、电化学迁移失效与银电极制作工艺及电极浆料的关系,并提出了有效控制此类失效的措施与对策。 展开更多
关键词 贴片式电阻器 贴片式陶瓷电容器 贴片式电子元件 银电极 失效机理 硫化腐蚀 电化学迁移
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矿用低压电缆绝缘参数在线检测仪的研究 被引量:7
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作者 王福忠 付子义 +1 位作者 段俊东 杨凌霄 《电力系统及其自动化学报》 CSCD 2000年第4期48-51,共4页
矿用低压电缆绝缘参数在线检测仪 ,实现了对电缆的绝缘电阻、对地电容的在线检测。硬件采用了 80 98单片机和霍尔传感器等元件 ,软件采用了二次微分算法和数字带通滤波器。
关键词 低压电缆 绝缘参数在线检测仪 煤矿 霍尔传感器
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