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基于各种快速Spice仿真器的Post-Layout寄生效应验证
1
作者
孙肖林
《现代电子技术》
2007年第22期69-71,共3页
现在的深亚微米工艺使用复杂的多层金属结构与先进电介质材料,随着工艺的进步,集成电路的器件尺寸越来越小,金属互连线做得越来越细,金属互连产生的寄生效应对电路性能的影响也越来越明显,各种各样的问题譬如由耦合电容产生了串扰噪声...
现在的深亚微米工艺使用复杂的多层金属结构与先进电介质材料,随着工艺的进步,集成电路的器件尺寸越来越小,金属互连线做得越来越细,金属互连产生的寄生效应对电路性能的影响也越来越明显,各种各样的问题譬如由耦合电容产生了串扰噪声和延迟,IR drop引起的电压降,高电流密度引起的电迁移效应,以及混合信号设计中DC-path泄漏已经成为非常普遍的问题。对于整个芯片,在post-layout仿真时加上提取的寄生参数,有助于在设计中精确地分析每个寄生效应。快速Spice仿真器具有大的数据处理的容量和高的处理效率,因此这种仿真流程在设计中已经被广泛地应用。讨论如何在各种模式的仿真器(如UltraSim,NanoSim和HSIM)中选择合适的仿真器来进行post-layout仿真,以及不同的选择会有什么样不同的结果,另外还将对一些post-layout仿真结果进行分析。
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关键词
快速Spice仿真器
串扰
IR
DROP
电迁移效应
dc
-
path
泄漏
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职称材料
题名
基于各种快速Spice仿真器的Post-Layout寄生效应验证
1
作者
孙肖林
机构
东南大学IC学院
出处
《现代电子技术》
2007年第22期69-71,共3页
文摘
现在的深亚微米工艺使用复杂的多层金属结构与先进电介质材料,随着工艺的进步,集成电路的器件尺寸越来越小,金属互连线做得越来越细,金属互连产生的寄生效应对电路性能的影响也越来越明显,各种各样的问题譬如由耦合电容产生了串扰噪声和延迟,IR drop引起的电压降,高电流密度引起的电迁移效应,以及混合信号设计中DC-path泄漏已经成为非常普遍的问题。对于整个芯片,在post-layout仿真时加上提取的寄生参数,有助于在设计中精确地分析每个寄生效应。快速Spice仿真器具有大的数据处理的容量和高的处理效率,因此这种仿真流程在设计中已经被广泛地应用。讨论如何在各种模式的仿真器(如UltraSim,NanoSim和HSIM)中选择合适的仿真器来进行post-layout仿真,以及不同的选择会有什么样不同的结果,另外还将对一些post-layout仿真结果进行分析。
关键词
快速Spice仿真器
串扰
IR
DROP
电迁移效应
dc
-
path
泄漏
Keywords
fast Spice simulator
cross
-
talk
IR drop
EM
dc - path leakage
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TP33 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
基于各种快速Spice仿真器的Post-Layout寄生效应验证
孙肖林
《现代电子技术》
2007
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