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Identifying the enhancement mechanism of Al/MoO_(3) reactive multilayered films on the ignition ability of semiconductor bridge using a one-dimensional gas-solid two-phase flow model
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作者 Jianbing Xu Yuxuan Zhou +3 位作者 Yun Shen Yueting Wang Yinghua Ye Ruiqi Shen 《Defence Technology(防务技术)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期168-179,共12页
Energetic Semiconductor bridge(ESCB)based on reactive multilayered films(RMFs)has a promising application in the miniature and intelligence of initiator and pyrotechnics device.Understanding the ignition enhancement m... Energetic Semiconductor bridge(ESCB)based on reactive multilayered films(RMFs)has a promising application in the miniature and intelligence of initiator and pyrotechnics device.Understanding the ignition enhancement mechanism of RMFs on semiconductor bridge(SCB)during the ignition process is crucial for the engineering and practical application of advanced initiator and pyrotechnics devices.In this study,a one-dimensional(1D)gas-solid two-phase flow ignition model was established to study the ignition process of ESCB to charge particles based on the reactivity of Al/MoO_(3) RMFs.In order to fully consider the coupled exothermic between the RMFs and the SCB plasma during the ignition process,the heat release of chemical reaction in RMFs was used as an internal heat source in this model.It is found that the exothermal reaction in RMFs improved the ignition performance of SCB.In the process of plasma rapid condensation with heat release,the product of RMFs enhanced the heat transfer process between the gas phase and the solid charge particle,which accelerated the expansion of hot plasma,and heated the solid charge particle as well as gas phase region with low temperature.In addition,it made up for pressure loss in the gas phase.During the plasma dissipation process,the exothermal chemical reaction in RMFs acted as the main heating source to heat the charge particle,making the surface temperature of the charge particle,gas pressure,and gas temperature rise continuously.This result may yield significant advantages in providing a universal ignition model for miniaturized ignition devices. 展开更多
关键词 Ignition enhancement mechanism 1D gas-solid two-phase flow al/MoO_(3)reactive multilayered films Semiconductor bridge Miniaturized ignition device
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不同初始应力的Kapton薄膜的蠕变性能研究
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作者 刘岩 薛鑫媛 +1 位作者 范磊 陈奕贤 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期127-138,共12页
聚酰亚胺薄膜(Kapton薄膜)作为一种航天膜材,其蠕变效应对结构的影响至关重要。为研究其蠕变力学性能,首先选用厚度为25μm的Kapton薄膜,在极限抗拉强度的35%、50%、65%、80%4组应力水平下,进行单轴蠕变拉伸试验。其次根据得到的蠕变力... 聚酰亚胺薄膜(Kapton薄膜)作为一种航天膜材,其蠕变效应对结构的影响至关重要。为研究其蠕变力学性能,首先选用厚度为25μm的Kapton薄膜,在极限抗拉强度的35%、50%、65%、80%4组应力水平下,进行单轴蠕变拉伸试验。其次根据得到的蠕变力学曲线分析不同初始应力下薄膜蠕变的变化规律,结合蠕变伸长率描述薄膜随初始应力的蠕变特性并探讨其内在机理。最后采用经典Kelvin、经典Maxwell、四元件Burgers、三参数广义Kelvin、五参数广义Kelvin 5种蠕变本构模型对试验数据进行拟合,并对比分析各模型的拟合效果。结果表明:Kapton膜材具有明显的粘弹性性能,在设计中应予以考虑;初始应力对Kapton膜材的蠕变性能影响显著,初始应力越大,蠕变初期应变越大,稳态蠕变阶段应变保持值越高,粘弹性越明显;不同方向上的拉伸断裂应力水平导致蠕变性能的差异性,各应力状态下总应变TD(机器展开方向)大于MD(垂直方向);随着初始应力的增大,薄膜的蠕变伸长率先增大后减小,这是因为初始应力对薄膜内部的应力状态和位错运动的影响是复杂的,并且存在一个平衡点。本研究采用的五参数广义Kelvin模型能够较好地预测Kapton膜材的蠕变性能,拟合结果的可决系数均超过0.99,Burgers模型次之;经典Kelvin、三参数广义Kelvin以及经典Maxwell模型拟合可决系数在0.71~0.86之间,其拟合结果满足实际工程的需要。 展开更多
关键词 kapton薄膜 粘弹性力学 蠕变性能 初始应力 蠕变本构模型
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Enhancement of catalytic and anti-carbon deposition performance of SAPO-34/ZSM-5/quartz films in MTA reaction by Si/Al ratio regulation 被引量:2
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作者 Jiaxin Wu Chenxiao Wang +6 位作者 Xianliang Meng Haichen Liu Ruizhi Chu Guoguang Wu Weisong Li Xiaofeng Jiang Deguang Yang 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第4期314-324,共11页
In order to further improve the catalytic performance of zeolite catalyst for methanol to aromatics(MTA)technology, the double-tier SAPO-34/ZSM-5/quartz composite zeolite films were successfully synthesized via hydrot... In order to further improve the catalytic performance of zeolite catalyst for methanol to aromatics(MTA)technology, the double-tier SAPO-34/ZSM-5/quartz composite zeolite films were successfully synthesized via hydrothermal crystallization. The Si/Al ratio of SAPO-34 film was used as the only variable to study this material. The composite zeolite material with 0.6Si/Al ratio of SAPO-34 has the largest mesoporous specific surface area and the most suitable acid distribution. The catalytic performance for the MTA process showed that 0.6-SAPO-34/ZSM-5/quartz film has as high as 50.3% benzene-toluenexylene selectivity and 670 min lifetime. The MTA reaction is carried out through the path we designed to effectively avoid the hydrocarbon pool circulation of ZSM-5 zeolite, so as to improve the aromatics selectivity and inhibit the occurrence of deep side reactions to a great extent. The coke deposition behavior was monitored by thermogravimetric analysis and gas chromatograph/mass spectrometer, it is found that with the increase of Si/Al ratio, the active intermediates changed from low-substituted methylbenzene to high-substituted methylbenzene, which led to the rapid deactivation of the catalyst. This work provides a possibility to employ the synergy effect of composite zeolite film synthesizing anti-carbon deposition catalyst in MTA reaction. 展开更多
关键词 Composite zeolite film Methanol to aromatics Anti-carbon deposition Si/al ratio Hydrocarbon pool circulation mechanism
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同位靶磁控溅射法制备Al掺杂CdSe薄膜
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作者 何惠江 宣乐 +2 位作者 毛高翔 刘辉 王春海 《热加工工艺》 北大核心 2024年第16期159-162,共4页
为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻... 为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻由5.2 kΩ/□升高至544.5 kΩ/□。随着Al掺杂量的增加,薄膜的方块电阻下降。当共溅射Al片为6片时,薄膜方块电阻为7.7 kΩ/□,薄膜半导体类型由p型转变为n型。掺杂薄膜体电导率分别为192.4(未掺杂)、2.01×10^(4)(Al片数1)、506.9(Al片数2)、384.8(Al片数4)、284.9 mΩ·cm(Al片数6)。掺杂薄膜样品的禁带宽度Eg分别为1.82(未掺杂)、1.97(Al片数1)、1.75(Al片数2)、1.78(Al片数4)、1.82 eV(Al片数6)。 展开更多
关键词 同位靶磁控溅射 al掺杂CdSe薄膜 电学行为
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Al掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜光学性质的影响研究
5
作者 钟琼丽 王绪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第8期1352-1360,共9页
近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_... 近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)复合结构,经高温退火使Al原子热扩散进入薄膜中,形成Al掺杂的β-Ga_(2)O_(3)薄膜。采用激光区熔法使薄膜区域熔化再结晶,进一步提升掺杂质量。对Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体性质、杂质含量及光学性质进行了测试表征。结果表明:Al掺杂不改变β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体结构;随着Al层溅射时间延长,掺杂含量逐渐增加;当Al溅射时间为5和10 s时,薄膜紫外吸收率分别为40%和50%;随着Al溅射时间的增加,Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜紫外区域光吸收率逐渐增强,Al溅射时间为300 s时,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的光吸收率接近90%;低浓度的Al掺杂会导致β-Ga_(2)O_(3)薄膜的禁带宽度变窄。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 al掺杂 磁控溅射 Ga_(2)O_(3)/al/Ga_(2)O_(3)/al/Ga_(2)O_(3)复合结构 光吸收 光学带隙
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电泳沉积PVDF/Al/CuO复合含能薄膜及其燃烧性能研究
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作者 胡祥 王宇 +3 位作者 王玉滢 齐梦迪 马自力 尹艳君 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期30-35,共6页
基于含氟聚合物的强氧化及含氟量高的特性,以聚偏二氟乙烯(PVDF)为代表,通过电泳技术,采用石胆酸(LCA)作为表面活性剂,制备了PVDF/Al/CuO有机/无机杂化含能薄膜,并对其组分、结构、形貌及含能特性进行了系统的表征。结果表明:PVDF电泳... 基于含氟聚合物的强氧化及含氟量高的特性,以聚偏二氟乙烯(PVDF)为代表,通过电泳技术,采用石胆酸(LCA)作为表面活性剂,制备了PVDF/Al/CuO有机/无机杂化含能薄膜,并对其组分、结构、形貌及含能特性进行了系统的表征。结果表明:PVDF电泳沉积过程中石胆酸的最佳添加剂量为3mL(1wt%);当PVDF添加量为2wt%时,PVDF/Al/CuO复合薄膜的燃烧性能最好,热释放能量达3924J/g,远远高于Al/CuO的热释放能量。产生上述实验结果的主要原因是PVDF本身具有氧化特性,能够与铝发生化学反应,释放热量;此外,PVDF热分解产生的氟能够腐蚀铝表面的钝化膜,进而释放活性铝,极大提升了Al/CuO体系的能量释放效果。 展开更多
关键词 电泳沉积 PVDF/al/CuO含能薄膜 燃烧现象
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电子辐照能量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响 被引量:9
7
作者 李春东 杨德庄 +1 位作者 何世禹 M.M.Mikhailov 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期741-745,共5页
 研究了电子辐照时,电子能量与累积通量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响。采用原位测量的手段记录了辐照前后的光谱反射系数。试验结果表明,电子辐照后Kapton/Al热控涂层的反射性能,在太阳光谱辐射强度较大的300~1200nm波长区间产...  研究了电子辐照时,电子能量与累积通量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响。采用原位测量的手段记录了辐照前后的光谱反射系数。试验结果表明,电子辐照后Kapton/Al热控涂层的反射性能,在太阳光谱辐射强度较大的300~1200nm波长区间产生较大程度退化。在电子辐照作用下,作为离子导电型聚合物的Kapton薄膜表面没有发现辐照充电效应。辐照后涂层材料存在"退火效应",或称"漂白效应"。Kapton/Al涂层太阳吸收比的变化量与电子辐照累积通量的变化关系成幂函数形式,其系数与指数的极大值与极小值分别出现在电子能量为50keV附近。在辐照累积通量相同时,该变化量随辐照电子能量的提高而增大。 展开更多
关键词 kapton/al 热控涂层 电子辐照 光学性能 空间环境 地面模拟
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原子氧与紫外综合辐照对Kapton/Al性能的影响 被引量:2
8
作者 姜海富 柴丽华 +2 位作者 田修波 李胜刚 牟永强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期779-783,共5页
Kapton/Al薄膜二次表面镜是一种广泛应用的热控涂层,用于维持航天器表面正常的工作温度。本文利用激光源原子氧设备对Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了原子氧与紫外综合辐照试验,试验前后通过高精度微量天平、扫描电镜、紫外-可见-近红外... Kapton/Al薄膜二次表面镜是一种广泛应用的热控涂层,用于维持航天器表面正常的工作温度。本文利用激光源原子氧设备对Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了原子氧与紫外综合辐照试验,试验前后通过高精度微量天平、扫描电镜、紫外-可见-近红外分光光度计及X射线光电子能谱仪等测试分析手段观察了材料质量损失、表面形貌、光学性能随辐照时间的演化规律,分析了试验前后Kapton/Al薄膜二次表面镜表面成份的变化。结果表明:Kapton/Al薄膜二次表面镜的质量损失随辐照时间的增加呈线性增大,原子氧与紫外综合辐照造成的质量损失明显高于单独原子氧作用产生的质量损失;试验后试样表面呈"地毯"状形貌,且随辐照时间的增加表面粗糙度变大;Kapton/Al薄膜二次表面镜的光谱反射系数随综合辐照时间的增加而降低,致使太阳吸收比的变化不断增大;试验后试样表面成份变化明显,说明原子氧和紫外环境与Kapton/Al薄膜二次表面镜表面发生了复杂的物理化学作用。 展开更多
关键词 kapton/al薄膜二次表面镜 原子氧 紫外 光谱反射系数 太阳吸收比
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Effect of citric acid on microstructure and electrochemical characteristics of high voltage anodized alumina film formed on etched Al Foils 被引量:4
9
作者 班朝磊 何业东 邵鑫 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第1期133-138,共6页
Aluminum capacitor foils with a tunnel etch structure were reacted with boiling water and then anodized at 530 V in boric acid solution or boric acid+citric acid mixed solution.The microstructure and crystallinity of... Aluminum capacitor foils with a tunnel etch structure were reacted with boiling water and then anodized at 530 V in boric acid solution or boric acid+citric acid mixed solution.The microstructure and crystallinity of the resulting anodized film were examined by TEM and XRD.The special capacitance,resistance and withstanding voltage of the film were explored with electrochemical impedance spectroscopy(EIS),LCR meter and small-current charging.The results show that the high voltage anodized oxide film consists of an inner layer with high crystallinity and an outer layer with low crystallinity.However,the crystallinity of the film formed in boric acid+citric acid mixed solution is higher than that of the film formed in only boric acid solution,leading to an increase in film's field strength and special capacitance.Meanwhile,there are more defects from phase transformation in the out layer of the film formed in boric acid+citric acid mixed solution than in that of film formed in only boric acid solution,leading to a decrease in film's resistance and withstanding voltage. 展开更多
关键词 citric acid anodized oxide film al foil al electrolytic capacitor electrochemical performance
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Kapton抗原子氧侵蚀的Al_2O_3涂层研究 被引量:4
10
作者 多树旺 李美栓 +3 位作者 张亚明 韩恩厚 童靖宇 孙刚 《宇航学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期68-72,共5页
在原子氧侵蚀地面模拟设备中对 Kapton和利用反应溅射制备的 Al2 O3 涂层进行了原子氧暴露实验 ,并采用 XPS和 SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究。结果表明 ,Kapton试样遭受了严重的侵蚀 ,质量损失较大 ;Al2 ... 在原子氧侵蚀地面模拟设备中对 Kapton和利用反应溅射制备的 Al2 O3 涂层进行了原子氧暴露实验 ,并采用 XPS和 SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究。结果表明 ,Kapton试样遭受了严重的侵蚀 ,质量损失较大 ;Al2 O3 涂层质量变化很小 ,对基体提供了良好的保护作用。XPS分析结果表明 ,Kap-ton的羰基与原子氧作用时形成 CO2 ,随后 CO2 气体脱附。反应溅射的 Al2 O3 涂层是富 Al的 ,初始暴露时由于氧化反应而质量有少许增加 ,随时间延长 。 展开更多
关键词 kapton 原子氧侵蚀 al2O3涂层 原子氧效应 低地轨道 地面模拟试验 防护涂层 氧化铝 聚酰亚胺
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原子氧与紫外综合辐照下Kapton/Al结构变化
11
作者 姜海富 李胜刚 +4 位作者 周晶晶 牟永强 柴丽华 院小雪 臧卫国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期196-202,共7页
在激光源原子氧地面模拟设备中对Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了原子氧与紫外综合辐照实验,研究了Kapton/Al薄膜质量及太阳吸收比的变化,重点关注了实验前后Kapton/Al薄膜表面结构及成份的改变。结果表明:Kapton/Al薄膜二次表面镜的质... 在激光源原子氧地面模拟设备中对Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了原子氧与紫外综合辐照实验,研究了Kapton/Al薄膜质量及太阳吸收比的变化,重点关注了实验前后Kapton/Al薄膜表面结构及成份的改变。结果表明:Kapton/Al薄膜二次表面镜的质量随辐照时间的增加逐渐减小,太阳吸收比的变化趋势与之相反,随辐照时间的增加逐渐增大;综合辐照后Kapton/Al薄膜表面主要官能团数量呈下降趋势;综合辐照过程中材料表面C-C键、C-N键的破坏及在原子氧和紫外环境中重新结合成新的化学结构是造成Kapton/Al薄膜性能退化的主要微观机制,气体小分子的挥发是造成Kapton/Al薄膜质量损失的主要原因。 展开更多
关键词 原子氧 紫外 辐照 kapton/al 表面结构
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EFFECT OF ELECTRODEPOSITED Cr_2O_3 OXIDE FILM ON THE OXIDATION OF Fe_3Al
12
作者 王永刚 何业东 朱日彰 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 1995年第2期108+104-107,共5页
A uniform, dense and defect free Cr2O3 thin film, which is amorphous at ambient temperature, was applied on the surface of intermetallic Fe3Al by electrodeposition reaction sintering, and the effect of this film on th... A uniform, dense and defect free Cr2O3 thin film, which is amorphous at ambient temperature, was applied on the surface of intermetallic Fe3Al by electrodeposition reaction sintering, and the effect of this film on the oxidation of Fe3Al at 900 ℃ in air was studied. The films and the oxide scales were analyzed by TEM, EDAX,SEM and XRD.It is proved that, by surface applied Cr2O3 thin film,a continuous, protective,fine grained α-Al2O3 scale was formed on Fe3Al. As a result, the adherence of the scale and oxidation resistance of Fe3Al were improved. 展开更多
关键词 OXIDATION Fe_3al thin film//
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激光源原子氧对Kapton薄膜和Kapton/Al薄膜二次表面镜性能的影响 被引量:7
13
作者 李胜刚 李春东 +3 位作者 田修波 杨士勤 何世禹 何松 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期590-595,共6页
在模拟空间环境原子氧暴露条件下,采用激光源原子氧对热控涂层材料Kapton薄膜、Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了不同剂量的暴露试验。研究了这两种材料的质量损失、表面形貌随原子氧暴露剂量的变化关系,以及Kapton薄膜的光谱透过率、Kapt... 在模拟空间环境原子氧暴露条件下,采用激光源原子氧对热控涂层材料Kapton薄膜、Kapton/Al薄膜二次表面镜进行了不同剂量的暴露试验。研究了这两种材料的质量损失、表面形貌随原子氧暴露剂量的变化关系,以及Kapton薄膜的光谱透过率、Kapton/Al薄膜二次表面镜的光谱反射率和太阳吸收比Δαs随原子氧暴露剂量的演化规律。结果表明:两种材料的质量损失随原子氧暴露剂量的增加呈线性增大;原子氧暴露后,试样表面呈"地毯"状形貌,且随暴露剂量的增加粗糙度变大;Kapton薄膜的光谱透过率、Kapton/Al薄膜二次表面镜的光谱反射率随原子氧暴露剂量的增加而降低,Kapton/Al薄膜二次表面镜的太阳吸收比Δαs随暴露剂量的增加而增大。最后对Kapton薄膜的存在寿命和Kapton/Al薄膜二次表面镜绝热平面的平衡温度进行了预测。 展开更多
关键词 激光源原子氧 热控涂层 kapton薄膜 kapton/al薄膜二次表面镜 太阳吸收比
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keV质子辐照对Kapton/Al光学性能的影响 被引量:2
14
作者 李瑞琦 李春东 +2 位作者 何世禹 肖景东 杨德庄 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期500-502,共3页
采用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了质子辐照地面模拟试验,选取质子能量90keV,辐照通量5.0×1011cm-2.s-1。通过辐照前后光谱反射系数的变化考察了实验样品的光学性能退化特征。借助于反射光谱和紫外-可见吸收光谱和傅里叶... 采用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了质子辐照地面模拟试验,选取质子能量90keV,辐照通量5.0×1011cm-2.s-1。通过辐照前后光谱反射系数的变化考察了实验样品的光学性能退化特征。借助于反射光谱和紫外-可见吸收光谱和傅里叶转换红外光谱分析技术分析了辐照后Kapton/Al光学性能的退化机理。研究结果表明:辐照过程中样品表面发生了复杂的化学反应,随着辐照剂量的增加光能隙逐渐减小,Kapton吸收曲线的末端边缘发生红移并且在可见光区吸收强度增加。 展开更多
关键词 质子辐照 kapton/al薄膜 光学性能 光能隙 光谱反射系数
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质子辐照Kapton/Al的蒙特卡罗模拟 被引量:3
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作者 李瑞琦 李春东 +1 位作者 何世禹 杨德庄 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期13-16,共4页
采用蒙特卡罗方法(MC方法),模拟了质子辐照时质子的能量损失、射程、射程偏离及其产生的空位缺陷和电离能损分布。模拟结果表明:入射能量在10~300keV区间,Kapton/Al对入射质子的阻止本领主要取决于电子阻止本领,在80keV出现峰... 采用蒙特卡罗方法(MC方法),模拟了质子辐照时质子的能量损失、射程、射程偏离及其产生的空位缺陷和电离能损分布。模拟结果表明:入射能量在10~300keV区间,Kapton/Al对入射质子的阻止本领主要取决于电子阻止本领,在80keV出现峰值,可作为地面模拟试验能量选取的参考;质子在Kapton/Al中的射程分布可近似看作高斯分布,质子射程及其偏离随能量增加而增加;位移缺陷和电离作用是两个相对的过程,低能时主要表现为位移缺陷,高能时表现为电离作用。 展开更多
关键词 质子辐照 kapton/al 蒙特卡罗 能量损失 射程
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Kapton/Al薄膜的电子辐照损伤 被引量:6
16
作者 李瑞琦 李春东 +1 位作者 何世禹 杨德庄 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期577-580,共4页
使用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了电子辐照的地面模拟实验,研究了Kapton薄膜的表面形貌、光学性能变化和辐照损伤机制,结果表明,辐照使Kapton薄膜表面发生了明显的充放电效应;在500-1000nm波长区间光谱反射系数明显降低,太阳... 使用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了电子辐照的地面模拟实验,研究了Kapton薄膜的表面形貌、光学性能变化和辐照损伤机制,结果表明,辐照使Kapton薄膜表面发生了明显的充放电效应;在500-1000nm波长区间光谱反射系数明显降低,太阳吸收比随着电子辐照剂量的增加而增高;在辐照过程中Kapton薄膜发生酰亚胺基团的破坏、羰基和桥氧键的断裂以及O在N^+逸出空位处的替换,并有较复杂的新结构生成. 展开更多
关键词 有机高分子材料 电子辐照 kapton/al薄膜 辐照损伤机制
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Electroless plating and growth kinetics of Ni-P alloy film on SiC_p/Al composite with high SiC volume fraction 被引量:4
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作者 方萌 胡玲 +3 位作者 杨磊 史常东 吴玉程 汤文明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第3期799-805,共7页
After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bo... After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bonding action of Ni and P atoms in the Ni?P alloy were studied. The results show that inhomogeneous distribution of the Sn/Pd activating points results in preferential deposition of the Ni?P alloy particles on the Al alloy and rough SiC particle surfaces and in the etched caves. The Ni?P alloy film has an amorphous structure where chemical bonding between Ni and P atoms exists. After a continuous Ni?P alloy film formed, electroless Ni?P alloy plating is not affected by surface morphology and characteristics of the SiCp/Al composite any longer, but by the electroless plating process itself. The Ni?P alloy film follows linear growth kinetics with an activation energy of 68.44 kJ/mol. 展开更多
关键词 SiC_p/al composite electroless plating Ni-P alloy film MICROSTRUCTURE growth kinetics
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Kapton薄膜偏轴拉伸试验研究
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作者 刘岩 谢慧 +2 位作者 范磊 陈奕贤 刘俨震 《建筑科学与工程学报》 CAS 北大核心 2023年第1期57-64,共8页
为深入揭示Kapton高分子膜材强度和刚度特征,对其进行7个偏轴角度(0°、15°、30°、45°、60°、75°、90°)下的单轴拉伸试验,获得了材料在各角度下的应力-应变关系、强度和断裂延伸率等数据,推导了相应... 为深入揭示Kapton高分子膜材强度和刚度特征,对其进行7个偏轴角度(0°、15°、30°、45°、60°、75°、90°)下的单轴拉伸试验,获得了材料在各角度下的应力-应变关系、强度和断裂延伸率等数据,推导了相应的弹性模量-应变关系。结果表明:Kapton薄膜为典型的非线性、各向异性材料,整个拉伸过程的应力-应变曲线可以分为3个阶段,即近似弹性段、应变强化段、应力强化段;Kapton膜材强度随偏轴角度的变化表现出“N”形分布规律,异于Tsai-Hill等强度准则的“U”形规律,这是由于膜材内部分子链的择优取向,导致偏轴角度30°时抗拉强度最大,偏轴角度60°时抗拉强度最小;断裂延伸率随偏轴角度的增大呈现出增大的趋势;不同偏轴角度下的弹性模量均有所差异,正交各向异性板的弹性理论可以较好预测Kapton膜材的等效弹性模量;研究所得结论可为Kapton膜材强度、变形预测及相应的充气可展结构设计分析提供参考。 展开更多
关键词 kapton薄膜 偏轴拉伸试验 各向异性材料 弹性模量 力学性能
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TiAl合金电弧喷涂Al涂层的高温氧化性能
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作者 黄宏军 徐志鹏 +2 位作者 袁晓光 林雪健 郑博文 《沈阳工业大学学报》 CAS 北大核心 2023年第3期270-277,共8页
为了提升TiAl合金的高温抗氧化能力,采用电弧喷涂工艺在TiAl合金表面制备了纯铝涂层,并分别在900℃和1 000℃进行了恒温氧化试验.通过绘制氧化动力学曲线,对比了有无涂层试样的抗氧化性能.运用SEM、EDS、EPMA和XRD分析其氧化前后涂层的... 为了提升TiAl合金的高温抗氧化能力,采用电弧喷涂工艺在TiAl合金表面制备了纯铝涂层,并分别在900℃和1 000℃进行了恒温氧化试验.通过绘制氧化动力学曲线,对比了有无涂层试样的抗氧化性能.运用SEM、EDS、EPMA和XRD分析其氧化前后涂层的微观形貌、成分组成、元素分布和相组成.结果表明:纯铝涂层均匀致密、无裂纹.在900℃空气中氧化100 h后,涂层表面形成了致密的Al2O3氧化膜,次表层为TiAl3相,扩散层为TiAl2相.在1 000℃空气中氧化100 h后,涂层表面氧化膜由Al2O3和少量TiO2组成,次表层为TiAl3相,扩散层为TiAl2相.电弧喷涂铝涂层提高了TiAl合金的高温抗氧化能力. 展开更多
关键词 TIal合金 电弧喷涂 al涂层 高温氧化 扩散反应 热震 扩散层 氧化膜
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Al掺杂对TiO_(2)薄膜结构及光学性能的影响
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作者 王玉新 赵莉 +2 位作者 王禄 王泽文 蔺冬雪 《辽宁师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2023年第1期37-42,共6页
通过溶胶-凝胶法制备了本征TiO_(2)和Al掺杂的Al-TiO_(2)薄膜样品.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、薄膜测厚仪对制备的薄膜样品的性能进行了分析.分析表明:与本征TiO_(2)薄膜相比,Al的掺杂使... 通过溶胶-凝胶法制备了本征TiO_(2)和Al掺杂的Al-TiO_(2)薄膜样品.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、薄膜测厚仪对制备的薄膜样品的性能进行了分析.分析表明:与本征TiO_(2)薄膜相比,Al的掺杂使(101)晶面对应的衍射峰发生了一定角度的偏移,TiO_(2)的基本结构没有发生改变,晶粒尺寸缩小,晶面结构得到细化,扩大了薄膜的比表面积.随着Al掺杂量的增加,Al-TiO_(2)薄膜样品的光吸收度发生不同程度的改变,光学带隙值与本征TiO_(2)薄膜相比有所减小.当Al掺杂量为3at%时,所得薄膜样品结晶质量良好,晶粒分布均匀,吸光度表现最佳,带隙值最小为3.249eV. 展开更多
关键词 TiO_(2)薄膜 溶胶-凝胶法 al掺杂 光学性能 晶体结构
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