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KTN thin films prepared by pulsed laser deposition on transparent single crystal quartz(100) 被引量:1
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作者 WANG Xiaodong, PENG Xiaofeng & ZHANG Duanming Laboratory of Phase Change and Interfacial Transport Phenomena, Department of Thermal Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China Department of Physics, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2005年第1期33-43,共11页
Using the Sol-Gel method to produce the KTN ultrafine powder and the sintering technique with K2O atmosphere to prepare KTN ceramics as the targets instead of the KTN single crystal, highly oriented KTN thin films wer... Using the Sol-Gel method to produce the KTN ultrafine powder and the sintering technique with K2O atmosphere to prepare KTN ceramics as the targets instead of the KTN single crystal, highly oriented KTN thin films were produced on the transparent single crystal quartz (100) by the pulsed laser deposition (PLD). Since the thermal stress sustained by the quartz is relatively small, the limit temperature of the quartz substrates(300℃) is much lower than that of the P-Si substrates (560℃); the prepared thin film is at amorphous state. Increasing the pulsed laser energy density in the process incorporated with annealing the film after deposition at different temperatures converts the amorphous films into crystal. The optimal pulsed laser energy density and annealing temperature were 2.0 J/cm2 and 600℃, respectively. A discussion was made to understand the mechanism of film production at relatively low substrate temperature by PLD and effects of the annealing temperatures on the forming of the perovskite phase, and optimal conditions for the orientation of the crystal grain. 展开更多
关键词 PLD technology ktn thin film single crystal quartz pulsed energy density annealing perovskitephase.
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Preparation of Epitaxial KTN Thin Films by Sol-Gel Process
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作者 包定华 邝安祥 +1 位作者 顾豪爽 王世敏 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1993年第7期550-553,共4页
1 Introduction The Sol-Gel process has received a great deal of attention, primarily because it can offer many advantages over the conventional process, such as high purity, molecular-level homogeneity, easier composi... 1 Introduction The Sol-Gel process has received a great deal of attention, primarily because it can offer many advantages over the conventional process, such as high purity, molecular-level homogeneity, easier composition control and reduced processing temperature. These advantages make Sol-Gel process become one of the promising fabrication methods for ferroelectric ceramics. Sol-Gel-derived thin films of BaTiO<sub>3</sub>, PbTiO<sub>3</sub>, Pb (Zr, Ti)O<sub>3</sub>, PLZT and others have all been reported, but there is little information relating to the potential 展开更多
关键词 ktn thin film SOL-GEL process EPITAXIAL growth.
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透明KTN薄膜的PLD法制备及其铁电性能研究 被引量:1
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作者 王晓东 彭晓峰 张端明 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第4期599-604,共6页
用Sol Gel法制备KTN多晶粉末,在富氧气氛下烧结富钾KTN陶瓷,代替KTN单晶作为靶材,用PLD技术结合后期退火技术,在透明石英单晶(100)上制备出高取向的透明KTN薄膜,对薄膜厚度、折射率、伏~安(I~V)特性、介电特性进行了测试与分析.I~V... 用Sol Gel法制备KTN多晶粉末,在富氧气氛下烧结富钾KTN陶瓷,代替KTN单晶作为靶材,用PLD技术结合后期退火技术,在透明石英单晶(100)上制备出高取向的透明KTN薄膜,对薄膜厚度、折射率、伏~安(I~V)特性、介电特性进行了测试与分析.I~V特性表明,低电场强度下,I~V服从欧姆定律,高电场强度下,I~V服从平方关系,可用空间电荷限制电流模型解释.电容~测试电场频率(C~F)特性表明,低频电容色散大,高频色散小,10kHz时介电常数为12600. 展开更多
关键词 PLD ktn 薄膜 石英单晶
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脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟 被引量:4
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作者 陈中军 张端明 +1 位作者 李智华 张美军 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 2000年第5期92-94,共3页
根据流体力学理论 ,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟 ,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律 .结果表明 ,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉 ,当激光束的位置和方向不变时 ,KTN薄膜的... 根据流体力学理论 ,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了模拟 ,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律 .结果表明 ,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉 ,当激光束的位置和方向不变时 ,KTN薄膜的厚度分布不均匀 ,呈现类高斯分布形状 。 展开更多
关键词 ktn薄膜 脉冲激光沉积 动力学过程 数值模拟
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sol-gel法制备KTN薄膜厚度及均匀性控制 被引量:1
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作者 王龙海 罗英军 +1 位作者 王世敏 黄桂玉 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2000年第2期5-6,共2页
利用干涉法、扫描电子显微镜 (SEM)、 X射线衍射 (XRD)等方法分析 sol- gel法制备的 KTN (钽铌酸钾 )薄膜 ,详细分析讨论 gel膜制备及热处理过程各因素对薄膜厚度及均匀性的影响。结果表明控制 gel膜厚度及均匀性的关键是根据溶液黏度... 利用干涉法、扫描电子显微镜 (SEM)、 X射线衍射 (XRD)等方法分析 sol- gel法制备的 KTN (钽铌酸钾 )薄膜 ,详细分析讨论 gel膜制备及热处理过程各因素对薄膜厚度及均匀性的影响。结果表明控制 gel膜厚度及均匀性的关键是根据溶液黏度的变化及时调整匀胶转速、热处理过程中用低的升降温速度和通氧 ,整个工艺控制容易、重复性好。最终制出的薄膜为表面晶粒大小均匀、排列紧密、厚度一致、纯钙钛矿结构、高取向的KTN薄膜。 展开更多
关键词 溶胶凝胶法 钽铌酸钾薄膜 厚度控制 均匀性控制
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溶胶-凝胶方法制备KTa_(0.65)Nb_(0.35)O_3薄膜的凝胶化和热处理研究 被引量:2
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作者 卢朝靖 王世敏 +3 位作者 赵建洪 黄桂玉 包定华 邝安祥 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1993年第4期466-472,共7页
本文较系统地研究了溶胶-凝胶方法制备 KTa_(0.65)Nb_(0.35)O_3薄膜的凝胶化行为和热处理.用自制的金属醇盐KOC_2H_5、Nb(OC_2H_5)_5和 Ta(OC_2H_5)_5为原料,无水乙醇作溶剂,配制均匀的溶液.实验结果表明,溶液浓度、介质或催化剂的使用... 本文较系统地研究了溶胶-凝胶方法制备 KTa_(0.65)Nb_(0.35)O_3薄膜的凝胶化行为和热处理.用自制的金属醇盐KOC_2H_5、Nb(OC_2H_5)_5和 Ta(OC_2H_5)_5为原料,无水乙醇作溶剂,配制均匀的溶液.实验结果表明,溶液浓度、介质或催化剂的使用、匀胶时的环境温度和湿度及单层膜厚等因素对凝胶薄膜的形成有较大影响.条件适宜时可得到与衬底附着紧固的均匀透明的凝胶薄膜.随着热处理温度升高,薄膜首先从非晶态结晶成焦绿石结构的 KTN 相,然后在更高的温度转变成钙钛矿相.不同的衬底所需的烧结温度不同,烧成后薄膜的晶粒取向也不同.为彻底排除薄膜内的酸根、有机基团和碳元素,热处理温度不宜低于700℃. 展开更多
关键词 铁电薄膜 溶胶-凝胶法 热处理
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PLD制膜过程中等离子体羽辉演化的模拟 被引量:1
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作者 关丽 张端明 +1 位作者 李智华 刘治 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期96-97,103,共3页
在建立脉冲激光沉积综合统一理论模型的基础上 ,进一步研究了制备KTa0 .65Nb0 .3 5O3 (KTN)薄膜过程中等离子体的空间演化规律 .用有限差分法得到了等离子体的速度在等温阶段和绝热阶段两个阶段的演化规律 ,并对这两个阶段粒子速度空间... 在建立脉冲激光沉积综合统一理论模型的基础上 ,进一步研究了制备KTa0 .65Nb0 .3 5O3 (KTN)薄膜过程中等离子体的空间演化规律 .用有限差分法得到了等离子体的速度在等温阶段和绝热阶段两个阶段的演化规律 ,并对这两个阶段粒子速度空间演化的物理机制进行了深入讨论 。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 等离子体羽辉 差分模拟 粒子速度 ktn薄膜
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Dynamic simulation on the preparation process of thin films by pulsed laser 被引量:1
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作者 张端明 李智华 +4 位作者 郁伯铭 黄明涛 关丽 钟志成 李国栋 《Science China Mathematics》 SCIE 2001年第11期1485-1496,共12页
An ablation model of targets irradiated by pulsed laser is established. By using the simple energy balance conditions, the relationship between ablation surface location and time is derived. By an adiabatic approximat... An ablation model of targets irradiated by pulsed laser is established. By using the simple energy balance conditions, the relationship between ablation surface location and time is derived. By an adiabatic approximation, the continuous-temperature condition, energy conservation and all boundary conditions can be established. By applying the analytical method and integral-approximation method, the solid and liquid phase temperature distributions are obtained and found to be a function of time and location. The interface of solid and liquid phase is also derived. The results are compared with the other published data. In addition, the dynamics process of pulsed laser deposition of KTN (Kta0.65Nb0.35O3) thin film is simulated in detail by using fluid dynamics theory. By combining the expression of the target ablation ratio and the dynamic equation and by using the experimental data, the effects of laser action parameters on the thickness distribution of thin film and on the thin film component characteristics are discussed. The results are in good agreement with the experimental data. 展开更多
关键词 ablation ratio ktn thin film PLASMA pulsed laser deposition (PLD)
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Sol-gel生长KTa_(1-x)Nb_xO_3电光薄膜的成分和结构
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作者 卢朝靖 王世敏 +3 位作者 邝安祥 黄桂玉 王龙海 王典芬 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1995年第2期158-162,共5页
采用XPS方法研究了sol-gel工艺制备的KTN(x=0.35)薄膜的成分和结构.结果表明,除了表面被碳污染外,薄膜中无残余的碳和其他杂质.其成分与原料的化学计量比相近,且沿深度均匀分布.各元素的化学状态证实薄膜系... 采用XPS方法研究了sol-gel工艺制备的KTN(x=0.35)薄膜的成分和结构.结果表明,除了表面被碳污染外,薄膜中无残余的碳和其他杂质.其成分与原料的化学计量比相近,且沿深度均匀分布.各元素的化学状态证实薄膜系钙钛矿型KTN结构.Ar+溅射后的XPS谱反映K严重偏低,Ta和Nb的化学状态改变,是Ar+轰击引起K择优溅射及化合物分解所致. 展开更多
关键词 钽铌酸钾 薄膜 X射线 光电子能谱 溶胶-凝胶法
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KTN薄膜脉冲激光沉积过程的机理研究 被引量:5
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作者 李智华 张端明 +4 位作者 陈中军 黄明涛 关丽 钟志成 李国栋 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第10期1950-1955,共6页
根据能量平衡原理 ,导出了脉冲激光作用靶材的烧蚀率公式 ,并根据流体动力学理论 ,得出了脉冲激光产生的等离子体的空间运动特性方程 ,将靶材烧蚀率公式与等离子体空间动力学方程结合起来 ,根据实验研究了不同激光功率密度和波长对KTa0 ... 根据能量平衡原理 ,导出了脉冲激光作用靶材的烧蚀率公式 ,并根据流体动力学理论 ,得出了脉冲激光产生的等离子体的空间运动特性方程 ,将靶材烧蚀率公式与等离子体空间动力学方程结合起来 ,根据实验研究了不同激光功率密度和波长对KTa0 6 5Nb0 .35O3(KTN)薄膜沉积特性的影响 ,得到了一些有价值的结果 ,并对结果进行了详细的讨论 ,理论计算结果与实验大体符合 . 展开更多
关键词 脉冲激光沉积过程 PLD技术 烧蚀率 等离子体 ktn薄膜 空间运动特性方程
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梯度复合KTN薄膜的铁电和热释电性能研究
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作者 董兵海 王世敏 +1 位作者 许祖勋 吴会光 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期313-317,共5页
在Pt/Ti/SiO2/Si基片上采用Sol-Gel法制备了五组分成分梯度分布的KTa1-xNbxO3(x=0.55,0.525,0.50,0.425,040)热释电薄膜。测试结果表明,复合KTN薄膜具有钙钛矿型结构,0.5μmKTN薄膜在15℃至51℃温度范围内,频率1.0kHz时,平均相对介电常... 在Pt/Ti/SiO2/Si基片上采用Sol-Gel法制备了五组分成分梯度分布的KTa1-xNbxO3(x=0.55,0.525,0.50,0.425,040)热释电薄膜。测试结果表明,复合KTN薄膜具有钙钛矿型结构,0.5μmKTN薄膜在15℃至51℃温度范围内,频率1.0kHz时,平均相对介电常数εr=1075,平均介电损耗tanδ=0.011。在室温及120kV/cm下极化30m in后,0.5μm复合薄膜在15-51℃温度范围内热释电系数出现峰值,平均热释电系数为3.54×10-6C/(cm2.K),电压响应优值Fv=1.205×10-9C.cm/J,探测度优值Fd=3.768×1-7C.cm/J。该薄膜工作温度范围较宽,作为热释电材料开发应用前景十分广阔。 展开更多
关键词 多组分梯度 ktn薄膜 铁电性能 热释电性能
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脉冲激光制膜过程中等离子体演化规律的研究 被引量:6
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作者 张端明 关丽 +4 位作者 李智华 钟志成 侯思普 杨凤霞 郑克玉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期242-246,共5页
利用有限差分法对脉冲激光沉积 (PLD)技术制备KTa0 6 5Nb0 35O3(KTN)薄膜过程中等离子体在等温和绝热两个阶段的速度演化进行了模拟 ,并给出了其中主要粒子在空间的具体演化规律 ,对等离子体在空间膨胀的物理机制 ,进行了深入的讨论 ... 利用有限差分法对脉冲激光沉积 (PLD)技术制备KTa0 6 5Nb0 35O3(KTN)薄膜过程中等离子体在等温和绝热两个阶段的速度演化进行了模拟 ,并给出了其中主要粒子在空间的具体演化规律 ,对等离子体在空间膨胀的物理机制 ,进行了深入的讨论 ,给出了相应演化过程的物理图像 ,并揭示了等离子体羽辉在膨胀过程中呈现椭球外形的内在原因 . 展开更多
关键词 演化规律 脉冲激光沉积 等离子体 有限差分 速度演化 速度演化 ktn薄膜 制备
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