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深亚微米隔离技术——浅沟槽隔离工艺 被引量:6
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作者 王新柱 徐秋霞 +2 位作者 钱鹤 申作成 欧文 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期323-329,共7页
研究了浅沟槽隔离 (STI)工艺的各主要工艺步骤 :沟槽的形成、沟槽顶角的圆滑、沟槽填充以及化学机械抛光平坦化 .使用器件模拟软件 Medici和 Davinci分析了 STI结构的隔离性能以及沟槽隔离 MOSFET的
关键词 浅沟槽隔离工艺 化学机械平坦化 KINK效应 反窄宽度效应 微电子 深亚微米隔离技术
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40nm工艺下反向窄沟道效应对VLSI电路设计的影响 被引量:1
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作者 郑凯磊 贺光辉 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2014年第4期100-102,107,共4页
反向窄沟道效应(INWE)是纳米级工艺下较为明显的版图效应,它使MOS管阈值电压Vth随着OD(扩散区)宽度的下降而下降,由此使得饱和电流Idsat提高并最终影响器件的速度.重点阐述了产生INWE的原因,同时将INWE考虑在标准单元库的设计当中.以TSM... 反向窄沟道效应(INWE)是纳米级工艺下较为明显的版图效应,它使MOS管阈值电压Vth随着OD(扩散区)宽度的下降而下降,由此使得饱和电流Idsat提高并最终影响器件的速度.重点阐述了产生INWE的原因,同时将INWE考虑在标准单元库的设计当中.以TSMC N40LP 12T标准单元库为基础,根据INWE现象重新对电路结构(Circuit Structure)和版图(Layout)进行设计,最终能够在原有版图面积下整体性能提升5%以上,整体功耗升高控制在2%以内,从而得到有着更好PPA(Power Performance Area)指标的标准单元库器件. 展开更多
关键词 反向窄沟道效应 器件物理特性 标准单元库设计 版图设计
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采用LOCOS隔离的部分耗尽SOI器件的窄沟道效应
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作者 宋文斌 许高博 +1 位作者 郭天雷 韩郑生 《电子器件》 CAS 2007年第5期1535-1538,共4页
制备了不同沟宽的采用LOCOS隔离的PDSOI器件,通过实验数据分析器件的窄沟道效应.结果显示,1.2μmSOI器件的窄沟道效应跟体硅相似,主要是由边缘电场效应和"鸟嘴"效应引起的;0.8μmSOI器件的阈值电压随着沟道变窄而减小,出现反... 制备了不同沟宽的采用LOCOS隔离的PDSOI器件,通过实验数据分析器件的窄沟道效应.结果显示,1.2μmSOI器件的窄沟道效应跟体硅相似,主要是由边缘电场效应和"鸟嘴"效应引起的;0.8μmSOI器件的阈值电压随着沟道变窄而减小,出现反向窄沟道效应.我们认为,主要是由于杂质的重新分布降低了沟道边缘的杂质浓度所引起的. 展开更多
关键词 部分耗SOI 鸟嘴效应 边缘电场效应 反向窄沟道效应 杂质重新分布
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A DESIGN METHODOLOGY FOR LOW-LEAKAGE AND HIGHPERFORMANCE BUFFER BASED ON DEVIANT BEHAVIOR OF GATE LEAKAGE 被引量:1
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作者 Yu Le Sun Jiabin +3 位作者 Chen Zhujia Wang Zhaoxin Zhang Chao Yang Haigang 《Journal of Electronics(China)》 2014年第5期411-415,共5页
Based on the observation that both subthreshold and gate leakage depend on transistors width, this paper introduces a feasible method to fast estimate leakage current in buffers. In simulating of leakage current with ... Based on the observation that both subthreshold and gate leakage depend on transistors width, this paper introduces a feasible method to fast estimate leakage current in buffers. In simulating of leakage current with swept transistor width, we found that gate leakage is not always a linear function of the device geometry. Subsequently, this paper presented the theoretical analysis and experimental evidence of this exceptional gate leakage behavior and developed a design methodology to devise a low-leakage and high-performance buffer with no penalty in area using this deviation. 展开更多
关键词 Subthreshold leakage Gate leakage BUFFER inverse narrow width effect(inwe)
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