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Kirk effect and suppression for 20 V planar active-gap LDMOS 被引量:1
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作者 聂卫东 易法友 于宗光 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第5期59-63,共5页
For 20 V planar active-gap lateral double-diffused MOSFET (LDMOS), the sectional channel is utilized to decrease the electric field in the n-drift region below the poly gate edge in the off-state, compared with the ... For 20 V planar active-gap lateral double-diffused MOSFET (LDMOS), the sectional channel is utilized to decrease the electric field in the n-drift region below the poly gate edge in the off-state, compared with the conventional single channel. Then the n-drift concentration can be increased to decrease the Kirk effect, while keeping off-state breakdown voltage Vbd unchanged. Meanwhile the influence of the n-drift concentration and the n-drift length Ldrift (the drain n+ diffusion to gate spacing) which are related to the Kirk effect is discussed. The trade-offs between Rdson.Area, breakdown voltage Vbd and the electrical safe operating area (e-SOA) performance of LDMOS are considered also. Finally the proposed planar active-gap LDMOS devices with varied values of Ldria are experimentally demonstrated. The experimental results show that the Kirk effect can be greatly suppressed with slight increase in the Rdson.Area parameter. 展开更多
关键词 planar active-gap LDMOS sectional channel n-drift length L-drift n-drift concentration kirk effect electrical safe operating area
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“职教国培”效果评价指标体系的构建与应用建议
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作者 谢勇旗 饶斌 《中国职业技术教育》 北大核心 2024年第30期61-71,共11页
“职教国培”是提升职业院校教师队伍整体素质的关键路径,培训效果评价是提升“职教国培”质量的关键之举。构建科学、系统、有效的“职教国培”效果评价指标体系是提升培训实效的重要保障,是高质量发展时代的必然诉求,是破除评价困局... “职教国培”是提升职业院校教师队伍整体素质的关键路径,培训效果评价是提升“职教国培”质量的关键之举。构建科学、系统、有效的“职教国培”效果评价指标体系是提升培训实效的重要保障,是高质量发展时代的必然诉求,是破除评价困局的现实要求。基于文献分析法、访谈调查法和德尔菲法初步构建“职教国培”效果评价指标体系,在此基础上编制调查问卷检验构建效度和信度,最终基于层次分析法确定效果评价指标体系的各级权重。该指标体系可为后续“职教国培”效果评价实践提供行动参考,对提高“职教国培”实效具有重要意义。 展开更多
关键词 “职教国培” 效果评价体系 CIPP模型 柯氏模型 层次分析法
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质子注入缓冲层结构的高压FS-IGBT动态坚固性研究
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作者 魏晓光 聂瑞芬 +4 位作者 金锐 王耀华 李立 田宝华 王松华 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2024年第5期1924-1931,I0022,共9页
具有多重质子注入(multiple proton injection,MPI)缓冲层结构的FS-IGBT,相比传统磷注入缓冲层结构的同类型器件,其动态坚固性发生了改变。通过对MPI缓冲层结构的FS-IGBT的短路特性研究发现,MPI缓冲层的峰数越多,抗短路热失效能力越强,... 具有多重质子注入(multiple proton injection,MPI)缓冲层结构的FS-IGBT,相比传统磷注入缓冲层结构的同类型器件,其动态坚固性发生了改变。通过对MPI缓冲层结构的FS-IGBT的短路特性研究发现,MPI缓冲层的峰数越多,抗短路热失效能力越强,但是峰数太多,可能会引起IGBT在短路时的栅极电压振荡,造成器件失效。这与IGBT在短路大电流下的Kirk效应有关。Kirk效应造成短路时IGBT栅电极下电场降低,电子运动速率减小,进而栅电极下累积的电子造成栅极输入电容的改变,引起栅电压振荡。此外,实验发现,MPI缓冲层峰的氢相关施主(hydrogen-related donors,HDs)浓度不仅与注入剂量和激活温度有关,还与注入次数有关,具体表现为注入次数多,辐射损伤多,HDs浓度越高。文中研究不同MPI缓冲层结构的IGBT关断坚固性。 展开更多
关键词 多重质子注入 缓冲层 短路坚固性 振荡 kirk效应
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一种40 V NLDMOS器件热载流子寿命研究
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作者 鹿祥宾 单书珊 +3 位作者 余山 刘芳 钟明琛 邵亚利 《微电子学与计算机》 2024年第9期126-134,共9页
为了更精确预测基于0.18μm工艺的40 V NLDMOS器件实际应用条件下的热载流子寿命,介绍了一种通过可靠性测试和计算机辅助数学解析相结合的热载流子可靠性寿命预计方法。该方法基于实际直流状态下的热载流注入测试数据,结合TCAD仿真,对... 为了更精确预测基于0.18μm工艺的40 V NLDMOS器件实际应用条件下的热载流子寿命,介绍了一种通过可靠性测试和计算机辅助数学解析相结合的热载流子可靠性寿命预计方法。该方法基于实际直流状态下的热载流注入测试数据,结合TCAD仿真,对测试结果进行了线性函数、多次函数、幂函数、指数函数及Dreesen R函数拟合;通过分析当前业界LDMOS器件的热载流子注入测试主流模型预测精度的局限性,找出了最优热载流子模型,提出了适合Python语言编程的改进型Dreesen R模型;通过数学解析推导方法以及基于Python语言的计算机辅助编程计算,得出了栅极以及漏极全工作电压范围内的热载流子参数退化曲线;通过模拟工作波形不同上升沿及下降沿的函数曲线、上升及下降时间以及不同占空比,得出随着时间变化的交直流转换因子曲线。最终新的测试项目可以通过不同电压下的直流状态下测试结果以及已经得到的交直流转换因子曲线,来直接获取工作场景交流状态的热载流子寿命。该评估方法解决了采用直流状态下的测试来解决现场复杂应用波形的热载流子寿命评估难题,较大节省了测试时间,提高了寿命预测精度。 展开更多
关键词 40 V NLDMOS 热载流子注入 可靠性 交直流转换因子 寿命预计 kirk效应
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选择离子注入集电极技术研究 被引量:1
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作者 金海岩 张利春 高玉芝 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期130-133,共4页
为提高超高速双极晶体管的电流增益 ,降低大电流下基区扩展效应对器件的影响 ,将选择离子注入集电区技术 (SIC)应用于双层多晶硅发射极晶体管中。扩展电阻的测试结果显示出注入的 P离子基本上集中在集电区的位置 ,对发射区和基区未造成... 为提高超高速双极晶体管的电流增益 ,降低大电流下基区扩展效应对器件的影响 ,将选择离子注入集电区技术 (SIC)应用于双层多晶硅发射极晶体管中。扩展电阻的测试结果显示出注入的 P离子基本上集中在集电区的位置 ,对发射区和基区未造成显著影响。电学特性测量结果表明 ,经过离子注入的多晶硅发射极晶体管的电流增益和最大电流增益对应的集电极电流明显高于未经离子注入的晶体管。因此 ,在双层多晶硅晶体管中采用 SIC技术 ,有效地降低了基区的扩展效应 ,提高了器件的电学特性。 展开更多
关键词 基区扩展效应 选择离子注入集电区 双层多晶硅发射极晶体管 电流增益
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SOI-LDMOS器件改善电安全工作区后驼峰现象的研究 被引量:1
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作者 霍昌隆 刘斯扬 +1 位作者 钱钦松 孙伟锋 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期262-268,共7页
研究了高压SOI-LDMOS器件在引入P-sink结构改善电安全工作区(E-SOA)后I-V特性曲线呈现的驼峰现象(hump)。首先将驼峰现象出现后器件的源端总电流分成电子电流与空穴电流单独分析,确定高栅压下电子电流阶梯上升是驼峰现象产生的表面原因... 研究了高压SOI-LDMOS器件在引入P-sink结构改善电安全工作区(E-SOA)后I-V特性曲线呈现的驼峰现象(hump)。首先将驼峰现象出现后器件的源端总电流分成电子电流与空穴电流单独分析,确定高栅压下电子电流阶梯上升是驼峰现象产生的表面原因,进而通过仿真分析出Kirk效应导致的空穴电流在表面漂移区中电导调制是驼峰现象产生的根本原因。最后,根据对驼峰现象的分析,设计出新器件结构成功消除了驼峰现象,为今后不同类型LDMOS器件改善I-V曲线驼峰现象提供了理论指导。 展开更多
关键词 电安全工作区 驼峰现象 kirk效应 电导调制
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DEMOS在热载流子应力下的混合失效模式
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作者 高超 叶景良 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第9期881-885,共5页
研究了18V漏极延伸金属氧化物半导体场效应晶体管(DEMOS)在高栅极电压下的热载流子注入效应。实验观察到两种失效模式,分别是热空穴的注入效应和高栅压导致的阈值电压增大,发现其对器件损伤分别局限在漏极区域和沟道区域,对器件的性能... 研究了18V漏极延伸金属氧化物半导体场效应晶体管(DEMOS)在高栅极电压下的热载流子注入效应。实验观察到两种失效模式,分别是热空穴的注入效应和高栅压导致的阈值电压增大,发现其对器件损伤分别局限在漏极区域和沟道区域,对器件的性能影响正好相反,前者减少了漏极串联电阻,而后者增大了沟道电阻。描述了这两个失效模式的物理过程,分析并讨论了器件参数的退化曲线。讨论了如何提高DEMOS在高栅压下的抗热载流子的能力,指出了漏极上方的氧化层的质量和栅极氧化层中自由电荷数量,对于提高器件的可靠性至关重要。 展开更多
关键词 漏极延伸金属氧化物半导体场效应晶体管 热载流子 热空穴 kirk效应
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Considerations of dopant-dependent bandgap narrowing for accurate device simulation in abrupt HBTs 被引量:1
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作者 周守利 熊德平 覃亚丽 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期30-33,共4页
Heavy doping of the base in HBTs brings about a bandgap narrowing (BGN) effect, which modifies the intrinsic carrier density and disturbs the band offset, and thus leads to the change of the currents. Based on a the... Heavy doping of the base in HBTs brings about a bandgap narrowing (BGN) effect, which modifies the intrinsic carrier density and disturbs the band offset, and thus leads to the change of the currents. Based on a thermionic-field-diffusion model that is used to the analyze the performance of an abrupt HBT with a heavydoped base, the conclusion is made that, although the BGN effect makes the currents obviously change due to the modification of the intrinsic carrier density, the band offsets disturbed by the BGN effect should also be taken into account in the analysis of the electrical characteristics of abrupt HBTs. In addition, the BGN effect changes the bias voltage for the onset of Kirk effects. 展开更多
关键词 HBTS bandgap narrowing intrinsic carrier density band offsets kirk effects
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