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国内硅烷法制备电子级区熔用多晶硅的进展 被引量:7
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作者 牛晓龙 蔡春立 +1 位作者 何凤池 金晓鹏 《河北工业科技》 CAS 2014年第5期452-456,共5页
对硅烷热分解法制备多晶硅的工艺作了介绍,探讨了硅烷法制备电子级多晶硅的优势。硅烷CVD法所沉积的多晶硅,在电阻率、少子寿命、杂质含量等方面符合高纯多晶硅的要求,纯度不仅可以达到国标(GB/T 12963-2009)电子一级品的标准,还可以满... 对硅烷热分解法制备多晶硅的工艺作了介绍,探讨了硅烷法制备电子级多晶硅的优势。硅烷CVD法所沉积的多晶硅,在电阻率、少子寿命、杂质含量等方面符合高纯多晶硅的要求,纯度不仅可以达到国标(GB/T 12963-2009)电子一级品的标准,还可以满足区熔用超高纯多晶硅的要求。合理控制反应条件、保持反应环境的高度洁净,能够得到均匀、致密的高纯多晶硅棒,可以作为区熔法生产单晶硅棒的原料。 展开更多
关键词 硅烷热分解 多晶硅 高纯 区熔
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