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Low Temperature Nitriding of 304 Austenitic Stainless Steel Using RF-ICP Method: the Role of Ion Beam Flux Density
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作者 王庆 巴德纯 +2 位作者 明悦 徐林 郭德宇 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第10期960-963,共4页
The significant role of ion beam flux during nitriding 304 austenitic stainless steel has been investigated by using a radio frequency inductively-coupled plasma reactor into which a sample with negative bias voltage ... The significant role of ion beam flux during nitriding 304 austenitic stainless steel has been investigated by using a radio frequency inductively-coupled plasma reactor into which a sample with negative bias voltage was inserted. A milliammeter is used to detect tile current of ions which collide with the sample and optical emission spectroscopy is used to discern the reactive species included in the nitrogen plasma. The nitriding efficiency is indicated by X-ray diffraction and the microhardness test. The reported data reveal that the ion beam flux density as well as the deposition pressure, bias voltage and time can strongly affect the nitriding of stainless steel via tile expanded multiphase microstructure inside the nitrided layer. The increase in the density of ion flux results in an ascent in the intensity of the expanded peak and a simultaneous decline in the intensity of the 3' austenite peak. The evolution trend of ion beam flux density is described as a function of tile operating pressure and the bias voltage. The maxinmm ion flux density has been achieved at 10 Pa pressure and 500 V bias voltage. A reasonable nitriding region has been, consequently, suggested after comparing this work with previously reported results. 展开更多
关键词 plasma nitriding inicrostructure stainless steel SURFACES ions beam flux
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Control of Beam Energy and Flux Ratio in an Ion-Beam-Background Plasma System Produced in a Double Plasma Device
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作者 卫子安 马锦秀 +2 位作者 李元瑞 孙彦 江正琦 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第11期1076-1080,共5页
Plasmas containing ion beams have various applications both in plasma technology and in fundamental research. The ion beam energy and flux are the two factors characterizing the beam properties. Previous studies have ... Plasmas containing ion beams have various applications both in plasma technology and in fundamental research. The ion beam energy and flux are the two factors characterizing the beam properties. Previous studies have not achieved the independent adjustment of these two parameters. In this paper, an ion-beam-background-plasma system was produced with hotcathode discharge in a double plasma device separated by two adjacent grids, with which the beam energy and flux ratio (the ratio between the beam flux and total ion flux) can be controlled independently. It is shown that the discharge voltage (i.e., voltage across the hot-cathode and anode) and the voltage drop between the two separation grids can be used to effectively control the beam energy while the flux ratio is not affected by these voltages. The flux ratio depends sensitively on hot-filaments heating current whose influence on the beam energy is relatively weak, and thus enabling approximate control of the flux ratio 展开更多
关键词 ion beam background plasma beam energy flux ratio
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Characterization of high flux magnetized helium plasma in SCU-PSI linear device 被引量:2
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作者 马小春 曹小岗 +3 位作者 韩磊 张志艳 韦建军 芶富均 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第2期104-109,共6页
A high-flux linear plasma device in Sichuan University plasma-surface interaction(SCU-PSI)based on a cascaded arc source has been established to simulate the interactions between helium and hydrogen plasma with the ... A high-flux linear plasma device in Sichuan University plasma-surface interaction(SCU-PSI)based on a cascaded arc source has been established to simulate the interactions between helium and hydrogen plasma with the plasma-facing components in fusion reactors.In this paper,the helium plasma has been characterized by a double-pin Langmuir probe.The results show that the stable helium plasma beam with a diameter of 26 mm was constrained very well at a magnetic field strength of 0.3 T.The core density and ion flux of helium plasma have a strong dependence on the applied current,magnetic field strength and gas flow rate.It could reach an electron density of1.2×10^19m^-3and helium ion flux of 3.2×10^22m^-2s^-1,with a gas flow rate of 4 standard liter per minute,magnetic field strength of 0.2 T and input power of 11 k W.With the addition of-80 Vapplied to the target to increase the helium ion energy and the exposure time of 2 h,the flat top temperature reached about 530°C.The different sizes of nanostructured fuzz on irradiated tungsten and molybdenum samples surfaces under the bombardment of helium ions were observed by scanning electron microscopy.These results measured in the SCU-PSI linear device provide a reference for International Thermonuclear Experimental Reactor related PSI research. 展开更多
关键词 helium plasma beam diameter electron density ion flux nanostructure fuzz
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离子束流和基底温度对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响 被引量:5
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作者 曹猛 李强 +2 位作者 杨莹 邓湘云 李德军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期29-32,共4页
本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD),在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪,分析了束流和基底温度对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分多层膜... 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD),在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪,分析了束流和基底温度对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分多层膜的纳米硬度与弹性模量值都高于两种个体材料硬度的平均值,当辅助束流为5mA时,多层膜硬度达到30.6GPa。基底温度的升高,会显著降低薄膜的残余应力,但对薄膜的硬度,摩擦系数没有明显影响。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 ZrN/TiAlN纳米多层膜 硬度 离子束流 基底温度
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IBAD工艺中离子参数与薄膜折射率研究 被引量:2
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作者 杭凌侠 刘政 《西安工业大学学报》 CAS 2007年第1期15-18,23,共5页
采用五栅网离子能量测量装置和法拉第筒测量了宽束冷阴极离子源的离子能量和离子束流密度.当Ar气流量为20 sccm,在不同的放电电压和引出电压下,测得离子能量分布范围为400~820 eV,束流密度分布范围为7.8~52.8μA/cm2.在O2气流量为20 s... 采用五栅网离子能量测量装置和法拉第筒测量了宽束冷阴极离子源的离子能量和离子束流密度.当Ar气流量为20 sccm,在不同的放电电压和引出电压下,测得离子能量分布范围为400~820 eV,束流密度分布范围为7.8~52.8μA/cm2.在O2气流量为20 sccm时,沉积在不同离子能量辅助下的TiO2薄膜,研究了离子能量对于薄膜光学特性的影响,得到了折射率为2.3的薄膜,接近块状材料的折射率. 展开更多
关键词 冷阴极离子源 离子能量 离子束流密度 折射率
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薄膜高温热流测量技术研究 被引量:8
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作者 肖友文 谢贵久 +3 位作者 何峰 张建国 袁云华 宋祖殷 《微处理机》 2012年第5期1-3,共3页
薄膜热流传感器具有响应时间快,体积小等优势,可用于航空、航天等领域高速飞行器表面短时间的高温热流瞬态测量。热流传感器原理基于不同热障层薄膜下薄膜热电偶温度变化量的大小,通过离子束溅射镀膜工艺成功制备快速响应薄膜高温热流... 薄膜热流传感器具有响应时间快,体积小等优势,可用于航空、航天等领域高速飞行器表面短时间的高温热流瞬态测量。热流传感器原理基于不同热障层薄膜下薄膜热电偶温度变化量的大小,通过离子束溅射镀膜工艺成功制备快速响应薄膜高温热流传感器。试验结果表明:该传感器热响应时间可达0.1s,温度可达900℃。 展开更多
关键词 薄膜 热流检测 离子束溅射 高温 快速响应
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全超导托卡马克中性束注入系统离子吞食器工程设计 被引量:5
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作者 陶玲 胡纯栋 +1 位作者 谢远来 许永建 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2687-2692,共6页
结合全超导托卡马克中性束注入系统(EAST NBI)的工作原理,采用水冷热测靶形式的离子吞食器回收和测量未被中性化粒子。根据EAST NBI系统对离子吞食器物理特性、空间限制、测量需求及冷却性能等方面的要求,对靶板材料选择、结构设计及布... 结合全超导托卡马克中性束注入系统(EAST NBI)的工作原理,采用水冷热测靶形式的离子吞食器回收和测量未被中性化粒子。根据EAST NBI系统对离子吞食器物理特性、空间限制、测量需求及冷却性能等方面的要求,对靶板材料选择、结构设计及布置等进行了分析,给出了离子吞食器具体设计方案。该方案单侧吸收靶板呈V形结构,单个靶板冷却方式采用内置并联冷却水管结构。根据该方案加工获得了EAST NBI系统离子吞食器装置。仿真和实验校验结果验证了本装置可以满足NBI系统4MW高功率、10s长脉冲的运行要求。 展开更多
关键词 全超导托卡马克 中性束注入 离子吞食器 高热流部件 高功率 长脉冲
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Ar^+及沉积气压对离子溅射制备铜钨复合膜结构的影响 被引量:2
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作者 曾莹莹 艾永平 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2010年第4期76-78,共3页
研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar+能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar+能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率主要由钨靶Ar+束流决定,并且增加气压会使复合膜晶粒尺寸变小,... 研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar+能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar+能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率主要由钨靶Ar+束流决定,并且增加气压会使复合膜晶粒尺寸变小,固溶进钨的铜原子也会相应减少。 展开更多
关键词 铜钨薄膜 离子束溅射 Ar+能量 束流 晶粒度
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基于薄膜热电堆的新型高温瞬态热流密度传感器的研制 被引量:7
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作者 周丽丽 刘正坤 +2 位作者 宝剑光 柴葳 洪义麟 《宇航计测技术》 CSCD 2018年第6期50-56,共7页
目前针对国内薄膜瞬态热流传感器一致性较差、制备工艺不成熟等问题,提出了一种基于光刻工艺和离子束溅射镀膜工艺的制备方法,200对T型金属薄膜热电偶沉积在10mm×10mm的水冷块上,测量1μm的氧化铝热阻层温差,从而得到瞬态热流密度... 目前针对国内薄膜瞬态热流传感器一致性较差、制备工艺不成熟等问题,提出了一种基于光刻工艺和离子束溅射镀膜工艺的制备方法,200对T型金属薄膜热电偶沉积在10mm×10mm的水冷块上,测量1μm的氧化铝热阻层温差,从而得到瞬态热流密度值。对新型高温瞬态热流密度传感器进行比对法标定,一致性误差为0.211%,即工艺的一致性约为99.79%。实验表明,研制的新型高温瞬态热流密度传感器的一致性好,制备工艺具备良好重复性和可移植性,能够满足高温瞬态热流检测需要,为热流传感器的推广应用及标准化、批量化生产提供了良好的技术支撑。 展开更多
关键词 热流传感器 光刻工艺 薄膜 离子束 溅射
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RF-ICP等离子体氮化304不锈钢过程中离子束流密度对氮化层的影响
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作者 李海玲 王庆 《真空》 CAS 2014年第1期44-47,共4页
研究了射频电感耦合等离子体RF-ICP低温氮化304奥氏体不锈钢过程中离子束流的重要作用。带有负偏压的不锈钢样片被插入到射频电感耦合等离子体反应器中。氮离子束流密度和等离子体成分分别用毫安表和一个等离子体光发射谱仪来实时监测。... 研究了射频电感耦合等离子体RF-ICP低温氮化304奥氏体不锈钢过程中离子束流的重要作用。带有负偏压的不锈钢样片被插入到射频电感耦合等离子体反应器中。氮离子束流密度和等离子体成分分别用毫安表和一个等离子体光发射谱仪来实时监测。XRD测试结果发现在不锈钢的表层出现了明显的多组分的氮化物微结构,这说明不锈钢成功地被氮化。系统地研究了离子流密度变化显著的影响不锈钢的氮化效果。随着离子束流密度的增加氮化物成分增加同时γ相奥氏体成分减少。同时也研究了氮离子流密度及等离子体发射谱线强度随操作压力、偏压的演变过程。通过实验数据分析提出了利用射频等离子体氮化304不锈钢的合理的氮化区。 展开更多
关键词 等离子体氮化 微结构 304不锈钢 RF—ICP 离子束流
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宽束冷阴极离子源分时中和技术的研究
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作者 弥谦 古克义 秦英 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期215-219,共5页
离子束辅助镀膜沉积过程中,绝缘薄膜表面的电荷积累效应严重影响了薄膜质量。通过对宽束冷阴极离子源引出栅部分的改进,采用分时引出电子和离子方法,使正负电荷中和,以消除薄膜表面的放电现象,并对引出电子束的束流密度、能量、发射角... 离子束辅助镀膜沉积过程中,绝缘薄膜表面的电荷积累效应严重影响了薄膜质量。通过对宽束冷阴极离子源引出栅部分的改进,采用分时引出电子和离子方法,使正负电荷中和,以消除薄膜表面的放电现象,并对引出电子束的束流密度、能量、发射角等参数进行了测试。实验结果表明:在引出电压为600 V时,电子的平均能量为100 eV左右;引出电子束的发射角可以达到±40°,在±15°范围内的束流密度波动小于±5%。引出电子的束流密度较同参数下的离子束流密度小,通过调节脉冲电源的占空比,可达到很好的中和效果。 展开更多
关键词 宽束冷阴极离子源 束流密度 电子能量 发射角
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