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应变补偿InGaN/AlGaN超晶格改善近紫外LED性能
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作者 尹以安 章勇 +1 位作者 范广涵 李述体 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第8期42-46,共5页
通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替... 通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替代量子阱中的Ga N垒层,二是作p型层的接触层。实验发现,该结构的应用不但可以减弱量子阱的Stark效应和抑制电子泄露,而且降低p型接触层的欧姆接触电阻。且发现不用电子阻挡层情况下,其输出功率、PL光谱和I-V特性等都得到极大改善。 展开更多
关键词 应变平衡 ingan/algan超晶格 应变补偿 极化效应 p型欧姆接触电阻 近紫外LED
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InGaN/AlGaN双异质结绿光发光二极管 被引量:6
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作者 陆大成 韩培德 +10 位作者 刘祥林 王晓晖 汪度 袁海荣 王良臣 徐萍 姚文卿 高翠华 刘焕章 葛永才 郑东 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期414-416,共3页
报道了用 LP- MOVPE技术在蓝宝石 ( α- Al2 O3)衬底上生长出以双掺 Zn和 Si的 In Ga N为有源区的绿光 In Ga N/Al Ga N双异质结结构 ,并研制成功发射波长为 52 0— 540 nm的绿光LED.
关键词 氮化镓 InGaA/algan 双异质结 绿光发光二极管
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量子阱数量变化对InGaN/AlGaN LED的影响 被引量:5
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作者 宋晶晶 张运炎 +2 位作者 赵芳 郑树文 范广涵 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1368-1372,共5页
采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,... 采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,电流溢出现象较明显;而当量子阱个数太多时,极化现象明显,且会造成材料浪费。因此应根据工作电流选择合适的量子阱个数。 展开更多
关键词 量子阱数量 数值模拟 ingan algan发光二极管 大功率
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InGaN/AlGaN双异质结构蓝光LED的电学和光学性质 被引量:1
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作者 陈志忠 沈波 +4 位作者 杨凯 施洪涛 陈鹏 郑有 李熹霖 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期256-259,共4页
研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发... 研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发光(EL)谱的测量,得到位于2.8eV的发射峰和位于3.2eV弱发射峰,随着电流增大而均出现蓝移。对大脉冲电流下LED的特性的退化作了研究。 展开更多
关键词 蓝发光二极管 双异质结构 电致发光 LED
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
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作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 ingan/A1GaN双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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MOCVD生长高质量InGaN/AlGaN MQW紫光LED的研究
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作者 唐健江 刘波波 +1 位作者 杨建锋 白俊春 《科技视界》 2018年第13期177-178,共2页
本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。... 本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。制成的LED管芯,正向电流20m A时,EL测试正向电压Vf小于3.4V,反向电压Vz大于18V,亮度大于1.9mcd,漏电流小于0.02m A。并研究了Al掺杂垒含量对MQW紫光LED发光效率的影响,当Al含量为5%时,得到的多量子阱结构的晶体质量最佳。随着Al含量的继续增加,晶体质量下降和正向电压变小,同时发光效率也降低。 展开更多
关键词 ingan/algan 多量子阱 紫光LED MOCVD
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Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of InGaN/AlGaN/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors
7
作者 闫俊达 王权 +11 位作者 王晓亮 肖红领 姜丽娟 殷海波 冯春 王翠梅 渠慎奇 巩稼民 张博 李百泉 王占国 侯洵 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第12期113-116,共4页
Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is... Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is present in the transfer characteristics of InGaN/AIGaN/AIN/GaN HFETs. The theoretical calculation shows the coexistence of two-dimensional electron gas (2DEG) and two-dimensional hole gas (2DHG) in InGaN/AIGaN/A1N/GaN heterostructures, and the screening effect of 2DHG to the 2DEG in the conduction channel can explain this current plateau. Moreover, the current plateau shows the time-dependent behavior when IDs Vcs scans repeated are conducted. The obtained insight provides indication for the design in the fabrication of GaN-based super HFETs. 展开更多
关键词 algan Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of ingan/algan/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors ingan AlN
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InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱中应变对光致发光特性的影响
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作者 于彤军 康香宁 +4 位作者 秦志新 陈志忠 杨志坚 胡晓东 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期20-24,共5页
对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱... 对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生较小的蓝移,而InGaN/AlGaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生明显的红移;喇曼光谱的结果表明,激光剥离前后E2模的峰值从569.1减少到567.5cm-1.这说明激光剥离去除衬底使得外延层整体的压应力得到部分释放,但InGaN/GaN与InGaN/AlGaN多量子阱结构中阱层InGaN的应力发生了不同的变化.XRD的结果证实了这一结论. 展开更多
关键词 光致发光谱 ingan algan 多量子阱 应变
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Electrical and Optical Properties of InGaN/AlGaN Double Heterostructure Blue Light-Emitting Diodes
9
作者 SHEN Bo SHI Hong-Tao +2 位作者 ZHANG Rong CHEN Zhi-Zhong ZHENG You-Dou 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2001年第2期283-285,共3页
Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure fro... Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure from the Shockley model of a p-n diode,and it was observed that the dominant mechanism of carrier transport across the junction is associated with carrier tunnelling.Electroluminescence experiments indicated that there was a main emission band around 2.80 eV and a relatively weaker peak at 3.2 eV.A significant blueshift of the optical emission band was observed,which was consistent with the tunnelling character of electrical characteristics.Furthermore,the degradation in I-V characteristics and the low resistance ohmic short of the device were observed. 展开更多
关键词 GaN/algan Shockley ohmic
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AlGaN/GaN HEMT器件有效栅长和栅宽提取
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作者 吴淇暄 张贺秋 +4 位作者 朱江 宁思源 代晓 王子坤 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS 北大核心 2025年第1期105-110,共6页
有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了... 有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了两组AlGaN/GaN HEMT器件,这两组器件的源漏间距为80μm,栅源间距为10μm.其中一组器件固定栅宽为400μm,栅长分别为10、20、30、40、50、60μm;另一组器件固定栅长为40μm,栅宽分别为200、300、400、500、600、800μm.通过研究源漏之间的总电阻随栅长和栅宽变化规律,获得栅长与有效栅长的差值为0.48989μm,栅宽与有效栅宽的差值为-11.12191μm. 展开更多
关键词 algan/GAN高电子迁移率晶体管 器件参数 有效栅长 有效栅宽
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氮空位在纳米GaN颗粒和InGaN AlGaN双异质结中的聚集(英文)
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作者 张泽 王岩国 李辉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期253-258,共6页
直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ... 直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ,纳米颗粒中心将出现空洞 ,同时使该区的金属镓离子迁移到颗粒的表面。电子显微分析及分子力学理论计算表明 ,这种新的调制结构系空位的有序排列所致。在此基础上 ,进一步研究了InGaN AlGaN的双异质结薄膜结构中直径约为 5 0nm的空洞存在与发光失效的关系 ,讨论了N 展开更多
关键词 氮空位 GaN ingan/algan 双异质结 聚集 氮化镓 氮铟镓 铝镓氮 纳米颗粒 调制结构 高分辨透射电子显微术 选区电子衍射 分子力学
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栅极几何结构对MIS栅结构常关p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响
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作者 都继瑶 《沈阳理工大学学报》 CAS 2025年第1期72-77,共6页
高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGa... 高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响。栅极介质层采用5 nm厚的原位生长AlN,AlN/p-GaN界面呈现出更明显的能带弯曲和更宽的耗尽区,有利于阈值电压向正向偏移,且其相对较宽的能带错位有助于抑制栅极电流。实验结果表明:与栅极非覆盖区长度为0μm和6μm的MIS栅极相比,非覆盖区长度为3μm的MIS栅极可提高器件综合性能,有效抑制正向栅极电流,将阈值电压提高至3 V,并较好地保持电流密度为46 mA/mm;栅极结构中两侧没有栅极覆盖的区域在导通过程和导通状态下均可引起较大的沟道电阻,且沟道电阻随着非覆盖区长度增加而上升。 展开更多
关键词 p-GaN/algan/GaN异质结 AlN介质层 常关型器件 金属/绝缘体/半导体 栅极非覆盖区
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A GaN/InGaN/AlGaN MQW RTD for versatile MVL applications with improved logic stability 被引量:1
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作者 Haipeng Zhang Qiang Zhang +6 位作者 Mi Lin Weifeng Lü Zhonghai Zhang Jianling Bai Jian He Bin Wang Dejun Wang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第7期77-87,共11页
To improve the logic stability of conventional multi-valued logic(MVL) circuits designed with a GaNbased resonate tunneling diode(RTD), we proposed a GaN/InGaN/AlGaN multi-quantum well(MQW) RTD. The proposed RTD... To improve the logic stability of conventional multi-valued logic(MVL) circuits designed with a GaNbased resonate tunneling diode(RTD), we proposed a GaN/InGaN/AlGaN multi-quantum well(MQW) RTD. The proposed RTD was simulated through solving the coupled Schrodinger and Poisson equations in the numerical non-equilibrium Green's function(NEGF) method on the TCAD platform. The proposed RTD was grown layer by layer in epitaxial technologies. Simulated results indicate that its current-voltage characteristic appears to have a wider total negative differential resistance region than those of conventional ones and an obvious hysteresis loop at room temperature. To increase the Al composite of AIGaN barrier layers properly results in increasing of both the total negative differential resistance region width and the hysteresis loop width, which is helpful to improve the logic stability of MVL circuits. Moreover, the complement resonate tunneling transistor pair consisted of the proposed RTDs or the proposed RTD and enhanced mode HEMT controlled RTD8 is capable of generating versatile MVL modes at different supply voltages less than 3.3 V, which is very attractive for implementing more complex MVL function digital integrated circuits and systems with less devices, super high speed linear or nonlinear ADC and voltage sensors with a built-in super high speed ADC function. 展开更多
关键词 GaN/ingan/algan MQW RTD total NDR region width hysteresis characteristic MVL
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Optimized Layers Design for AlGaN/GaN/InGaN Symmetrical Separate Confinement Heterojunction Multi-Quantum Well Laser Diode
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作者 陆敏 方慧智 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期492-496,共5页
Waveguide characteristics of symmetrical separate confinement heterojunction multi quantum well (SCH MQW) AlGaN/GaN/InGaN laser diode (LD) are studied by using one dimensional (1 D) transfer matrix waveguide appro... Waveguide characteristics of symmetrical separate confinement heterojunction multi quantum well (SCH MQW) AlGaN/GaN/InGaN laser diode (LD) are studied by using one dimensional (1 D) transfer matrix waveguide approach.Aiming at photon confinement factor,threshold current,and power efficiency,layers design for SCH MQW LD is optimized.The optimal layers parameters are 3 periods In 0.02 Ga 0.98 N/In 0.15 Ga 0.85 N QW for active layer,In 0.1 Ga 0 9 N for waveguide layer with 90nm thick,and 120×(2 5nm/2 5nm) Al 0.25 Ga 0 75 N/GaN supper lattices for cladding layer with the laser wavelength of 396 6nm. 展开更多
关键词 algan/GaN/ingan MQW SCH
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应力补偿型InGaN-AlGaN量子阱发光二极管结构优化研究
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作者 李为军 张波 +1 位作者 徐文兰 陆卫 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1023-1026,共4页
薄的应力补偿层AlGaN的引进对InGaN量子阱结构的发光二极管输出功率和内量子效率的影响被详细考察。由理论模拟结果得知,不管是在低温还是高温,合适的应力补偿层引进都能极大改善LED器件输出功率和内量子效率。应力补偿层AlGaN的加入导... 薄的应力补偿层AlGaN的引进对InGaN量子阱结构的发光二极管输出功率和内量子效率的影响被详细考察。由理论模拟结果得知,不管是在低温还是高温,合适的应力补偿层引进都能极大改善LED器件输出功率和内量子效率。应力补偿层AlGaN的加入导致器件漏电流的降低被认为是器件效能提高的主要原因。定量优化AlGaN应力补偿层的厚度和其中Al的含量在这里也被探讨研究。计算结果表明,当应力补偿型InGaN-AlGaN量子阱结构中Al-GaN厚度为1nm,Al含量为0.25时,能够获得最大的发光功效和内量子效率。 展开更多
关键词 应力补偿型量子阱 ingan 发光二极管 数值模拟
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InGaN/GaN量子阱悬空微盘发光二极管
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作者 朱刚毅 宁波 +8 位作者 仇国庆 郭春祥 杨颖 李欣 李炳辉 施政 戴俊 秦飞飞 王永进 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期207-214,共8页
设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构... 设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构中,器件Ⅱ的结果最好。电极布局为内p外n型的圆柱形器件表面电流分布能够保证发光区和微腔高增益区重合,悬空结构能够降低微盘在垂直方向上的光损耗,有利于更好的光学增益。考虑到共振模式,器件Ⅱ在注入电流大于0.7 mA时,器件Ⅱ实现了峰值波长为408.2 nm、半峰宽为2.62 nm的振荡模式输出。这种电泵浦InGaN/GaN量子阱悬浮微盘二极管器件的设计思路对电泵浦微盘或微环激光器的研制具有重要参考意义。 展开更多
关键词 GaN微腔 损耗和增益竞争 ingan/GaN量子阱 片上光源
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表面电荷密度及介电常数对AlGaN/GaN异质结中二维电子气性质的影响
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作者 王庆武 于白茹 郭华忠 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期178-184,共7页
通过在Al_(x)Ga_(1-x)N层引入离化电荷面密度,结合自发极化和压电极化引起的极化电荷面密度,利用变分法计算二维电子气面密度随Al组分和Al_(x)Ga_(1-x)N厚度的变化关系.研究了相对介电常数对电子气密度的影响,并与实验数据进行了比较.... 通过在Al_(x)Ga_(1-x)N层引入离化电荷面密度,结合自发极化和压电极化引起的极化电荷面密度,利用变分法计算二维电子气面密度随Al组分和Al_(x)Ga_(1-x)N厚度的变化关系.研究了相对介电常数对电子气密度的影响,并与实验数据进行了比较.通过在Al_(x)Ga_(1-x)N的相对介电常量中引入高阶项,使得计算结果更好地拟合了高Al组分的电子气密度.计算得到的离化电荷面电荷密度与极化电荷面电荷密度相当,从而证明离化面电荷密度对二维电子气形成的贡献. 展开更多
关键词 algan/GAN异质结 二维电子气 离化态 变分法
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AlGaN基深紫外LED光源灭活柯萨奇病毒研究
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作者 吴郁 蓝习瑜 +6 位作者 张梓睿 吴章鑫 刘忠宇 杨玲佳 张山丽 徐可 贲建伟 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期1391-1397,共7页
为探究在高温热处理AlN模板上制备的不同发光波长AlGaN基LED器件对病毒的灭活效率,本工作在发光波长257~294 nm范围内制备了7组不同发光波长AlGaN基深紫外LED器件,并探究其对柯萨奇病毒灭活效率。实验结果表明,高温热处理AlN模板可以将... 为探究在高温热处理AlN模板上制备的不同发光波长AlGaN基LED器件对病毒的灭活效率,本工作在发光波长257~294 nm范围内制备了7组不同发光波长AlGaN基深紫外LED器件,并探究其对柯萨奇病毒灭活效率。实验结果表明,高温热处理AlN模板可以将AlN模板位错密度降低至1.33×10^(7)cm^(-2),为制备高效率AlGaN基LED器件奠定了良好基础;基于高温热处理AlN模板制备的AlGaN基LED器件,在灭活距离2 cm、紫外辐照时间30 s实验条件下,发光中心波长在257~278 nm之间的AlGaN基LED器件对柯萨奇病毒灭活率≥99.90%,而发光中心波长为288 nm、294 nm的LED对柯萨奇病毒灭活率仅为99.47%及96.15%。根据以上研究结果,波长在257~278 nm之间的AlGaN基LED器件适合在病毒消杀领域应用;在本工作实验条件下,波长大于288 nm的AlGaN基深紫外LED器件对病毒灭活效果较差。 展开更多
关键词 高温热处理 AlN模板 algan LED 病毒灭活
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采用AlGaN/GaN阻挡层的大功率InGaN/GaN MQWs蓝光LED 被引量:1
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作者 齐胜利 陈志忠 +8 位作者 潘尧波 郝茂盛 邓俊静 田朋飞 张国义 颜建锋 朱广敏 陈诚 李士涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期216-218,共3页
大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB... 大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB)电子阻挡层,利用多量子势垒对电子的量子反射作用,有效地解决了大注入下载流子泄漏问题。与未使用多量子势垒电子阻挡层的样品相比,MQB样品的光功率和外量子效率分别提高了约80%和100%。 展开更多
关键词 氮化镓 多量子阱 发光二极管 铝镓氮/氮化镓 多量子势垒 外量子效率
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AlGaN/GaN HEMT器件高温栅偏置应力后栅极泄漏电流机制分析 被引量:1
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作者 陈欢欢 张贺秋 +9 位作者 邢鹤 夏晓川 张振中 蔡涛 叶宇帆 郭文平 席庆南 黄慧诗 梁晓华 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期90-95,共6页
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅特性会受到温度应力和电应力的影响.在高温栅偏置(HTGB)应力下,器件的栅特性会发生退化,如栅极泄漏电流增大.为了研究退化机理,分析了AlGaN/GaN HEMT在栅电压为-2 V时,250℃高温应力作用后的栅极... AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅特性会受到温度应力和电应力的影响.在高温栅偏置(HTGB)应力下,器件的栅特性会发生退化,如栅极泄漏电流增大.为了研究退化机理,分析了AlGaN/GaN HEMT在栅电压为-2 V时,250℃高温应力作用后的栅极泄漏电流机制.随着HTGB时间的增加,栅极泄漏电流持续增大,受到应力器件在室温下静置后栅极泄漏电流密度恢复约20%.结果表明,在正向偏置范围内,栅极泄漏电流是由热电子发射(TE)引起的.在反向偏置范围内,普尔-弗伦克尔(PF)发射在小电压范围内占主导地位.阈值电压附近的范围由势垒层中的陷阱辅助隧穿(TAT)引起;在大电压范围内,福勒-诺德海姆(FN)隧穿导致栅极发生泄漏. 展开更多
关键词 algan/GaN HEMT 高温栅偏置应力 栅极泄漏电流机制
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