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Influence of Polarization-Induced Electric Field on Subband Structure in AlxGa1-xN/GaN Double Quantum Wells 被引量:1
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作者 雷双英 沈波 张国义 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第6期1574-1577,共4页
关键词 偏振感应电场 次带结构 alxga1-xn/gan双量子阱 量子论
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GaN和AlxGa1-xN/CaN异质结的高温性质
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作者 王茂俊 沈波 +5 位作者 王彦 黄森 许福军 许谏 杨志坚 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期376-378,共3页
通过高温Hall测量研究了GaN和AlxGa1-xN/GaN异质结从室温到500℃高温下的输运性质.实验发现GaN背景载流子浓度随着温度的升高而升高,载流子浓度变化的幅度和GaN的位错密度存在正比关系,持续光电导的跃迁幅度和GaN的位错密度也存在正比关... 通过高温Hall测量研究了GaN和AlxGa1-xN/GaN异质结从室温到500℃高温下的输运性质.实验发现GaN背景载流子浓度随着温度的升高而升高,载流子浓度变化的幅度和GaN的位错密度存在正比关系,持续光电导的跃迁幅度和GaN的位错密度也存在正比关系,说明位错相关的深施主或者陷阱对GaN在高温下的背景浓度有很大影响.实验发现AlxGa1-xN/GaN异质结中二维电子气的浓度在室温到250℃的范围内随着温度的升高而下降,然后随着温度的升高开始增加.前者主要是由于随着温度的升高,AlxGa1-xN/GaN异质结的导带不连续减小引起的,后者主要是由GaN层背景载流子浓度增加导致的.通过求解自洽的薛定谔和泊松方程得到的二维电子气浓度的温度关系和实验结果一致. 展开更多
关键词 gan alxga1-xn/gan异质结 位错 HALL 高温
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Pb(Zr0.53Ti0.47)O3/AlxGa1-xN/GaN异质结构的电容-电压特征(英文) 被引量:1
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作者 沈波 李卫平 +10 位作者 周玉刚 毕朝霞 张荣 郑泽伟 刘杰 周慧梅 施毅 刘治国 郑有炓 Someya T Arakawa Y 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第S1期57-60,共4页
通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN... 通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质界面二维电子气 ( 2DEG)的浓度在 -1 0V偏压下从 1 5 6× 1 0 13 cm-2 下降为 5 6× 1 0 12 cm-2 。由于PZT薄膜的铁电极化 ,在 -1 0V偏压下可以观察到宽度为 0 2V的铁电C V窗口 ,表明在没有铁电极化方向反转的条件下 ,PZT/AlxGa1-xN/GaNMFS结构也能出现存储特性。因为 2DEG带来的各种优点 ,可以认为AlxGa1-xN/GaN异质结构在以存储器为目标的MFS场效应晶体管中有重要应用。 展开更多
关键词 C-V特性 Pb(ZrTi)O3 铁电薄膜 alxga1-xn/gan
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Pb(Zr_(0.53)Ti_(0.47))O_3/Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构的电容-电压特征(英文)
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作者 沈波 李卫平 +10 位作者 周玉刚 毕朝霞 张荣 郑泽伟 刘杰 周慧梅 施毅 刘治国 郑有炓 Someya T Arakawa Y 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第z1期57-60,共4页
通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN... 通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质界面二维电子气 ( 2DEG)的浓度在 -1 0V偏压下从 1 5 6× 1 0 13 cm-2 下降为 5 6× 1 0 12 cm-2 。由于PZT薄膜的铁电极化 ,在 -1 0V偏压下可以观察到宽度为 0 2V的铁电C V窗口 ,表明在没有铁电极化方向反转的条件下 ,PZT/AlxGa1-xN/GaNMFS结构也能出现存储特性。因为 2DEG带来的各种优点 ,可以认为AlxGa1-xN/GaN异质结构在以存储器为目标的MFS场效应晶体管中有重要应用。 展开更多
关键词 C-V特性 Pb(ZrTi)O3 铁电薄膜 alxga1-xn/gan
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Al_xGa_(1-x)N/GaN调制掺杂异质结能带分裂特性
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作者 郑泽伟 沈波 +3 位作者 陈敦军 郑有炓 郭少令 褚君浩 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期491-494,共4页
通过低温强磁场下的磁输运实验 ,研究了AlxGa1 -xN/GaN调制掺杂异质结构二维电子气 ( 2DEG)的能带分裂性质。1.4K温度下测量的磁阻曲线当磁场强度大于 5 .4T时观察到的明显对应于第一子带的自旋分裂现象。用Dingle作图法得到本样品τq ... 通过低温强磁场下的磁输运实验 ,研究了AlxGa1 -xN/GaN调制掺杂异质结构二维电子气 ( 2DEG)的能带分裂性质。1.4K温度下测量的磁阻曲线当磁场强度大于 5 .4T时观察到的明显对应于第一子带的自旋分裂现象。用Dingle作图法得到本样品τq 的大小为 0 17ps。结果表明 ,本实验所用的调制掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结构具有较大的有效g因子g 。用高 2DEG浓度导致的交换相互作用加强解释了g 增强效应。在磁阻测量中改变磁场方向 ,自旋分裂现象表现出各向异性。用异质结构界面处强的极化电场解释了自旋分裂的各向异性。 展开更多
关键词 调制掺杂 alxga1-xn/gan异质结构 二维电子气 迁移率 有效g因子
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Al组分对Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构中二维电子气输运性质的影响(英文)
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作者 唐宁 沈波 +7 位作者 王茂俊 杨志坚 徐科 张国义 桂永胜 朱博 郭少令 褚君浩 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期235-238,共4页
在低温和强磁场下,通过磁输运测量研究了不同Al组分调制掺杂Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结二维电子气(2DEG)的磁电阻振荡现象.观察到低Al组分异质结中的2DEG有较低的浓度和较高的迁移率.
关键词 alxga1-xn/gan异质结构 二维电子气 输运性质
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Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构中2DEG的塞曼自旋分裂
7
作者 唐宁 沈波 +4 位作者 韩奎 卢芳超 许福军 秦志新 张国义 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期147-149,共3页
通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0.24Ga0.76N/GaN异质结构中二维电子气(2DEG)的磁电阻振荡现象。在强磁场下观察到了表征2DEG塞曼自旋分裂的舒勃尼科夫-德哈斯(SdH)振荡的分裂峰。通过分析SdH分裂峰的位置,获得了... 通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0.24Ga0.76N/GaN异质结构中二维电子气(2DEG)的磁电阻振荡现象。在强磁场下观察到了表征2DEG塞曼自旋分裂的舒勃尼科夫-德哈斯(SdH)振荡的分裂峰。通过分析SdH分裂峰的位置,获得了塞曼自旋分裂能量和g*的大小,发现由于交换相互作用,g*比g0有了显著的增加,同时g*随着磁场的增大而增大,说明随着磁场的增大,电子与电子的交换相互作用增强。 展开更多
关键词 alxga1-xn/gan异质结构 二维电子气 自旋
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Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构中二维电子气的磁致子带间散射效应
8
作者 唐宁 沈波 +3 位作者 陈敦军 桂永胜 仇志军 郑有炓 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期480-483,共4页
通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结二维电子气 ( 2DEG)的磁电阻振荡现象。观察到了磁致子带间散射 (MIS)效应。在极低温下观察到了表征两个子带被 2DEG占据的双周期舒勃尼科夫 德哈斯 (SdH... 通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结二维电子气 ( 2DEG)的磁电阻振荡现象。观察到了磁致子带间散射 (MIS)效应。在极低温下观察到了表征两个子带被 2DEG占据的双周期舒勃尼科夫 德哈斯 (SdH)振荡。实验观察到MIS效应引起的磁电阻振荡的幅度随温度上升略有减小 ,振荡的频率为两个子带SdH振荡频率之差。随着温度的升高 ,MIS振荡成为主要的振荡。由于SdH振荡和MIS振荡对温度的依赖关系不同 ,实验观察到SdH和MIS振荡之间的调制在温度 10和 17K之间最为强烈 ,其它温度下的调制很弱。 展开更多
关键词 alxga1-xn/gan异质结构 二维电子气 磁致子带间散射
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GaN/Al_xGa_(1-x)N量子点中的激子态 被引量:1
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作者 郑冬梅 戴宪起 《淮北煤炭师范学院学报(自然科学版)》 2006年第2期31-35,共5页
在有效质量近似框架内,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点的三维约束效应,研究了含类氢杂质的G aN/A lxG a1-xN量子点中的激子态.结果表明:量子点中心的类氢杂质使激子的基态能降低,结合能升高,Q D系统的稳定性增强,光跃迁能减小;... 在有效质量近似框架内,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点的三维约束效应,研究了含类氢杂质的G aN/A lxG a1-xN量子点中的激子态.结果表明:量子点中心的类氢杂质使激子的基态能降低,结合能升高,Q D系统的稳定性增强,光跃迁能减小;杂质位于量子点上界面时,激子的基态能最小,结合能最大,系统最稳定;随着杂质从量子点的上界面沿着z轴移至下界面,激子基态能和光跃迁能增大,结合能减小. 展开更多
关键词 类氢杂质 gan/alxga1-xn量子点 激子基态能 激子结合能 光跃迁能
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Pressure influence on the Stark effect of impurity states in a strained wurtzite GaN/Al_xGa_(1-x)N heterojunction 被引量:4
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作者 张敏 班士良 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第10期4449-4455,共7页
A variational method is adopted to investigate the properties of shallow impurity states near the interface in a free strained wurtzite GaN/AlxGa1-xN heterojunction under hydrostatic pressure and external electric fie... A variational method is adopted to investigate the properties of shallow impurity states near the interface in a free strained wurtzite GaN/AlxGa1-xN heterojunction under hydrostatic pressure and external electric field by using a simplified coherent potential approximation. Considering the biaxial strain due to lattice mismatch or epitaxial growth and the uniaxial strains effects, we investigated the Stark energy shift led by an external electric field for impurity states as functions of pressure as well as the impurity position, A1 component and areal electron density. The numerical result shows that the binding energy near linearly increases with pressure from 0 to 10 GPa. It is also found that the binding energy as a function of the electric field perpendicular to the interface shows an un-linear red shift or a blue shift for different impurity positions. The effect of increasing x on blue shift is more significant than that on the red shift for the impurity in the channel near the interface. The pressure influence on the Stark shift is more obvious with increase of electric field and the distance between an impurity and the interface. The increase of pressure decreases the blue shift but increases the red shift. 展开更多
关键词 gan/alxga1-xn strain PRESSURE Stark effect binding energy of impurity state
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Binding energies of impurity states in strained wurtzite GaN/Al_xGa_(1-x)N heterojunctions with finitely thick potential barriers
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作者 冯振宇 班士良 朱俊 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第6期440-445,共6页
Ground state binding energies of donor impurities in a strained wurtzite GaN/AlxGal_xN heterojunction with a po- tential barrier of finite thickness are investigated using a variational approach combined with a numeri... Ground state binding energies of donor impurities in a strained wurtzite GaN/AlxGal_xN heterojunction with a po- tential barrier of finite thickness are investigated using a variational approach combined with a numerical computation. The built-in electric field due to the spontaneous and piezoelectric polarization, the strain modification due to the lattice mismatch near the interfaces, and the effects of ternary mixed crystals are all taken into account. It is found that the binding energies by using numerical wave functions are obviously greater than those by using variational wave functions when impurities are located in the channel near the interface of a heterojunction. Nevertheless, the binding energies using the former functions are obviously less than using the later functions when impurities are located in the channel far from an interface. The difference between our numerical method and the previous variational method is huge, showing that the former should be adopted in further work for the relevant problems. The binding energies each as a function of hydrostatic pressure are also calculated. But the change is unobvious in comparison with that obtained by the variational method. 展开更多
关键词 WURTZITE gan/alxga1-xn heterojunction impurity state binding energy
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AlGaN/GaN异质结中二维电子气多子带解析建模
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作者 刘红侠 卢风铭 +2 位作者 王勇淮 宋大建 武毅 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期147-151,共5页
为了能够方便精确地研究AxlGa1-xN/GaN异质结中二维电子气性质,提出一种多子带二维电子气的解析模型.利用此模型能够求出二维电子气能带、子能级、波函数和量子特性的解析解.通过模型计算还可以得到二维电子气的分布变化、面电子密度、... 为了能够方便精确地研究AxlGa1-xN/GaN异质结中二维电子气性质,提出一种多子带二维电子气的解析模型.利用此模型能够求出二维电子气能带、子能级、波函数和量子特性的解析解.通过模型计算还可以得到二维电子气的分布变化、面电子密度、基带能级、费米能级和势阱随Al组分及AlGaN层厚度的改变.与泊松-薛定谔自洽求解结果相比较,此模型能够给出精确的结论,并避免了泊松-薛定谔自洽求解复杂的数值计算和耗时长等缺点. 展开更多
关键词 alxga1-xn/gan异质结 二维电子气 多子带模型 能级分布
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杂质对柱形量子点系统束缚能的影响 被引量:4
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作者 郑冬梅 王宗篪 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第2期193-197,共5页
在有效质量近似和变分原理的基础上,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的GaN/AlxGa1-xN单量子点中杂质体系的基态能量与杂质电荷的关系,讨论了杂质电子的束缚能随量子点的主要结构参数(量子点高度L和量子... 在有效质量近似和变分原理的基础上,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的GaN/AlxGa1-xN单量子点中杂质体系的基态能量与杂质电荷的关系,讨论了杂质电子的束缚能随量子点的主要结构参数(量子点高度L和量子点半径R)以及杂质在量子点中不同位置的变化规律,并研究了考虑量子点内外电子有效质量失配对杂质电子束缚能的影响. 展开更多
关键词 gan/alxga1-xn 柱形量子点 杂质 束缚能
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用肖特基电容电压特性数值模拟法确定调制掺杂Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结中的极化电荷
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作者 周玉刚 沈波 +5 位作者 刘杰 周慧梅 俞慧强 张荣 施毅 郑有炓 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1774-1778,共5页
研究发展了用肖特基电容 电压特性数值模拟确定调制掺杂AlxGa1 -xN GaN异质结中极化电荷的方法 .在调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上制备了Pt肖特基接触 ,并对其进行了C V测量 .采用三维费米模型对调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 ... 研究发展了用肖特基电容 电压特性数值模拟确定调制掺杂AlxGa1 -xN GaN异质结中极化电荷的方法 .在调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上制备了Pt肖特基接触 ,并对其进行了C V测量 .采用三维费米模型对调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上肖特基接触的C V特性进行了数值模拟 ,分析了改变样品参数对C V特性的影响 .利用改变极化电荷、n AlGaN层掺杂浓度和肖特基势垒高度对C V曲线不同部分位置和形状影响不同 ,可以精确地求取极化电荷面密度 .通过模拟 ,得到Al0 2 2 Ga0 78N厚度为 45nm的调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结界面附近极化电荷面密度为 6 78× 10 1 2 cm- 2 . 展开更多
关键词 alxga1-xn/gan异质结 极化电荷 肖特基电容-电压特性 数值模拟 三维费米模型 场效应晶体管 调制掺杂
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压力下应变纤锌矿有限厚势垒异质结中杂质态的结合能
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作者 冯振宇 班士良 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期509-516,共8页
对应变AlxGa1-xN/GaN单异质结构,考虑理想界面异质结有限厚势垒,引入简化相干势近似计入三元混晶效应,利用变分法对流体静压力下体系中杂质态的结合能作了数值计算,并讨论了不同垒厚、杂质位置及组分对结合能的影响,且与无限厚势垒情形... 对应变AlxGa1-xN/GaN单异质结构,考虑理想界面异质结有限厚势垒,引入简化相干势近似计入三元混晶效应,利用变分法对流体静压力下体系中杂质态的结合能作了数值计算,并讨论了不同垒厚、杂质位置及组分对结合能的影响,且与无限厚势垒情形作了比较.结果表明:当垒厚、组分较小且沟道层中杂质位置靠近界面时,有限厚势垒杂质态的结合能明显大于无限厚势垒情形. 展开更多
关键词 alxga1-xn/gan异质结 有限厚势垒 杂质态结合能
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压力下应变异质结中施主杂质态的Stark效应 被引量:4
16
作者 张敏 班士良 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期4459-4465,共7页
对应变GaN/AlxGa1-xN异质结系统,考虑理想界面突变势垒,引入简化相干势近似,采用变分法讨论了流体静压力下外界电场对束缚于界面附近的浅杂质态结合能的影响.对GaN为衬底的闪锌矿应变异质结,分别计算了(001)和(111)取向时杂质态的结合... 对应变GaN/AlxGa1-xN异质结系统,考虑理想界面突变势垒,引入简化相干势近似,采用变分法讨论了流体静压力下外界电场对束缚于界面附近的浅杂质态结合能的影响.对GaN为衬底的闪锌矿应变异质结,分别计算了(001)和(111)取向时杂质态的结合能随压力、杂质位置、电场强度以及组分的变化关系.结果表明,杂质态结合能随流体静压力呈近线性变化.电场对杂质态的Stark效应则随杂质位置不同而呈现谱线蓝、红移动.此外,还讨论了在不同压力情况下,Al组分对杂质结合能的影响.当杂质处于GaN材料中且距界面较远时,Al组分的增加使电子的二维特性增强,从而使结合能增大,且压力加剧增幅的增加;当杂质处于AlxGa1-xN材料中,Al组分的增加削弱了杂质与电子间的库仑相互作用,故而结合能降低. 展开更多
关键词 gan/alxga1-xn异质结 杂质态 压力 STARK效应
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