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Mass-spring model for elastic wave propagation in multilayered van der Waals metamaterials
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作者 Yabin JING Lifeng WANG Yuqiang GAO 《Applied Mathematics and Mechanics(English Edition)》 SCIE EI CSCD 2024年第7期1107-1118,共12页
Multilayered van der Waals(vdW)materials have attracted increasing interest because of the manipulability of their superior optical,electrical,thermal,and mechanical properties.A mass-spring model(MSM)for elastic wave... Multilayered van der Waals(vdW)materials have attracted increasing interest because of the manipulability of their superior optical,electrical,thermal,and mechanical properties.A mass-spring model(MSM)for elastic wave propagation in multilayered vdW metamaterials is reported in this paper.Molecular dynamics(MD)simulations are adopted to simulate the propagation of elastic waves in multilayered vdW metamaterials.The results show that the graphene/MoS_(2)metamaterials have an elastic wave bandgap in the terahertz range.The MSM for the multilayered vdW metamaterials is proposed,and the numerical simulation results show that this model can well describe the dispersion and transmission characteristics of the multilayered vdW metamaterials.The MSM can predict elastic wave transmission characteristics in multilayered vdW metamaterials stacked with different two-dimensional(2D)materials.The results presented in this paper offer theoretical help for the vibration reduction of multilayered vdW semiconductors. 展开更多
关键词 multilayered van der waals(vd w)metamaterial molecular dynamics(MD) mass-spring model(MSM) dispersion relation transmission characteristic
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Magnetic Behaviour of Tb/Si Nanoscale Multilayers with Small Thickness of Rare Earth Layers
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作者 A.V. Svalov V.O. Vas'kovskiy +3 位作者 G.V. Kurlyandskaya J.M. Barandiaran N.N. Schegoleva A.N. Sorokin 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第6期1717-1719,共3页
We report the magnetic properties of Tb/Si multilayers obtained by rf-sputtering at the Tb layer thickness LTb = 3 nm. Analysis of the magnetization processes indicates more complex behaviour than canonical spinglass ... We report the magnetic properties of Tb/Si multilayers obtained by rf-sputtering at the Tb layer thickness LTb = 3 nm. Analysis of the magnetization processes indicates more complex behaviour than canonical spinglass transition. It is more probable that these multilayers contain both Tb superparamagnetic particles and Tb-Si spin-glass alloys. 展开更多
关键词 SPIN-GLASS TRANSITION gd/w multilayers TERBIUM FILMS NANOPARTICLES
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K_(10)H_3[Gd(SiMo_4W_7O_(39)_2]配合物界面扩渗Ce和Lu及其介导性能 被引量:16
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作者 周百斌 韦永德 李中华 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第8期761-763,共3页
ZHOU Bai-Bin *,1,2 WEI Yong-De 1 LI Zhong-Hua 1 ( 1 Department of Applied Chemistry,Ha rbin Institute of Technology £?Harbin£±£ì£°£°£°£±£(c)( 2 Department of Chemistry,Harbin Norm... ZHOU Bai-Bin *,1,2 WEI Yong-De 1 LI Zhong-Hua 1 ( 1 Department of Applied Chemistry,Ha rbin Institute of Technology £?Harbin£±£ì£°£°£°£±£(c)( 2 Department of Chemistry,Harbin Normal University£?Harbin£±£ì£°£°£?£°£(c) The air-solid interface reaction of Ce,Lu with K10 H 3[Gd (SiMo 4 W£*O£3£1£(c) 2]through chemistry-heated permeation is reported for the fi rst time£(r)The permeated complex is characterized by ICP and the result shows tha t the mini mum Ce,Lu can permeate into the inner sph ere of K 10 H £3 £?Gd £¨SiMo £′ W £* O £3£1 £(c) 2]The IR ,XRD patterns give the eviden ce that after permeation the comple x still keeps the Keggin structure,howe ver,its crystal structure is different from the complex before permeation£(r)The cond uctivity of the permeated complex has been measured with the four-electr ode method and the data show that the co nductivity of the complex after permeation is 10 6 times higher than that of the sample before permeation and reaches £′£(r)84 6×10 -1 S·cm -1 £(r)These indicate that the permeated c omplex is a good solid electrolyte and further appli cations are also expected£(r) 展开更多
关键词 K10H3[gd(SiMo4w7O39)2] 配合物 界面扩渗 CE LU 介导性能 稀土元素 多金属氧酸盐 化学热扩渗 导电性
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Diffusion Behavior of Cumulative He Doped in Cu/W Multilayer Nanofilms at Room Temperature
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作者 王玲 刘望 +5 位作者 李悦 石云龙 劳远侠 卢晓波 邓爱红 汪渊 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第6期95-98,共4页
Cu/W multilayer nanofilms are prepared in pure Ar and He/At mixing atmosphere by the rf magnetron sputtering method. The cross-sectional morphology and the defect distribution of the Cu/W multilayer nanofilms are char... Cu/W multilayer nanofilms are prepared in pure Ar and He/At mixing atmosphere by the rf magnetron sputtering method. The cross-sectional morphology and the defect distribution of the Cu/W multilayer nanofilms are characterized by scanning electron microscopy and Doppler broadening positron annihilation spectroscopy. The results show that plenty of point defects can be produced by introducing He during the growth of the multilayer nanofilms. With the increasing natural storage time, He located in the near surface of the Cu//W multilayer nanofilm at room temperature could be released gradually and induce the segregation of He-related defects due to the diffusion of He and defects. However, more He in the deep region spread along the interface of the Cu/W multilayer nanofilm. Meanwhile, the layer interfaces can still maintain their stability. 展开更多
关键词 of on or it is Diffusion Behavior of Cumulative He Doped in Cu/w multilayer Nanofilms at Room Temperature CU in
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等离子喷涂参数对Ta/W/Sn复合涂层组织性能的影响(英文) 被引量:5
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作者 蒋驰 周晋林 +3 位作者 肖云峰 税毅 王述刚 刘春荣 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期554-557,共4页
采用等离子喷涂方法在LY12铝上制备了Ta/W/Sn复合涂层。研究了各种工艺参数对涂层材料熔化程度和沉积效率的影响。采用扫描电子显微镜观察了复合涂层的表面及界面,精密机械天平称量涂层的增重,力学拉伸机测量涂层的抗拉结合强度,能谱和... 采用等离子喷涂方法在LY12铝上制备了Ta/W/Sn复合涂层。研究了各种工艺参数对涂层材料熔化程度和沉积效率的影响。采用扫描电子显微镜观察了复合涂层的表面及界面,精密机械天平称量涂层的增重,力学拉伸机测量涂层的抗拉结合强度,能谱和化学方法分析涂层的化学成分。结果表明,等离子喷涂工艺可以制作组织致密、厚度均匀的Ta/W/Sn复合涂层;喷涂功率和送粉速率对材料的熔化状态影响较大,在特定喷距范围内喷距的影响则较小。 展开更多
关键词 等离子喷涂 复合涂层 LY12铝
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W-Ni-Fe系机械合金化过程中的相变及热力学和动力学研究 被引量:3
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作者 张中武 周敬恩 +3 位作者 席生岐 李鹏亮 张文兴 冉广 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1045-1048,共4页
W,Ni,Fe粉末按照91.16W6.56Ni2.28Fe的成分配比进行机械合金化(MA)。用XRD确定物相,用TEM(JEM-2000CX型)观察微观形貌和显微结构。并对机械合金化粉末的物相、颗粒尺寸、晶格畸变作了分析讨论。MA可以使W-Ni-Fe系形成纳米晶超饱和固溶... W,Ni,Fe粉末按照91.16W6.56Ni2.28Fe的成分配比进行机械合金化(MA)。用XRD确定物相,用TEM(JEM-2000CX型)观察微观形貌和显微结构。并对机械合金化粉末的物相、颗粒尺寸、晶格畸变作了分析讨论。MA可以使W-Ni-Fe系形成纳米晶超饱和固溶体和非晶。参照Miedema半经验理论模型,计算了该合金系的相变驱动力,热力学分析指出该合金系不存在发生非晶化反应的化学驱动力。应用固态反应模型解释了MA过程非晶形成的热力学可能性,在MA过程中,非晶的形成并不绝对要求体系ΔHmix<<0和DB>> 展开更多
关键词 机械合金化 非晶 热力学 固态多层反应 w-Ni-Fe系
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W/SiC纳米多层膜的调制结构及调制界面 被引量:5
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作者 李戈扬 韩增虎 +1 位作者 田家万 张惠娟 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期47-50,共4页
采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清... 采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好 ,而在原子尺度上 。 展开更多
关键词 w/SiC纳米多层膜 调制结构 调制界面 钨/碳化硅
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以W为中间层的C/W多层膜的微观结构及性能研究 被引量:1
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作者 陈迪春 蒋百灵 +1 位作者 时惠英 付杨洪 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期33-37,共5页
利用非平衡磁控溅射技术在钢基体上制备以W为中间层的C/W多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对镀层的表面形貌,相组成及截面微观结构进行分析;测试镀层的膜基结合强度和摩擦性能。结果表明:C/W多... 利用非平衡磁控溅射技术在钢基体上制备以W为中间层的C/W多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对镀层的表面形貌,相组成及截面微观结构进行分析;测试镀层的膜基结合强度和摩擦性能。结果表明:C/W多层膜是由非晶碳和WC纳米晶组成的复合镀层,具有明显的层状结构,周期厚度为6.5nm;镀层具有良好的减摩性能,摩擦因数随偏压的增大而降低,-90V偏压条件下沉积的镀层具有最低的摩擦因数(0.14);镀层的膜基结合强度较差,W中间层的厚度为500nm,W中间层中存在较高的压应力,没有起到强化膜基结合强度的作用。 展开更多
关键词 磁控溅射 C/w多层膜 微观结构 结合强度 摩擦性能
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Au/Gd多层膜的制备和表征 被引量:1
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作者 张继成 王占山 +1 位作者 吴卫东 许华 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第F05期81-82,86,共3页
介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果。在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm.Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品... 介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果。在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm.Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品。X—Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9、95nm.和设计值十分吻合,原子力显微镜(AFM)的检测表明,薄膜的表面粗糙度小于1、7nm。 展开更多
关键词 磁控溅射 Au/gd(金/钆)多层膜 X-Ray衍射仪小角衍射 原子力显微镜(AFM)
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磁控溅射C/W纳米多层膜的微观结构分析
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作者 陈迪春 蒋百灵 +1 位作者 时惠英 付杨洪 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期328-332,共5页
利用非平衡磁控溅射离子镀技术以纯钨靶和纯石墨靶作为溅射源制备了C/W纳米多层膜。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对薄膜相组成及其微观组织结构进行了分析。结果表明:W含量约为9 at.%的C/W... 利用非平衡磁控溅射离子镀技术以纯钨靶和纯石墨靶作为溅射源制备了C/W纳米多层膜。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对薄膜相组成及其微观组织结构进行了分析。结果表明:W含量约为9 at.%的C/W薄膜具有周期厚度约为6.5 nm的多层结构;沉积的W元素不以单质态存在,而是与碳元素反应生成了WC纳米晶;薄膜中的碳为非晶态,碳主要以sp2键类石墨态存在。 展开更多
关键词 磁控溅射 C/w多层膜 TEM XPS
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AlN/w-BN纳米多层膜的制备及其显微结构
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作者 喻利花 农尚斌 +1 位作者 董师润 许俊华 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期22-26,共5页
用射频磁控溅射法在硅基片上制备了AlN、BN单层膜及AlN/BN纳米多层膜,采用X射线衍射仪、傅立叶变换红外光谱仪、小角度X射线反射仪、高分辨率透射电子显微镜和原子力显微镜等对其进行了表征。结果表明:AlN/BN多层膜具有(103)择优取向,... 用射频磁控溅射法在硅基片上制备了AlN、BN单层膜及AlN/BN纳米多层膜,采用X射线衍射仪、傅立叶变换红外光谱仪、小角度X射线反射仪、高分辨率透射电子显微镜和原子力显微镜等对其进行了表征。结果表明:AlN/BN多层膜具有(103)择优取向,并且当AlN层厚固定时,随着BN层厚的增加,(103)择优取向得到强化;AlN单层膜及AlN/BN纳米多层膜均呈岛状生长,多层膜界面粗糙度及表面粗糙度均随着BN层厚的增加而减小;多层膜中BN的结构与BN的层厚有关,当AlN层厚保持在4.0 nm且BN层厚为0.32~0.55 nm时,可获得晶态w-BN,当BN层厚增至0.74 nm时,BN呈非晶态。 展开更多
关键词 AlN/w-BN纳米多层膜 射频磁控溅射 显微结构
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W/SiC纳米多层膜的制备及表征
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作者 李戈扬 辛挺辉 +2 位作者 吴亮 李鹏兴 张流强 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第4期279-282,共4页
采用多靶磁控溅射制备了 W/SiC纳米多层膜。并用 XRD和 TEM研究了 W/SiC纳米多层膜的微结构。研究表明,W/SiC纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好;SiC调制层为非晶态,W调制层在大调制周期为纳米... 采用多靶磁控溅射制备了 W/SiC纳米多层膜。并用 XRD和 TEM研究了 W/SiC纳米多层膜的微结构。研究表明,W/SiC纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好;SiC调制层为非晶态,W调制层在大调制周期为纳米晶,并随调制周期减小逐渐转变为非晶态。 展开更多
关键词 纳米 多层膜 多靶溅射 调制结构 碳化硅
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基于热力耦合多W型金属封严环疲劳寿命预测
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作者 李伟平 贾占举 +2 位作者 尹文锋 程家旺 冉晶 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期41-47,共7页
针对多W型金属封严环在高温高压工作环境下的疲劳寿命预测问题,综合考虑燃气温度、介质压力和螺栓预紧等载荷作用,基于热力耦合的方法完成了多W型金属封严环应力分析及疲劳寿命预测.结果表明:封严环最大应力位置与疲劳寿命最小位置一致... 针对多W型金属封严环在高温高压工作环境下的疲劳寿命预测问题,综合考虑燃气温度、介质压力和螺栓预紧等载荷作用,基于热力耦合的方法完成了多W型金属封严环应力分析及疲劳寿命预测.结果表明:封严环最大应力位置与疲劳寿命最小位置一致,均在波峰圆弧外侧表面处;燃气温度500℃、介质压差0.5 MPa条件下该封严环疲劳寿命达到最高;文中提出的预测金属封严环疲劳寿命的方法比较可靠,为先进金属封严环的设计提供了参考. 展开更多
关键词 w型金属封严环 耦合计算 强度 疲劳
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用IBAD方法合成ZrN/W纳米多层膜 被引量:2
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作者 张晶晶 王明霞 +2 位作者 杨瑾 刘谦祥 李德军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期133-136,154,共5页
本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm^10 nm)的纳米多层膜。利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构... 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm^10 nm)的纳米多层膜。利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构和机械性能,分析了不同调制周期对薄膜结构与机械性能的影响。结果表明:多层膜的机械性能普遍优于两种个体材料的混合相;在调制周期为8.6 nm时,显示出强的ZrN(111),W(110)织构和较弱的ZrN(220)峰,与其他条件下制备的样品比较,它具有较高的硬度(~26 GPa),较高的弹性模量(~310 GPa)和较强的膜基结合力(~80 mN)。低角度XRD分析证明了薄膜的多层结构。 展开更多
关键词 IBAD ZrN/w 多层膜 超晶格
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低温退火的X射线W/Si多层膜应力和结构性能 被引量:1
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作者 张金帅 黄秋实 +5 位作者 蒋励 齐润泽 杨洋 王风丽 张众 王占山 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第8期281-287,共7页
W/Si多层膜反射镜在硬X射线天文望远镜中有重要应用.为减小其应力对反射镜面形和望远镜分辨率的影响,同时保证较高的反射率,采用150,175和200°C的低温退火工艺对采用磁控溅射镀制的W/Si周期多层膜进行后处理.利用掠入射X射线反射... W/Si多层膜反射镜在硬X射线天文望远镜中有重要应用.为减小其应力对反射镜面形和望远镜分辨率的影响,同时保证较高的反射率,采用150,175和200°C的低温退火工艺对采用磁控溅射镀制的W/Si周期多层膜进行后处理.利用掠入射X射线反射测试和样品表面面形测试对退火前后W/Si多层膜的应力和结构进行表征.结果表明,在150°C退火3 h后,多层膜1级峰反射率和膜层结构几乎没有发生变化,应力减少约27%;在175°C退火3 h后,多层膜膜层结构开始发生变化,应力减少约50%;在200°C退火3 h后,多层膜应力减小超过60%,但1级布拉格峰反射率相对下降17%,且膜层结构发生了较大变化.W,Si界面层的增大和相互扩散加剧是应力和反射率下降的主要原因. 展开更多
关键词 X射线 w/Si多层膜 退火 应力
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具有优良隔热和力学性能的低热导率W/Al2O3纳米多层功能膜的构建 被引量:1
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作者 吴珊妮 赵远 +2 位作者 姜宏 文峰 熊春荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期2023-2028,共6页
本研究以高纯W与Al2O3为靶材,在常温下采用磁控溅射法在钠钙硅玻璃表面交替镀制了W及Al2O3纳米多层膜。在多层膜总厚度相同的条件下,研究了不同W/Al2O3周期厚度对隔热性能的影响。采用台阶仪、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、场发射... 本研究以高纯W与Al2O3为靶材,在常温下采用磁控溅射法在钠钙硅玻璃表面交替镀制了W及Al2O3纳米多层膜。在多层膜总厚度相同的条件下,研究了不同W/Al2O3周期厚度对隔热性能的影响。采用台阶仪、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、场发射透射电镜(TEM)等对多层膜的形貌及结构进行了表征。采用瞬态热反射法(TTR)、纳米压痕仪分别分析了多层膜的隔热性能和力学性能。结果表明,实验沉积的多层膜中各单层均匀连续,不存在断层现象,且层间界面清晰。Al2O3膜层呈非晶形态,W膜层具有亚稳态β-W(210)的择优取向,并在周期厚度为5 nm时呈现明显的非晶态。随着膜层界面密度的增大,多层膜的热阻增大,热导率减小,硬度增大。周期厚度为5 nm、膜层数为41层的W/Al2O3多层膜具有较为优异的隔热性能与力学性能,其热阻为3.14×10^-7 m^2·K·W^-1,有效热导率为0.36 W·m^-1·K^-1,硬度为8.53 GPa,膜/基结合力为42.20 mN。所制备的多层膜在室温到500℃之间具有良好的热稳定性。 展开更多
关键词 w/Al2O3多层膜 磁控溅射 热导率 周期厚度 瞬态热反射法
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空心微球上Al-W多层涂层的制备与表征
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作者 孙书兵 刘艳松 +4 位作者 何小珊 王锋 何智兵 黄景林 刘磊 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第24期4297-4302,共6页
在惯性约束聚变研究中,高-低Z金属涂层对提高靶丸的性能具有重要的作用。本实验采用直流磁控溅射技术和驱动微球运动的倾斜旋转托盘与敲击装置,在GDP空心微球表面溅射了不同工作气压的Al-W多层涂层,利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM... 在惯性约束聚变研究中,高-低Z金属涂层对提高靶丸的性能具有重要的作用。本实验采用直流磁控溅射技术和驱动微球运动的倾斜旋转托盘与敲击装置,在GDP空心微球表面溅射了不同工作气压的Al-W多层涂层,利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)研究气压变化对多层涂层质量的影响规律。结果表明:多层涂层的厚度均匀性好,达90%以上,涂层均呈致密的柱状晶生长,残余应力小,涂层质量受工作气压影响显著。涂层结构的致密度随气压增大而下降,涂层的形貌与颗粒尺寸发生相应的变化,致使多层涂层的表面粗糙度随气压增大呈现出先减小后增大的变化趋势。当工作气压为0.5Pa时,Al-W涂层的综合性能最好,表面颗粒形貌为细小均匀的塔形,表面粗糙度值低至331.1nm,残余应力小。 展开更多
关键词 Al-w多层涂层 工作气压 壁厚均匀性 柱状晶 表面粗糙度
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稀土元素Gd对Co/Pt多层膜居里温度的影响 被引量:3
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作者 石红 赵辉 +2 位作者 李晖云 吴隽 张永俐 《贵金属》 CAS CSCD 2003年第2期37-41,共5页
采用镶嵌靶法制备添加稀土元素Gd的Co/Pt多层膜 ,以θk=0和铁磁性消失的温度表征居里温度 (Tc)。研究结果表明 :添加适量Gd于Co/Pt多层膜中 ,其Tc <2 0 0℃ ;在本工作研究的成分范围内 ,Tc随Gd含量增加而降低。运用分子场理论讨论了T... 采用镶嵌靶法制备添加稀土元素Gd的Co/Pt多层膜 ,以θk=0和铁磁性消失的温度表征居里温度 (Tc)。研究结果表明 :添加适量Gd于Co/Pt多层膜中 ,其Tc <2 0 0℃ ;在本工作研究的成分范围内 ,Tc随Gd含量增加而降低。运用分子场理论讨论了Tc与交换作用的关系 ,并根据s 展开更多
关键词 Co/Pt多层膜 居里温度 稀土 gd s—f电子交换模型 磁光存储
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Microstructure and mechanical properties of as-cast Mg-8Li-xZn-yGd(x=1,2,3,4;y=1,2) alloys 被引量:6
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作者 Si-jie OUYANG Wen-cai LIU +5 位作者 Guo-hua WU Hao JI Zhan-kui GAO Xiang PENG Zhong-quan LI Wen-jiang DING 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第6期1211-1222,共12页
The as-cast Mg-8 Li-xZn-yGd(x=1 2, 3,4;y=1,2;wt.%)alloys were prepared in a vacuum induction furnace and their microstructure and mechanical properties were investigated. The results show that the increase of Zn conte... The as-cast Mg-8 Li-xZn-yGd(x=1 2, 3,4;y=1,2;wt.%)alloys were prepared in a vacuum induction furnace and their microstructure and mechanical properties were investigated. The results show that the increase of Zn content results in the volume fraction of W-phase(Mg3 Zn3 Gd2) increasing while that of Mg3 Gd phase decreasing. The strength of Mg-8 Li-xZn-1 Gd alloys is improved with the increase of Zn content,which is ascribed to the second phase strengthening of fine strip-like W-phase and the solid solution strengthening of Zn element.For Mg-8 Li-4 Zn-yGd alloys,the increase of Gd content leads to the appearance of coarse and discontinuous net-like W-phase, which decreases the strength. The Mg-8 Li-4 Zn-1 Gd alloy exhibits an optimum comprehensive performance with the yield strength, ultimate tensile strength and elongation of 154.7 MPa, 197.0 MPa and 12.4%, respectively. In addition,the aging behavior of the typical alloys was also investigated. 展开更多
关键词 Mg-Li-Zn-gd alloy w-phase microstructure mechanical properties aging behavior
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不同溅射气压制备W/Si多层膜的实时应力研究
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作者 张一志 冀斌 +3 位作者 叶天明 陈进文 朱京涛 吴文娟 《光学仪器》 2015年第5期466-470,共5页
研究了不同溅射气压条件下磁控溅射制备W/Si多层膜过程中的应力变化,使用X射线衍射仪测量了多层膜的结构,使用实时应力测量装置研究W/Si多层膜沉积过程中的应力演变。结果表明,在溅射气压从0.05Pa增加到1.10Pa的过程中,薄膜沉积过程中... 研究了不同溅射气压条件下磁控溅射制备W/Si多层膜过程中的应力变化,使用X射线衍射仪测量了多层膜的结构,使用实时应力测量装置研究W/Si多层膜沉积过程中的应力演变。结果表明,在溅射气压从0.05Pa增加到1.10Pa的过程中,薄膜沉积过程中产生的压应力不断减小并最终过渡为张应力,应力值在溅射气压为0.60Pa时最小,研究结果对减小膜层应力具有指导意义。 展开更多
关键词 应力 多层膜 磁控溅射 溅射气压 w/si
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