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GaInNAs/GaAs量子阱太阳电池模型建立与计算 被引量:2
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作者 周福成 唐吉玉 陈俊芳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期348-351,共4页
对第三代太阳电池的InGaP/GaAs双叠层模型结构进行了理论性改进,提出了将GaInNAs/GaAs量子阱结构生长于子电池GaAs的空间电荷区的模型,并对其子电池的吸收效率与量子效率进行了模拟计算,分析了此模型对提高叠层太阳电池的整体光电转换... 对第三代太阳电池的InGaP/GaAs双叠层模型结构进行了理论性改进,提出了将GaInNAs/GaAs量子阱结构生长于子电池GaAs的空间电荷区的模型,并对其子电池的吸收效率与量子效率进行了模拟计算,分析了此模型对提高叠层太阳电池的整体光电转换效率的可行性。 展开更多
关键词 太阳电池 gainnas/gaas 量子阱 吸收效率 IQE
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GaInNAs/GaAs量子阱的光致发光谱和光调制反射谱
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作者 梁晓甘 江德生 +3 位作者 边历峰 潘钟 李联合 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1281-1285,共5页
研究了 Ga In NAs/Ga As多量子阱在不同温度和激发功率下的光致发光 (PL )谱以及光调制反射 (PR)谱 .发现 PL谱主发光峰的能量位置随温度的变化不满足 Varshni关系 ,而是呈现出反常的 S型温度依赖关系 .进一步测量 ,特别是在较低的激发... 研究了 Ga In NAs/Ga As多量子阱在不同温度和激发功率下的光致发光 (PL )谱以及光调制反射 (PR)谱 .发现 PL谱主发光峰的能量位置随温度的变化不满足 Varshni关系 ,而是呈现出反常的 S型温度依赖关系 .进一步测量 ,特别是在较低的激发光功率密度下 ,发现有两个不同来源的发光峰 ,它们分别对应于氮引起的杂质束缚态和带间的激子复合发光 .随温度变化 ,这两个发光峰相对强度发生变化 ,造成主峰 (最强的峰 )的位置发生切换 ,从而导致表观上的 S型温度依赖关系 . 展开更多
关键词 gainnas/gaas量子阱 光致发光谱 光调制反射谱 氮化物 半导体 镓铟氮砷化合物
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In原子掺入对GaInNAs/GaAs单量子阱光致发光的影响 被引量:1
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作者 王志路 张志伟 孙宝权 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期151-155,共5页
研究了In掺入GaNAs/GaAs单量子阱对其带间和低于带边发光性质的影响。实验结果显示 ,随着In浓度的增加 ,GaInNAs/GaAs量子阱带间发光得到改善 ,低于带边的发光强度大大地减小。这是由于GaIn NAs合金生长在GaAs衬底上 ,为补偿In和N原子... 研究了In掺入GaNAs/GaAs单量子阱对其带间和低于带边发光性质的影响。实验结果显示 ,随着In浓度的增加 ,GaInNAs/GaAs量子阱带间发光得到改善 ,低于带边的发光强度大大地减小。这是由于GaIn NAs合金生长在GaAs衬底上 ,为补偿In和N原子尺度的差异 ,N原子更倾向于与In原子形成共价健。GaInNAs/GaAs单量子阱的光调制光谱证实了高能端发光峰来自本征的带边发光。 展开更多
关键词 量子阱 低于带边发光 本征发光 光致发光 半导体
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GaInNAs/GaAs量子阱激光器的发展与未来 被引量:2
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作者 林耀望 潘钟 +2 位作者 李联合 张伟 王学宇 《光电子技术与信息》 2000年第4期1-6,共6页
GaInNAs是一种直接带隙半导体材料,在长彼长(1.30和 1.55μm)光通信系统 中具有广阔的应用前景.通过调节 In和 N的组分,既可获得应变 GaInNAs外延材料,也可制 备GaInNAs与GaAs匹配的异质结... GaInNAs是一种直接带隙半导体材料,在长彼长(1.30和 1.55μm)光通信系统 中具有广阔的应用前景.通过调节 In和 N的组分,既可获得应变 GaInNAs外延材料,也可制 备GaInNAs与GaAs匹配的异质结构,其波长覆盖范围为0.9-N2.0μm.GaInNAs/GaAs 量子阱激光器的特征温度为 200 K,远大于现行 GaInNAsP/InP激光器的特征温度(T0=50 K). GaInNAs光电子器件的此优异特性,对于提高光纤通信系统的稳定性、可靠寿命具有特 别重要的意义.由于GaInNAs和具有高反射率(高达99%)AI(Ga)As/GaAs的分布布拉格 反射镜(DBR)可生长在同-GaAs衬底上,因此它是长波长(1.30和 1.55 μm)垂直腔面 发射激光器(VCSEL)的理想材料.垂直腔面发射激光器是光纤通信、互联网和光信号处理的 关键器件. GaAs基的超高速集成电路(IC)已有相当成熟的工艺.如果 GaInNAs-VCSEL 与 GaAs-IC相结合,将使光电集成电路(OEIC)开拓出崭新的局面.本文还报道我们课题 组研制高质量 GaNAs/GaAs超晶格和大应变 展开更多
关键词 gainnas gaas 量子阱激光器 半导体激光器
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应变GaInNAs/GaAs量子阱光增益特性研究
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作者 俞波 韩军 +6 位作者 李建军 盖红星 牛南辉 邓军 邢艳辉 廉鹏 沈光地 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期232-234,243,共4页
采用近似方法对GaInNAs材料的能带结构进行了分析,并计算了应变GaInNAs/GaAs量子阱能级,在此基础上进一步计算了应变GaInNAs/GaAs量子阱的材料光增益谱。对计算结果的分析表明,应变GaInNAs/GaAs量子阱材料是一种可以应用于1300nm波段的... 采用近似方法对GaInNAs材料的能带结构进行了分析,并计算了应变GaInNAs/GaAs量子阱能级,在此基础上进一步计算了应变GaInNAs/GaAs量子阱的材料光增益谱。对计算结果的分析表明,应变GaInNAs/GaAs量子阱材料是一种可以应用于1300nm波段的新型长波长半导体光电子材料。 展开更多
关键词 应变量子阱 光增益 gainnas
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快速热退火对GaInNAs/GaAs单量子阱反常温度特性研究
6
作者 边历峰 江德生 陆书龙 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期582-584,共3页
分析了MBE生长的GaInNAs/GaAs单量子阱样品的光致荧光谱 (PL) ,细致地研究了在弱激发功率下GaInNAs/GaAs样品的发光峰位的S 型反常温度依赖关系。并对材料进行了退火处理 ,结果发现退火有效地改善材料的发光特性 ,并且会造成S 型的转变... 分析了MBE生长的GaInNAs/GaAs单量子阱样品的光致荧光谱 (PL) ,细致地研究了在弱激发功率下GaInNAs/GaAs样品的发光峰位的S 型反常温度依赖关系。并对材料进行了退火处理 ,结果发现退火有效地改善材料的发光特性 ,并且会造成S 型的转变温度降低 ,从而说明退火可以有效地减少局域态。 展开更多
关键词 MBE gainnas 光致荧光谱(PL) S-型温度依赖关系
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High-Temperature Characteristics of GaInNAs/GaAs Single-Quantum-Well Lasers Grown by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy
7
作者 PAN Zhong LI Lian-He +2 位作者 DU Yun LIN Yao-Wang WU Rong-Han 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2001年第5期659-661,共3页
GaInNAs/GaAs single-quantum-well(SQW)lasers have been grown by solid-source molecular beam epitaxy.N is introduced by a home-made dc-active plasma source.Incorporation of N into InGaAs decreases the bandgap significan... GaInNAs/GaAs single-quantum-well(SQW)lasers have been grown by solid-source molecular beam epitaxy.N is introduced by a home-made dc-active plasma source.Incorporation of N into InGaAs decreases the bandgap significantly.The highest N concentration of 2.6%in GaInNAs/GaAs QW is obtained,corresponding to the photoluminescence(PL)peak wavelength of 1.57μm at 10 K.The PL peak intensity decreases rapidly and the PL full width at half maximum increases with the increasing N concentrations.Rapid thermal annealing at 850℃ could significantly improve the crystal quality of the QWs.An optimum annealing time of 5s at 850℃ was obtained.The GaInNAs/GaAs SQW laser emitting at 1.2μm exhibits a high characteristic temperature of 115 K in the temperature range of 20℃-75℃. 展开更多
关键词 gainnas/gaas EPITAXY LASERS
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Material Growth and Device Fabrication of GaAs Based 1.3μm GaInNAs Quantum Well Laser Diodes 被引量:1
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作者 牛智川 韩勤 +11 位作者 倪海桥 杨晓红 徐应强 杜云 张石勇 彭红玲 赵欢 吴东海 李树英 贺振宏 任正伟 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1860-1864,共5页
Material growth and device fabrication of the first 1.3μm quantum well (QW) edge emitting laser diodes in China are reported. Through the optimization of the molecular beam epitaxy (MBE) growth conditions and the... Material growth and device fabrication of the first 1.3μm quantum well (QW) edge emitting laser diodes in China are reported. Through the optimization of the molecular beam epitaxy (MBE) growth conditions and the tuning of the indium and nitrogen composition of the GalnNAs QWs, the emission wavelengths of the QWs can be tuned to 1.3μm. Ridge geometry waveguide laser diodes are fabricated. The lasing wavelength is 1.3μm under continuous current injection at room temperature with threshold current of 1kA/cm^2 for the laser diode structures with the cleaved facet mirrors. The output light power over 30mW is obtained. 展开更多
关键词 gaas based materials GalnNAs quantum wells molecular beam epitaxy laser diodes
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GaAs基GaInNAs太阳电池研究进展
9
作者 李景灵 高芳亮 李国强 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期913-919,共7页
在研究新型高效GaAs基三结和四结太阳电池过程中,研究者努力寻找一种既满足能隙约为1eV,同时又与GaAs衬底晶格匹配的半导体材料。通过调节组分,GaInNAs可同时满足上述两个特性,因此GaInNAs被认为是制备新型高效多结GaAs基太阳电池的理... 在研究新型高效GaAs基三结和四结太阳电池过程中,研究者努力寻找一种既满足能隙约为1eV,同时又与GaAs衬底晶格匹配的半导体材料。通过调节组分,GaInNAs可同时满足上述两个特性,因此GaInNAs被认为是制备新型高效多结GaAs基太阳电池的理想材料。但实际上,制备高晶体质量GaInNAs材料十分困难,造成所制备的器件性能低下,未能达到实际要求。探讨了导致GaInNAs材料生长困难的机理,并对当前GaAs基GaInNAs太阳电池材料的研究历程和技术现状进行了概述。在此基础上,展望了GaInNAs技术的未来走向。 展开更多
关键词 gaas gainnas 太阳电池
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Effects of Rapid Thermal Annealing on OpticalProperties of GaInNAs/ GaAs Single Quantum Well Grown by Plasma- Assisted Molecular Beam Epitaxy 被引量:1
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作者 张伟 潘钟 +2 位作者 李联合 王学宇 林耀望 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第10期974-978,共5页
The effects of Rapid Thermal Annealing (RTA) on the optical properties of GaInNAs/GaAs Single Quantum Well (SQW) grown by plasma assisted molecular beam epitaxy are investigated. Ion removal magnets were applied to re... The effects of Rapid Thermal Annealing (RTA) on the optical properties of GaInNAs/GaAs Single Quantum Well (SQW) grown by plasma assisted molecular beam epitaxy are investigated. Ion removal magnets were applied to reduce the ion damage during the growth process and the optical properties of GaInNAs/GaAs SQW are remarkably improved. RTA was carried out at 650℃ and its effect was studied by the comparising the room\|temperature PhotoLuminescence (PL) spectra for the non ion removed (grown without magnets) sample with for the ion removed (grown with magnets) one. The more significant improvement of PL characteristics for non ion removed GaInNAs/GaAs SQW after annealing (compared with those for ion removed) indicates that the nonradiative centers removed by RTA at 650℃ are mainly originated from ion damage. After annealing the PL blue shift for non ion removed GaInNAs/GaAs SQW is much larger than those for InGaAs/GaAs and ion removed GaInNAs/GaAs SQW. It is found that the larger PL blue shift of GaInNAs/GaAs SQW is due to the defect assisted In Ga interdiffusion rather than defect assisted N As interdiffusion. 展开更多
关键词 gainnas 砷化镓 快速热退火 光学特性
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基于DBR增强的850 nm GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器 被引量:1
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作者 王健 窦志鹏 +10 位作者 李光昊 黄晓峰 于千 郝智彪 熊兵 孙长征 韩彦军 汪莱 李洪涛 甘霖 罗毅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期25-28,共4页
高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/... 高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/低Al组分的Al_(x)Ga_(1-x)As三元合金组成,可以在830~870 nm范围内形成大于0.9的反射。在AlGaAs DBR的增强下,将GaAs吸收层所需的厚度降低到1 040 nm,兼顾PD对光的吸收率和光生载流子的渡越时间。采用双台面、聚合物平面化、共面波导电极结构制作了UTC-PD器件。该器件在850 nm波长、-2 V偏压下具有19.26 GHz的-3 dB带宽和0.492 6 A/W的响应度。 展开更多
关键词 gaas ALgaas 光电探测器 单行载流子 分布布拉格反射器 850 nm波长
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
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作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质结双极晶体管(HBT) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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VGF半绝缘GaAs单晶片的碱腐蚀特性研究
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作者 于妍 吕菲 +1 位作者 李纪伟 康洪亮 《电子工业专用设备》 2024年第1期48-50,共3页
研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的... 研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的TTV和粗糙度比较稳定。 展开更多
关键词 垂直梯度凝固法(VGF) 半绝缘 砷化镓(gaas) 碱性腐蚀
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弱光触发下GaAs光电导开关的载流子输运和热失效机制
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作者 司鑫阳 徐鸣 +2 位作者 王文豪 常家豪 王铖杰 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2024年第7期2153-2160,共8页
弱光触发下高倍增砷化镓光电导开关(GaAs PCSS)内以丝状电流为表现形式的载流子输运机制对其瞬态工作特性和寿命研究有重要意义。该文基于有限元方法构建了GaAs PCSS的物理模型,结合丝状电流的生热机制对1.5μJ弱光触发下开关的瞬态输... 弱光触发下高倍增砷化镓光电导开关(GaAs PCSS)内以丝状电流为表现形式的载流子输运机制对其瞬态工作特性和寿命研究有重要意义。该文基于有限元方法构建了GaAs PCSS的物理模型,结合丝状电流的生热机制对1.5μJ弱光触发下开关的瞬态输出电流和晶格温度进行了仿真分析,考察了偏置电场对GaAs PCSS输出特性的影响。通过不同时刻开关内部的瞬态电场、电子浓度和晶格温度等方面研究了高倍增模式下GaAs PCSS的光生载流子输运过程和损伤机理。结果表明,高密度丝状电流的存在伴随于高场畴的产生和发展。开关内部电场越高,负微分效应引起的载流子聚束现象越明显,相应的电子浓度和晶格温度值也越高;在浓度达1017 cm^(-3)数量级的等离子体通道中,阳极附近电场强度和晶格温度最大值分别为220 kV/cm和821.92 K。 展开更多
关键词 gaas 光电导开关 高倍增模式 丝状电流 输运机制
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基于GaAs工艺的片上宽带功率分配器
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作者 李辰辰 高一强 +3 位作者 孙晓玮 钱蓉 周健 杨明辉 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第1期95-98,共4页
提出了一种基于砷化镓—集成无源器件(GaAs-IPD)工艺的宽带3dB功率分配器。使用多节级联以及集总参数等效的方法,实现了宽带小型化设计;使用RC串联隔离网络实现宽带内的高隔离性能。对提出的功分器进行了理论分析,并以20GHz为中心频率... 提出了一种基于砷化镓—集成无源器件(GaAs-IPD)工艺的宽带3dB功率分配器。使用多节级联以及集总参数等效的方法,实现了宽带小型化设计;使用RC串联隔离网络实现宽带内的高隔离性能。对提出的功分器进行了理论分析,并以20GHz为中心频率完成设计,电路尺寸为0.04λ0×0.053λ0,λ0为中心频率处的自由空间波长。经过测试,其相对工作带宽为80%,带内插损0.7dB,端口隔离高于20dB。测试结果与仿真结果保持了良好的一致性。 展开更多
关键词 功率分配器 砷化镓工艺 宽带 集成无源器件
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透射式GaAs光电阴极性能提高以及结构优化
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作者 吕行 富容国 +2 位作者 常本康 郭欣 王芝 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期266-272,共7页
为了提高透射式GaAs光电阴极性能,将国内与美国ITT公司的透射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行对比,可知我国透射式光电阴极积分灵敏度已经达到2130μA/lm,美国ITT达到了2330μA/lm.利用修正后的量子效率、光学性能以及积分灵敏度的理论... 为了提高透射式GaAs光电阴极性能,将国内与美国ITT公司的透射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行对比,可知我国透射式光电阴极积分灵敏度已经达到2130μA/lm,美国ITT达到了2330μA/lm.利用修正后的量子效率、光学性能以及积分灵敏度的理论模型,分别对两者进行光学结构拟合.结果表明,国内光电阴极在窗口层和发射层的厚度、电子扩散长度以及后界面复合速率等方面均与ITT有一定差距.为了缩短两者的差距,优化阴极结构参数,具体研究了电子扩散长度和发射层厚度对量子效率的影响,结果表明如果均匀掺杂透射式GaAs光电阴极发射层厚度为1.3μm、电子扩散长度为7μm,则积分灵敏度可以达到2800μA/lm以上. 展开更多
关键词 Ga As光电阴极 透射式 结构优化 光学性能 光电发射性能
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基于0.1-μm GaAs pHEMT工艺的最小噪声系数3.9 dB的66~112.5 GHz低噪声放大器
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作者 李泽坤 陈继新 +1 位作者 郑司斗 洪伟 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期187-191,共5页
本文基于0.1-μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT)工艺,研制了一款覆盖整个W波段的宽带低噪声放大器。提出了一种由双并联电容组成的旁路电路,能够提供宽带射频接地,减小了级间串扰,利于实现宽带匹配。采用双谐振匹配网络实现... 本文基于0.1-μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT)工艺,研制了一款覆盖整个W波段的宽带低噪声放大器。提出了一种由双并联电容组成的旁路电路,能够提供宽带射频接地,减小了级间串扰,利于实现宽带匹配。采用双谐振匹配网络实现了宽带的输入匹配和最佳噪声匹配。实测结果显示,最大增益在108 GHz处达到20.4 dB,在66~112.5 GHz范围内,小信号增益为16.9~20.4 dB。在90 GHz处,实测噪声系数为3.9 dB。实测的输入1-dB压缩点在整个W波段内约为-12 dBm。 展开更多
关键词 砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 低噪声放大器 宽带 W波段
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基于GaAs肖特基二极管单片集成技术的330~400 GHz三倍频器
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作者 纪东峰 代鲲鹏 +1 位作者 王维波 余旭明 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第5期396-400,共5页
基于砷化镓肖特基二极管研制了工作频率为330~400 GHz的三倍频器。在三倍频电路中,通过将二极管管芯排布方向与信号传输方向垂直,形成了无偏置反向并联型结构,实现对偶次谐波的抑制和对奇次谐波的增强,提高了三倍频器倍频效率。为减小... 基于砷化镓肖特基二极管研制了工作频率为330~400 GHz的三倍频器。在三倍频电路中,通过将二极管管芯排布方向与信号传输方向垂直,形成了无偏置反向并联型结构,实现对偶次谐波的抑制和对奇次谐波的增强,提高了三倍频器倍频效率。为减小电路封装误差,采用单片集成技术将二极管和外围电路集成在25μm厚的砷化镓衬底上实现三倍频芯片。并将芯片封装入一体设计的屏蔽腔中构成了波导-悬置微带线结构来减小电路损耗。实测结果显示,在330~400 GHz范围内,当输入功率为22 dBm时,三倍频器输出功率大于5.5 dBm,并有优于7 dBm的峰值输出功率。 展开更多
关键词 三倍频器 太赫兹 砷化镓肖特基二极管 单片集成技术
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一种基于GaAs pHEMT工艺的18~40 GHz六位高精度数控移相器
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作者 张天羽 韩群飞 陶洪琪 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第3期213-218,共6页
基于0.15μm GaAs pHEMT工艺研制了一款工作频率为18~40 GHz的高精度六位数控移相器芯片。其中5.625°、11.25°和22.5°移相位采用了改进型的串并联电容移相结构,该结构可通过增加串联电感改善移相精度;45°和90°... 基于0.15μm GaAs pHEMT工艺研制了一款工作频率为18~40 GHz的高精度六位数控移相器芯片。其中5.625°、11.25°和22.5°移相位采用了改进型的串并联电容移相结构,该结构可通过增加串联电感改善移相精度;45°和90°移相位采用了磁耦合全通网络型移相结构;180°移相位使用了基于串并联谐振结构的改进型移相器电路,拓展了移相器带宽,提高了移相精度。移相器芯片的实际加工面积为2.8 mm×1.4 mm。芯片的测试结果表明,在18~40 GHz频率范围内,移相精度均方根误差小于2.3°,移相寄生调幅均方根误差小于0.7 dB,全态损耗小于13.5 dB,全态输入、输出驻波分别小于1.7、1.9。 展开更多
关键词 移相器 毫米波 超宽带 全通网络 砷化镓
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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
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作者 ZHANG Zhihong MENG Bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 gaas nanowires gaas/Algaas core-shell structure crystal phase optical property
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