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X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应研究 被引量:6
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作者 韩小元 卓尚军 王佩玲 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期353-357,共5页
研究了X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应。根据多层膜中的X荧光强度理论计算公式编写了计算机程序,并计算了Zn/Fe和Fe/Zn双层膜样品中不同薄膜厚度时FeKα的一次荧光强度、二次荧光强度、二次荧光与一次荧光强度比以及二次荧光... 研究了X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应。根据多层膜中的X荧光强度理论计算公式编写了计算机程序,并计算了Zn/Fe和Fe/Zn双层膜样品中不同薄膜厚度时FeKα的一次荧光强度、二次荧光强度、二次荧光与一次荧光强度比以及二次荧光在总荧光强度中比例。研究发现,在多层膜样品的X射线荧光分析中,激发条件不变的情况下,元素谱线的一次荧光相对强度、二次荧光相对强度和二次荧光在总荧光强度中所占比例都随薄膜厚度及位置的变化而变化。当Fe和Zn层厚度相同时,随厚度的变化,对于Fe/Zn样品,FeKα二次荧光强度占总荧光强度最高为9%,而对于Zn/Fe样品这一比例最高可达35%。 展开更多
关键词 X射线荧光光谱 薄膜 增强效应 理论强度计算
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