期刊文献+
共找到10篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Ta-W/Hf合金的结构稳定性及力学性质的第一性原理计算
1
作者 周少兰 李忠盛 +4 位作者 丛大龙 韦禹 詹青青 赵子鹏 冉旭东 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第1期135-144,共10页
Ta-W/Hf合金具有高熔点、高密度、高延展性等性质,在核电、武器装备等关键零部件中发挥着重要作用,本研究基于密度泛函理论的第一性原理方法,构建不同掺杂含量下的Ta-W/Hf合金模型,计算Ta-W/Hf的晶格常数、结合能、弹性常数、弹性模量... Ta-W/Hf合金具有高熔点、高密度、高延展性等性质,在核电、武器装备等关键零部件中发挥着重要作用,本研究基于密度泛函理论的第一性原理方法,构建不同掺杂含量下的Ta-W/Hf合金模型,计算Ta-W/Hf的晶格常数、结合能、弹性常数、弹性模量、泊松比、维氏硬度、电子态密度等性质参数,分析W、Hf掺杂元素对Ta合金稳定性及力学性能的影响.结果表明:Ta-W合金的晶格常数、弹性常数、体模量、杨氏模量、剪切模量均随着W含量的增加而增加;然而Ta-Hf合金的相关性质参数变化趋势则相反.同时,结合能及电子态密度结果表明Ta-W合金的稳定性与W含量呈正相关;Ta-Hf合金的稳定性随着Hf含量的增加而降低,但Hf的添加对Ta合金的各向异性趋势变化影响显著,且Hf可以明显提高Ta合金的韧性. 展开更多
关键词 ta-w/hf合金 第一性原理 结构稳定 力学性质
下载PDF
连续胞状结构强化Ta-W-Hf合金的压缩变形 被引量:3
2
作者 张小明 胡忠武 +1 位作者 田锋 殷涛 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1418-1421,共4页
采用粉末冶金法制备了具有连续胞状强化结构的致密Ta-W-Hf合金材料,通过压缩试验研究了这种高强度材料的塑性变形特征,以了解其进一步变形加工的可能性。结果表明,连续胞状结构强化Ta-W-Hf材料与传统熔炼加工材的压缩变形特征没有大的区... 采用粉末冶金法制备了具有连续胞状强化结构的致密Ta-W-Hf合金材料,通过压缩试验研究了这种高强度材料的塑性变形特征,以了解其进一步变形加工的可能性。结果表明,连续胞状结构强化Ta-W-Hf材料与传统熔炼加工材的压缩变形特征没有大的区别,各试样均可承受50%以上的冷压缩变形,而无宏观裂纹产生。试样的硬度随着压缩变形量的增加而增大,但高温退火试样的硬度增量远大于热等静压试样,故其具有更大的形变强化容量。 展开更多
关键词 胞状结构 强化 ta-w-hf合金 压缩变形
下载PDF
连续胞状结构强化Ta-9.2W-0.5Hf合金材料的拉伸变形特征 被引量:2
3
作者 张小明 胡忠武 +1 位作者 田锋 殷涛 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1781-1784,共4页
采用粉末冶金方法制备了具有连续胞状强化结构的致密Ta-9.2W-0.5Hf合金材料,通过单轴拉伸试验研究了这种材料的形变特征,为其进一步的工程应用提供实验依据。结果表明,连续胞状结构强化Ta-W-Hf材料的变形与传统熔炼加工材的变形有较大不... 采用粉末冶金方法制备了具有连续胞状强化结构的致密Ta-9.2W-0.5Hf合金材料,通过单轴拉伸试验研究了这种材料的形变特征,为其进一步的工程应用提供实验依据。结果表明,连续胞状结构强化Ta-W-Hf材料的变形与传统熔炼加工材的变形有较大不同,变形的整体连续性很好,不产生强烈的局部变形,变形的均匀性、协调性好,其断裂虽呈现晶间断裂的形式,但仍属于韧性断裂。 展开更多
关键词 胞状结构 ta-w-hf合金 拉伸 塑性变形
下载PDF
Hf/Ta/W单掺锐钛矿相TiO2的电子结构和光学性质的第一性原理研究
4
作者 方志平 夏桐 +2 位作者 雷博程 张丽丽 黄以能 《人工晶体学报》 CSCD 北大核心 2017年第12期2406-2411,共6页
运用第一性原理赝势方法计算过渡金属X(Hf、Ta、W)单掺锐钛矿相TiO_2后的电子能带结构、态密度和光学性质。计算结果表明,X掺锐钛矿相TiO_2,使得掺杂后体系的体积增大,并随着X掺杂浓度的增加而增大;掺杂体系的禁带宽度都比纯TiO_2的要小... 运用第一性原理赝势方法计算过渡金属X(Hf、Ta、W)单掺锐钛矿相TiO_2后的电子能带结构、态密度和光学性质。计算结果表明,X掺锐钛矿相TiO_2,使得掺杂后体系的体积增大,并随着X掺杂浓度的增加而增大;掺杂体系的禁带宽度都比纯TiO_2的要小;由能带图可知,Ta、W单掺后,费米能级进入导带,说明这两种单掺体系属于N型半导体;随着不同浓度Hf、Ta、W的掺入,发现吸收光谱都发生了不同程度的红移,其中Ta、W掺杂体系的光响应范围覆盖了整个可见光区域,对比所有掺杂体系发现Ti_(0. 9375)W_(0. 0833)O_2在可见光区域的光响应能力最强,这些现象说明X的掺入大大提升了TiO_2光催化能力。 展开更多
关键词 锐钛矿TIO2 hf/ta/w掺杂 电子结构 光学性质 第一性原理
下载PDF
Electroless deposition of W-doped Ag films onto p-Si(100)from diluted HF solution 被引量:3
5
作者 叶为春 马传利 +1 位作者 王春明 周峰 《中国有色金属学会会刊:英文版》 EI CSCD 2009年第6期1474-1478,共5页
Tungsten-doped silver films were prepared by immersing hydrogen-terminated silicon wafers into the solution of 2.5 mmol/L[Ag2WO4]+0.1 mol/L HF at 50℃.Their growth and composition were characterized with atomic force ... Tungsten-doped silver films were prepared by immersing hydrogen-terminated silicon wafers into the solution of 2.5 mmol/L[Ag2WO4]+0.1 mol/L HF at 50℃.Their growth and composition were characterized with atomic force microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy,respectively.The effect of tungstate ions on the deposition of silver was investigated by X-ray diffraction(XRD)and scanning electron microscopy(SEM)by comparing W-doped Ag film with Ag film.It is found that the molar fraction of tungsten in the deposits is about 2.3%and the O to W molar ratio was about 4.0 and W-doped Ag films have good anti-corrosion in air at 350℃.The doping of tungsten cannot change the deposition of silver. 展开更多
关键词 化学沉积 钨掺杂 硅(100) 银膜 X射线光电子能谱 溶液 hf 稀释
下载PDF
Separation of W from Ta, Hf, Lu and Mo by BPHAC_5H_(11)OH/HCl extraction system(Model experiments for chemical study of seaborgium,the 106th element) 被引量:1
6
作者 LIzong-Wei SCHAEDELM 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2001年第2期87-93,共7页
In the batch experiment with W, Ta, Hf, Lu and Mo as radiotracers, a new rapid radiochemical isolation procedure for element tungsten has been developed by using radiochemical separation method and γ spectrum measure... In the batch experiment with W, Ta, Hf, Lu and Mo as radiotracers, a new rapid radiochemical isolation procedure for element tungsten has been developed by using radiochemical separation method and γ spectrum measurement technique.With Voltalef powder carried 2% (W/V)BPHA(Benzoylphenylhydroxylamine)- C5H11OH(iso-amyl-alcohol) organic solution, radioactive W was adsorbed on the Voltalef column in the 4mol/L hydrochloric acid system. Hf, Lu and Mo fractions passed through the Voltalef column rapidly and partial Ta activities retained on the Voltalef column, respectively. Following this, W fraction was eluted completely with 1%Na3C6H5O7(sodium citrate)-5%(W/V) NH4OH solution and no Hf, Lu, Ta and Mo activities passed through the Voltalef extraction chromatographic column. The procedure was simultaneously used to isolate W from Er target bombarded with a low energy 12C beams. By means of this separation system, it is one of the possible way to develop an isolation procedure of Sg, supposing the chemical property of Sg is similar to that of tungsten. 展开更多
关键词 放射化学 分离钨 放射指示剂
下载PDF
Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究 被引量:1
7
作者 葛学贵 曹宏 +3 位作者 黄少云 陈亦凡 靳化才 杨蜜纯 《地质科技情报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期77-82,共6页
以硅粉的 1% ,2 %~ 10 % ( w B)将 Nb,Mo,Ti,Ta,W等 5种金属粉掺入硅粉中 ,用液硅渗透法 ( LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品。对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明 :Nb( 6 % ) -硅化石墨性能最优 ,抗拉强度提高了 2 0 %~ 2 7% ;Mo( ... 以硅粉的 1% ,2 %~ 10 % ( w B)将 Nb,Mo,Ti,Ta,W等 5种金属粉掺入硅粉中 ,用液硅渗透法 ( LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品。对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明 :Nb( 6 % ) -硅化石墨性能最优 ,抗拉强度提高了 2 0 %~ 2 7% ;Mo( 1% )、Mo( 5 % )掺杂效果次之 ;而 Ti( 7% )、Ta( 3% )、W( 7% )等的掺杂反使材料强度降低。扫描电子显微镜 ( SEM)分析显示 :Nb( 6 % )掺杂使抗拉强度增强的原因在于 ,新的铌与碳的间隙化合物相的生成 ,减小了硅化石墨显微结构的尺寸 ,且使材料外层及内核结构均匀、致密、统一 ,因而能有效分散应力集中 ,缓冲裂纹扩张 ,增大承载截面 ,从而提高材料力学性能。相反 Ti( 7% )、Ta( 3% )等掺杂后 ,尽管使材料外层结构致密 ,但内部结构疏松 ,晶粒、孔隙尺寸大小不一 ,形态各异 ,内、外结构极不统一 。 展开更多
关键词 掺杂 硅化石墨 扫描电子显微镜 抗拉强度
下载PDF
Nb-and Ta-doped(Hf,Zr,Ti)C multicomponent carbides with enhanced oxidation resistance at 2500℃ 被引量:1
8
作者 Shiyan Chen Jinming Wang +5 位作者 Zhaoke Chen Weilong Song Yi Zeng Xingchao Li Tongqi Li Xiang Xiong 《Journal of Advanced Ceramics》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期332-344,共13页
Enhancing oxidation resistance of multicomponent carbides above 2000℃is critical for their thermal protection applications.For this purpose,novel Nb-and Ta-doped(Hf,Zr,Ti)C multicomponent carbides were designed to im... Enhancing oxidation resistance of multicomponent carbides above 2000℃is critical for their thermal protection applications.For this purpose,novel Nb-and Ta-doped(Hf,Zr,Ti)C multicomponent carbides were designed to improve their oxidation resistance at 2500℃.The results demonstrated that Nb and Ta doping reduced the oxidation rate constant by 16.67%and 25.17%,respectively,thereby significantly improving the oxidation resistance of(Hf,Zr,Ti)C.This enhancement was attributed to the changes in oxycarbide composition and distribution within the oxide layer by adding Nb and Ta.Owing to the different oxidation tendencies of the constituent elements,a distinctive structure was formed in which(Hf,Zr)O_(2)served as a skeleton,and various oxycarbides were dispersed throughout the oxide layer.The doped Nb and Ta were retained within oxycarbides,retarding the diffusion of oxygen into the lattice.More importantly,the addition of Nb and Ta reduced the size of oxycarbides,decreasing both size and quantity of the pores in the oxide layer and facilitating the formation of a more effective oxygen barrier. 展开更多
关键词 (hf Zr Ti)C oxidation behaviour ultra-high-temperature oxidation Nb and ta doping oxycarbides
原文传递
热履历对TaWHf合金胞状结构的影响 被引量:4
9
作者 蔡小梅 张小明 +3 位作者 王峰 王辉 白润 白新房 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S2期396-399,共4页
采用热等静压技术制备具有胞状强化结构的难熔金属Ta-W-Hf致密块体结构材料,在不同温度下进行高温退火试验研究其结构的稳定性。采用金相显微镜、显微硬度计、XRD等方法研究合金胞状强化结构在高温下的组织演变。结果表明:在1500℃,200... 采用热等静压技术制备具有胞状强化结构的难熔金属Ta-W-Hf致密块体结构材料,在不同温度下进行高温退火试验研究其结构的稳定性。采用金相显微镜、显微硬度计、XRD等方法研究合金胞状强化结构在高温下的组织演变。结果表明:在1500℃,200MPa下保温1h制得到致密块体胞状强化结构,当保温时间延长为4h时,胞状结构弱化;块体退火温度大于2000℃时,胞状结构基本消失。 展开更多
关键词 ta-w-hf合金 高温退火 显微硬度 胞状结构
原文传递
多组元掺杂对NiCoCrAlY氩气雾化粉末1200℃高温氧化行为的影响
10
作者 任智强 尹轶川 +3 位作者 王晓明 王文宇 朱胜 韩国峰 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期59-67,共9页
通过Nb,Hf和Ta元素复合添加改性,利用氩气雾化法制备NiCoCrAlYNbHfTa粉末,并与商用NiCoCrAlY粉末进行1200℃下24,48 h和72 h的氧化性能对比。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)对粉末物相、微观结构和元素... 通过Nb,Hf和Ta元素复合添加改性,利用氩气雾化法制备NiCoCrAlYNbHfTa粉末,并与商用NiCoCrAlY粉末进行1200℃下24,48 h和72 h的氧化性能对比。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)对粉末物相、微观结构和元素分布进行分析,通过等温氧化实验对比研究两种粉末的高温氧化性能。结果表明:所制备的粉末具有较好的球形度,球体中元素分布均匀。NiCoCrAlYNbHfTa粉末主要由β相和γ/γ′相组成,商用NiCoCrAlY粉末由γ/γ′相组成。NiCoCrAlYNbHfTa粉末能够快速形成致密的氧化铝膜,并且有效延缓Al的扩散与消耗,而商用NiCoCrAlY粉末在等温氧化后,Al消耗较快。两种粉末氧化增重曲线总体变化趋势较为接近,但商用NiCoCrAlY粉末经历的氧化初期时间较长,Al元素快速消耗殆尽。NiCoCrAlYNbHfTa粉末比商用粉末表现出更优的高温抗氧化性和抗高温烧结性能。 展开更多
关键词 NiCoCrAlY粉末 Nb hfta掺杂改性 1200℃高温氧化 氧化行为
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部