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光纤的激光微结构加工及对强度的影响
1
作者
徐刚
戴玉堂
《机械科学与技术》
CSCD
北大核心
2011年第10期1781-1784,共4页
在光纤传感器的工程应用中,光纤的应力变化是一个不容忽视的因素。通过有限元法分析了带有不同微孔光纤达到屈服强度时的最大轴向张力以及负载相同时微孔大小对光纤应力的影响。简要介绍了准分子激光加工光纤微结构的方法;基于有限元分...
在光纤传感器的工程应用中,光纤的应力变化是一个不容忽视的因素。通过有限元法分析了带有不同微孔光纤达到屈服强度时的最大轴向张力以及负载相同时微孔大小对光纤应力的影响。简要介绍了准分子激光加工光纤微结构的方法;基于有限元分析结果利用157 nm深紫外激光在光纤上进行了多组微结构加工实验,证实了157 nm激光在制备新型光纤传感器方面的实用性。
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关键词
激光加工
光纤
三维微结构
深紫外激光
有限元分析
下载PDF
职称材料
深紫外非线性晶体KBe_2BO_3F_2的光学倍频特性
2
作者
宋春荣
赵建君
刘进
《军械工程学院学报》
2010年第6期67-71,75,共6页
通过理论模拟计算详细分析了KBe2BO3F2(KBBF)晶体的光学倍频特性,得到了Nd∶YVO4激光6倍频输出的深紫外激光光源(177.3 nm)的相关技术参数。结果对于KBBF晶体用于产生深紫外全固态激光(DPL)的实验研究提供了重要的理论依据。
关键词
KBBF晶体
倍频特性
深紫外光源
下载PDF
职称材料
深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究
被引量:
6
3
作者
刘世元
吴小健
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期878-884,共7页
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。通过建立扫描曝光过程的抽象模型并分析准分子激光器单脉冲能量波动特性,提出采用闭环反馈控制进行实时调节,着重研究了抑制单脉冲能量超调和随机波动的有效...
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。通过建立扫描曝光过程的抽象模型并分析准分子激光器单脉冲能量波动特性,提出采用闭环反馈控制进行实时调节,着重研究了抑制单脉冲能量超调和随机波动的有效算法。在一台波长为193 nm、重复频率为4 kHz、单脉冲能量为5 mJ的ArF准分子激光器上进行了实验研究。结果表明,当脉冲个数仅为20时算法控制下的剂量精度即可达0.89%,不但满足亚微米光刻越来越严的剂量要求,而且有助于提高光刻机生产效率和激光器使用效率。
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关键词
应用光学
深紫外准分子激光
剂量控制
扫描曝光
光刻机
能量超调
脉冲能量随机波动
原文传递
宽带折反射式紫外光刻物镜的设计
4
作者
张雨东
邹海兴
王之江
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第4期358-364,共7页
本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和较高的数值孔径.以宽带准分子激光或短弧汞氙灯做光源,无需另加色散补偿光学元件,可以进行同轴对准.
关键词
紫外光刻物镜
工作宽带
数值孔径
原文传递
题名
光纤的激光微结构加工及对强度的影响
1
作者
徐刚
戴玉堂
机构
武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室
出处
《机械科学与技术》
CSCD
北大核心
2011年第10期1781-1784,共4页
基金
国家自然科学基金项目(507751695
0802069)资助
文摘
在光纤传感器的工程应用中,光纤的应力变化是一个不容忽视的因素。通过有限元法分析了带有不同微孔光纤达到屈服强度时的最大轴向张力以及负载相同时微孔大小对光纤应力的影响。简要介绍了准分子激光加工光纤微结构的方法;基于有限元分析结果利用157 nm深紫外激光在光纤上进行了多组微结构加工实验,证实了157 nm激光在制备新型光纤传感器方面的实用性。
关键词
激光加工
光纤
三维微结构
深紫外激光
有限元分析
Keywords
laser
machining
optical fiber
3D micro structure
duv laser
finite element analysis
分类号
TP212.1 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
深紫外非线性晶体KBe_2BO_3F_2的光学倍频特性
2
作者
宋春荣
赵建君
刘进
机构
军械工程学院基础部
出处
《军械工程学院学报》
2010年第6期67-71,75,共6页
文摘
通过理论模拟计算详细分析了KBe2BO3F2(KBBF)晶体的光学倍频特性,得到了Nd∶YVO4激光6倍频输出的深紫外激光光源(177.3 nm)的相关技术参数。结果对于KBBF晶体用于产生深紫外全固态激光(DPL)的实验研究提供了重要的理论依据。
关键词
KBBF晶体
倍频特性
深紫外光源
Keywords
KBBF crystal
SHG properties
duv laser
分类号
O437 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究
被引量:
6
3
作者
刘世元
吴小健
机构
华中科技大学机械科学与工程学院
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期878-884,共7页
基金
国家自然科学基金(50205009
50575078)资助课题
文摘
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。通过建立扫描曝光过程的抽象模型并分析准分子激光器单脉冲能量波动特性,提出采用闭环反馈控制进行实时调节,着重研究了抑制单脉冲能量超调和随机波动的有效算法。在一台波长为193 nm、重复频率为4 kHz、单脉冲能量为5 mJ的ArF准分子激光器上进行了实验研究。结果表明,当脉冲个数仅为20时算法控制下的剂量精度即可达0.89%,不但满足亚微米光刻越来越严的剂量要求,而且有助于提高光刻机生产效率和激光器使用效率。
关键词
应用光学
深紫外准分子激光
剂量控制
扫描曝光
光刻机
能量超调
脉冲能量随机波动
Keywords
applied optics
duv
excimer
laser
dose control
scan exposure
lithography
energy overshot
pulse energy stochastic fluctuation
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
宽带折反射式紫外光刻物镜的设计
4
作者
张雨东
邹海兴
王之江
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第4期358-364,共7页
文摘
本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和较高的数值孔径.以宽带准分子激光或短弧汞氙灯做光源,无需另加色散补偿光学元件,可以进行同轴对准.
关键词
紫外光刻物镜
工作宽带
数值孔径
Keywords
lithography.
duv
lithography, exoimer
laser
lithography, submioron, lithography.
分类号
TN23 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光纤的激光微结构加工及对强度的影响
徐刚
戴玉堂
《机械科学与技术》
CSCD
北大核心
2011
0
下载PDF
职称材料
2
深紫外非线性晶体KBe_2BO_3F_2的光学倍频特性
宋春荣
赵建君
刘进
《军械工程学院学报》
2010
0
下载PDF
职称材料
3
深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究
刘世元
吴小健
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
6
原文传递
4
宽带折反射式紫外光刻物镜的设计
张雨东
邹海兴
王之江
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992
0
原文传递
已选择
0
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