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制备参数对磁控溅射CoSi_2薄膜织构的影响
1
作者
常继
姜传海
+1 位作者
程凡雄
吴建生
《理化检验(物理分册)》
CAS
2005年第4期163-165,190,共4页
采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响。结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构。织构的形成受溅射参数的影响。溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈。当基底温度增加时,织构...
采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响。结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构。织构的形成受溅射参数的影响。溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈。当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程。
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关键词
织构
cosi
2
薄膜
X射线衍射
磁控溅射
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职称材料
题名
制备参数对磁控溅射CoSi_2薄膜织构的影响
1
作者
常继
姜传海
程凡雄
吴建生
机构
上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室
出处
《理化检验(物理分册)》
CAS
2005年第4期163-165,190,共4页
基金
国家自然科学基金项目(50131030)
上海AM基金(0211)
文摘
采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响。结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构。织构的形成受溅射参数的影响。溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈。当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程。
关键词
织构
cosi
2
薄膜
X射线衍射
磁控溅射
Keywords
Texture
cosi 2 thin film
X ray diffraction
Magnetron sputtering
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
制备参数对磁控溅射CoSi_2薄膜织构的影响
常继
姜传海
程凡雄
吴建生
《理化检验(物理分册)》
CAS
2005
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