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非晶IGZO透明导电薄膜的L-MBE制备 被引量:3
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作者 王东 张景文 +2 位作者 种景 王建功 侯洵 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2009年第6期133-136,共4页
报道了一种利用等离子辅助激光分子束外延技术(L-MBE)在石英衬底上制备IGZO透明导电薄膜的新工艺.该工艺在超高真空中进行,可以有效避免杂质和污染,提高薄膜的纯度和光学、电学性能.通过优化生长时的气体离化功率,在300W射频功率下,得... 报道了一种利用等离子辅助激光分子束外延技术(L-MBE)在石英衬底上制备IGZO透明导电薄膜的新工艺.该工艺在超高真空中进行,可以有效避免杂质和污染,提高薄膜的纯度和光学、电学性能.通过优化生长时的气体离化功率,在300W射频功率下,得到光学电学性能优良的非晶态IGZO透明导电薄膜,其可见光范围内透过率超过80%,其室温电子迁移率高达16.14cm2v-1s-1,明显优于目前薄膜晶体管(TFT)中常用的非晶硅和有机物材料.测试结果表明,采用此工艺制备的非晶态IGZO透明导电薄膜,具有优良的光学、电学特性,能代替非晶硅和有机物,提高TFT-LCD的性能,实现真正的全透明、高亮度及柔性显示. 展开更多
关键词 非晶IGZO 透明导电薄膜 l-mbe
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L-MBE法制备以ZnO为沟道层的薄膜晶体管 被引量:2
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作者 张新安 张景文 +4 位作者 杨晓东 娄辉 刘振玲 张伟风 侯洵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1051-1054,共4页
采用激光分子束外延法(L- MBE)在SiNx/Si(111)衬底上制备了高质量的ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的晶体结构、表面形貌进行了表征,结果表明ZnO薄膜有高度的c轴择优取向,薄膜表面平整致密.并以ZnO薄膜为沟道层制... 采用激光分子束外延法(L- MBE)在SiNx/Si(111)衬底上制备了高质量的ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的晶体结构、表面形貌进行了表征,结果表明ZnO薄膜有高度的c轴择优取向,薄膜表面平整致密.并以ZnO薄膜为沟道层制作了薄膜晶体管(ZnO -TFT),该晶体管工作在n沟道增强模式,阈值电压为17.5V,电子的场迁移率达到1.05cm2/(V·s). 展开更多
关键词 激光分子束外延 ZNO薄膜 薄膜晶体管
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生长温度对L-MBE制备的ZnO薄膜性能的影响 被引量:1
3
作者 徐庆安 张景文 +3 位作者 杨晓东 巨楷如 贺永宁 侯洵 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期289-293,共5页
在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250、300、350、400和450℃下生长了高度C轴取向的ZnO薄膜,并对样品进行了X射线衍射、光致发光谱及反射式高能电子衍射的分析。测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜... 在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250、300、350、400和450℃下生长了高度C轴取向的ZnO薄膜,并对样品进行了X射线衍射、光致发光谱及反射式高能电子衍射的分析。测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜的结晶及发光性能得到提高;但是当温度进一步升高,却有所变差。这说明利用L-MBE系统制备ZnO薄膜存在一合适的温度范围,并对此机理进行了深入分析。 展开更多
关键词 ZnO 激光分子束外延 X射线衍射 光致发光谱 反射式高能电子衍射
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生长温度对L-MBE法制备的ZnO薄膜性能的影响 被引量:1
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作者 徐庆安 张景文 +3 位作者 杨晓东 巨楷如 贺永宁 侯洵 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期248-252,共5页
在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250℃、300℃、350℃、400℃和450℃生长了高度C轴取向的ZnO薄膜。并进行了X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)谱的分析。测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜的结晶及发... 在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250℃、300℃、350℃、400℃和450℃生长了高度C轴取向的ZnO薄膜。并进行了X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)谱的分析。测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜的结晶及发光性能得到提高;但是当温度进一步升高,却有所变差。说明利用L-MBE系统制备ZnO薄膜存在一合适的温度范围,并对此机理进行了深入分析。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 生长温度 激光分子束外延 X射线衍射 光致发光谱
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应用L-MBE方法制备ZnO薄膜的结构和光学特性 被引量:1
5
作者 张世玉 李清山 +3 位作者 张立春 李平 马自侠 张志峰 《新技术新工艺》 2010年第12期79-83,共5页
用激光分子束外延(Laser Molecular Beam Epitaxy,L-MBE)设备在p型Si(111)衬底上制备了不同衬底温度和不同氧压的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形貌进行了分析,用He-Cd激光(325nm)激发的光致发光测... 用激光分子束外延(Laser Molecular Beam Epitaxy,L-MBE)设备在p型Si(111)衬底上制备了不同衬底温度和不同氧压的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形貌进行了分析,用He-Cd激光(325nm)激发的光致发光测试系统对薄膜进行了荧光光谱分析。研究发现,在衬底温度为400℃,氧压1Pa左右所制备的ZnO薄膜表面比较均匀致密,晶粒生长较充分,有较高的结晶质量和发光强度。ZnO薄膜的近带边发射与薄膜的结晶质量和化学配比均有关系。 展开更多
关键词 激光分子束外延 ZNO薄膜 结构特性 光致发光
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Si2O3粒径对传感器用L-MBE沉积Pt/ZnMgO/Si2O3导电性能和组织的影响
6
作者 韩训梅 张奔 陈宾星 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第9期862-866,共5页
为了提高高温下声表面传感器导电稳定性,采用激光分子束外延方(L-MBE)法沉积制备Pt/ZnMgO/Si2O3三层薄膜,通过实验测试的方式研究Si2O3粒径对其导电性能和结构的影响,重点研究了薄膜受到高温作用时发生的导电性变化及其微观组织结构的... 为了提高高温下声表面传感器导电稳定性,采用激光分子束外延方(L-MBE)法沉积制备Pt/ZnMgO/Si2O3三层薄膜,通过实验测试的方式研究Si2O3粒径对其导电性能和结构的影响,重点研究了薄膜受到高温作用时发生的导电性变化及其微观组织结构的转变。研究结果表明:不同Si2O3粒径下Pt/ZnMgO/Si2O3三层薄膜电阻表现为和温度相近的变化规律,当温度上升后都发生了缓慢增大。当薄膜表面Si2O3粒径为60μm时,电阻发生明显变化的温度依次为1100℃与1150℃。粒径达到90μm以上的薄膜经过保温后电阻保持基本恒定。对200μm粒径Si2O3膜薄膜进行热处理形成了平整表面,生成了许多小尺寸晶粒。随着Si2O3粒径降低,表面区域产生了更大外径尺寸的Pt颗粒,形成了部分Pt微孔。提高Si2O3粒径后,形成强度较低的Pt(111)衍射峰,以及更大半峰宽。Pt(111)衍射峰峰半高宽随Si2O3粒径增加表现出降低变化。 展开更多
关键词 Pt/ZnMgO/Si2O3三层薄膜 导电稳定性 Si2O3粒径 激光分子束外延 微观组织
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Study on pulsed laser ablation and deposition of ZnO thin films by L-MBE 被引量:3
7
作者 HE YongNing ZHANG JingWen +3 位作者 YANG XiaoDong XU QingAn ZHU ChangChun HOU Xun 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2007年第3期290-301,共12页
ZnO,as a wide-band gap semiconductor,has recently become a new research fo-cus in the field of ultraviolet optoelectronic semiconductors. Laser molecular beam epitaxy(L-MBE) is quite useful for the unit cell layer-by-... ZnO,as a wide-band gap semiconductor,has recently become a new research fo-cus in the field of ultraviolet optoelectronic semiconductors. Laser molecular beam epitaxy(L-MBE) is quite useful for the unit cell layer-by-layer epitaxial growth of zinc oxide thin films from the sintered ceramic target. The ZnO ceramic target with high purity was ablated by KrF laser pulses in an ultra high vacuum to deposit ZnO thin film during the process of L-MBE. It is found that the deposition rate of ZnO thin film by L-MBE is much lower than that by conventional pulsed laser deposition(PLD) . Based on the experimental phenomena in the ZnO thin film growth process and the thermal-controlling mechanism of the nanosecond(ns) pulsed laser abla-tion of ZnO ceramic target,the suggested effective ablating time during the pulse duration can explain the very low deposition rate of the ZnO film by L-MBE. The unique dynamic mechanism for growing ZnO thin film is analyzed. Both the high energy of the deposition species and the low growth rate of the film are really beneficial for the L-MBE growth of the ZnO thin film with high crystallinity at low temperature. 展开更多
关键词 ZNO THIN FILM l-mbe DYNAMIC mechanism
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The third-order optical nonlinearity of the stainless steel doped SrTiO_3 thin film grown by L-MBE
8
作者 刘丽峰 费义艳 +3 位作者 郭海中 相文峰 吕惠宾 陈正豪 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第3期165-167,共3页
Stainless steel-doped SrTiO3 thin films were fabricated by laser molecular beam epitaxy (L-MBE). Nonlinear optical property of the thin film was measured by the single beam Z-scan technique at the wavelength of 532 nm... Stainless steel-doped SrTiO3 thin films were fabricated by laser molecular beam epitaxy (L-MBE). Nonlinear optical property of the thin film was measured by the single beam Z-scan technique at the wavelength of 532 nm. Two two-phonon absorption coefficient and nonlinear refractive index were determined to be 9.37 x 10-7 m/W and 1.55 x 10-6 esu, respectively. The merit figure T was calculated to be 1.8, satisfying condition T < 1 for an optical switch. The thin film has a very promising prospect for the applications in optical device. 展开更多
关键词 of it on for be The third-order optical nonlinearity of the stainless steel doped SrTiO3 thin film grown by l-mbe by that RHEED
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纳米薄膜脉冲激光沉积技术 被引量:1
9
作者 李美成 赵连城 +2 位作者 杨建平 陈学康 吴敢 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期1-4,48,共5页
简要介绍了脉冲激光薄膜沉积 (PLD)技术的物理原理、独具的特点 ,并且介绍了在PLD基础上结合分子束外延 (MBE)特点发展起来的激光分子束外延 (L -MBE) ,以及采用L
关键词 脉冲激光薄膜沉积 PLD 激光分子束外延 l-mbe 硅基纳米 PtSi薄膜 薄膜科学
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高T_c超导薄膜和氧化物多层膜的激光分子束外延研究 被引量:1
10
作者 王会生 马昆 +6 位作者 彭志强 吕惠宾 崔大复 周岳亮 陈正豪 李林 杨国桢 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期463-466,共4页
本文介绍用激光光子束外延(LMBE)方法,在高真空条件下外延生长YBa2Cu3O7-δ超导薄膜和BaTiO3铁电薄膜以及多层膜的实验结果。激光分子束外延(LMBE)是近年来发展起来的一项新的镀膜技术。它将传统MB... 本文介绍用激光光子束外延(LMBE)方法,在高真空条件下外延生长YBa2Cu3O7-δ超导薄膜和BaTiO3铁电薄膜以及多层膜的实验结果。激光分子束外延(LMBE)是近年来发展起来的一项新的镀膜技术。它将传统MBE的高真空、原位检测等优点和激光蒸发(Laserablation)的易于控制化学成份等优势结合起来,在生长、探索人工控制多层膜和新材料方面具有独到之处[1]。我们在国内首次用激光分子束外延设备,借助高纯臭氧作氧化剂、在背景工作气压为667×10-5-267×10-2Pa范围内,外延生长了YBa2Cu3O7-δ超导薄膜和BaTiO3铁电薄膜以及它们的多层膜。通过原位反射式高能电子衍射(RHEED)、X光衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)的研究结果表明,YBa2Cu3O7-δ薄膜和BaTiO3薄膜均为c取向的单相外延膜,其生长是二维层状外延模式,表面和界面非常平整,在100μm×100μm的范围内未发现激光镀膜中常见的亚微米级颗粒和杂相。另外,我们还利用LMBE进行了无限层(infinitelayer)结构超导薄膜和超晶格的探索。本文简要地报导这些结果,并作简单的讨论。 展开更多
关键词 l-mbe 外延生长 激光 高Tc超导薄膜 氧化物
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ZnO薄膜的制备和结构性能分析 被引量:5
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作者 贺永宁 朱长纯 +4 位作者 侯洵 张景文 杨晓东 徐庆安 曾凡光 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期420-423,共4页
ZnO作为一种宽带隙半导体材料 ,近几年来已经成为国际上紫外半导体光电子材料和器件领域的研究热点。激光分子束外延 (L MBE)系统是获得器件级ZnO外延薄膜的先进技术之一。高质量精密ZnO陶瓷靶材对于该工艺的实施是十分关键的 ,本文中... ZnO作为一种宽带隙半导体材料 ,近几年来已经成为国际上紫外半导体光电子材料和器件领域的研究热点。激光分子束外延 (L MBE)系统是获得器件级ZnO外延薄膜的先进技术之一。高质量精密ZnO陶瓷靶材对于该工艺的实施是十分关键的 ,本文中采用高纯原料 ,在洁净条件下制备了大面积、薄片型、尺寸可控的符合理想化学配比的高纯ZnO陶瓷靶材。采用所制备的靶材 ,利用L MBE技术在 (0 0 0 1)蓝宝石基片上进行了ZnO薄膜的外延生长 ,在 2 80℃~ 30 0℃低温条件下所生长的薄膜样品具有 (0 0 0 1)取向的纤锌矿晶体结构 ,薄膜光学性能良好 ,论文中对ZnO薄膜的低温L MBE生长机理进行了探讨。 展开更多
关键词 MBE ZnO陶瓷 ZNO薄膜 宽带隙半导体材料 光电子材料 器件 蓝宝石基片 可控 薄膜光学 外延薄膜
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LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜界面结构分析 被引量:1
12
作者 郝兰众 李燕 +2 位作者 邓宏 刘云杰 姬洪 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期103-105,共3页
通过研究发现,利用激光分子束外延技术生长的 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜具有良好的电学性能,其剩余极化可达到25μc/cm^2。性能决定于结构,因此本文分析研究了 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜的界面结构。首先通过高能电子衍射技术在薄膜... 通过研究发现,利用激光分子束外延技术生长的 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜具有良好的电学性能,其剩余极化可达到25μc/cm^2。性能决定于结构,因此本文分析研究了 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜的界面结构。首先通过高能电子衍射技术在薄膜生长过程中对各层的生长及界面状况进行观测,再通过小角 X 射线衍射曲线及其计算机拟合曲线进一步确定超晶格薄膜的界面及结构参数,如界面的粗糙度、单层厚度等。通过研究发现,由于晶格之间的差异,LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜中 LaAlO_3和 BaTiO_3层的生长过程及微结构存在着一定的差异。 展开更多
关键词 超晶格 薄膜生长 剩余极化 小角X射线衍射 界面结构 计算机拟合 BATIO3 研究 性能 微结构
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GaAs同质外延生长过程的RHEED分析
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作者 熊政伟 王学敏 +3 位作者 张伟斌 姜帆 吴卫东 孙卫国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期831-835,共5页
采用激光分子束外延方法(L-MBE),在GaAs(001)衬底上同质外延GaAs薄膜。利用反射式高能电子衍射(RHEED)研究了材料沉积过程中的各级条纹及其强度的变化,进而得出GaAs薄膜外延生长的适宜激光能量和沉积温度分别为500 mJ和570℃。RHEED强... 采用激光分子束外延方法(L-MBE),在GaAs(001)衬底上同质外延GaAs薄膜。利用反射式高能电子衍射(RHEED)研究了材料沉积过程中的各级条纹及其强度的变化,进而得出GaAs薄膜外延生长的适宜激光能量和沉积温度分别为500 mJ和570℃。RHEED强度随时间的变化曲线表明,GaAs为良好的层状外延生长模式,并随着沉积时间延长,层状生长模式逐渐向岛状模式转变。实验研究还表明层状生长的GaAs薄膜经表面弛豫后,可以得到更好的平整表面,并出现GaAs(001)-(2×4)的表面重构。原位X射线光电子能谱仪(XPS)研究表明沿(001)面外延的GaAs薄膜表面Ga∶As化学计量比约为52∶48,出现Ga的聚集。 展开更多
关键词 激光分子束外延 反射式高能电子衍射 生长模式 表面驰豫 表面重构
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用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜 被引量:8
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作者 何萌 刘国珍 +2 位作者 仇杰 邢杰 吕惠宾 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期1236-1240,共5页
采用激光分子束外延技术,利用两步法,在Si单晶衬底上成功地外延生长出TiN薄膜材料.原子力显微镜分析结果显示,TiN薄膜材料表面光滑,在10μm×10μm范围内,均方根粗糙度为0·842nm.霍耳效应测量结果显示,TiN薄膜在室温条件下的... 采用激光分子束外延技术,利用两步法,在Si单晶衬底上成功地外延生长出TiN薄膜材料.原子力显微镜分析结果显示,TiN薄膜材料表面光滑,在10μm×10μm范围内,均方根粗糙度为0·842nm.霍耳效应测量结果显示,TiN薄膜在室温条件下的电阻率为3·6×10-5Ω·cm,迁移率达到583·0cm2/V·S,表明TiN薄膜材料是一种优良的电极材料.X射线θ—2θ扫描结果和很高的迁移率均表明,高质量的TiN薄膜材料被外延在Si衬底上.进一步在TiN/Si衬底上外延生长SrTiO3薄膜的结果表明,在Si上外延的TiN薄膜不仅具有很好的热稳定性,而且可以作为缓冲层或底电极外延生长其他的薄膜材料及多层结构. 展开更多
关键词 激光分子束外延 TiN单晶薄膜 外延生长
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The structure and magnetic properties of β-(Ga_(0.96)Mn_(0.04))_2O_3 thin film
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作者 Yuanqi Huang Zhengwei Chen +4 位作者 Xiao Zhang Xiaolong Wang Yusong Zhi Zhenping Wu Weihua Tang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第5期16-20,共5页
High quality epitaxial single phase(Ga_(0.96)Mn_(0.04))_2O_3 and Ga_2O_3 thin films have been prepared on sapphire substrates by using laser molecular b(eam)epitaxy(L-MBE). X-ray diffraction results indicate... High quality epitaxial single phase(Ga_(0.96)Mn_(0.04))_2O_3 and Ga_2O_3 thin films have been prepared on sapphire substrates by using laser molecular b(eam)epitaxy(L-MBE). X-ray diffraction results indicate that the thin films have the monoclinic structure with a 201 preferable orientation. Room temperature(RT) ferromagnetism appears and the magnetic properties of β-(Ga_(0.96)Mn_(0.04))_2O_3 thin film are enhanced compared with our previous works. Experiments as well as the first principle method are used to explain the role of Mn dopant on the structure and magnetic properties of the thin films. The ferromagnetic properties are explained based on the concentration of transition element and the defects in the thin films. 展开更多
关键词 l-mbe epitaxial growth Mn doped Ga2O3 thin film RT ferromagnetism
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