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Laser-induced damage threshold in HfO_2/SiO_2 multilayer films irradiated by β-ray 被引量:1
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作者 Mei-Hua Fang Peng-Yu Tian +4 位作者 Mao-Dong Zhu Hong-Ji Qi Tao Fei Jin-Peng Lv Hui-Ping Liu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第2期294-298,共5页
Post-processing can effectively improve the resistance to laser damage in multilayer films used in a high power laser system. In this work, HfO_2/SiO_2 multilayer films are prepared by e-beam evaporation and then β-r... Post-processing can effectively improve the resistance to laser damage in multilayer films used in a high power laser system. In this work, HfO_2/SiO_2 multilayer films are prepared by e-beam evaporation and then β-ray irradiation is employed as the post-processing method. The particle irradiation affects the laser induced damage threshold(LIDT),which includes defects, surface roughness, packing density and residual stress. The residual stress that is relaxed during irradiation changes from compressive stress into tensile stress. Our results indicate that appropriate tensile stress can improve LIDT remarkably. In view of the fact that LIDT rises from 8 J/cm^2 to 12 J/cm^2, i.e., 50% increase, after the film has been irradiated by 2.2×10^(13)/cm^2 β-ray, the particle irradiation can be used as a controllable and desirable postprocessing method to improve the resistance to laser induced damage. 展开更多
关键词 Β-RAY IRRADIATION HFO2/SIO2 multilayer film residual stress laser-induced damage threshold
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Preparation and laser induced damage properties of rare earth doped BAS glass
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作者 倪亚茹 许仲梓 +2 位作者 陆春华 张焱 张其土 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第2期220-224,共5页
Rare earth doped B2O3-Al2O3-SiO2 glass (RExBAS, x=5, 10, 20; RE=La, Sm) were prepared by solid state reaction method. Optical transmission spectra of such glass were characterized by ultraviolet spectrometers, and 1... Rare earth doped B2O3-Al2O3-SiO2 glass (RExBAS, x=5, 10, 20; RE=La, Sm) were prepared by solid state reaction method. Optical transmission spectra of such glass were characterized by ultraviolet spectrometers, and 1064 nm laser induced damage performance was investigated through the method of "1-on-1". The results indicated that there was a strong absorptive peak near 1064 nm in SmxBAS glass, the peak was enhanced with increasing x. While LaxBAS glass was transparent to 1064 nm laser, at the same time, the results of laser induced damage showed that the anti-laser induced damage performance of such glass was strengthened with the addition of rare earth oxide. Furthermore, the laser induced damage threshold (LIDT) of SmxBAS glass was significantly higher than that of LaxBAS glass. Consequently, Sm^3+ doping was favor in the improvement of anti-laser induced damage performance for BAS glass. 展开更多
关键词 BAS glass Sm^3+ La^3+ laser induced damage threshold (lidt rare earths
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Mechanism of micro-waviness induced KH_2PO_4 crystal laser damage and the corresponding vibration source 被引量:1
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作者 李明全 陈明君 +4 位作者 安晨辉 周炼 程健 肖勇 姜伟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第5期34-42,共9页
The low laser induced damage threshold of the KH2PO4 crystal seriously restricts the output power of inertial confinement fusion.The micro-waviness on the KH2PO4 surface processed by single point diamond turning has a... The low laser induced damage threshold of the KH2PO4 crystal seriously restricts the output power of inertial confinement fusion.The micro-waviness on the KH2PO4 surface processed by single point diamond turning has a significant influence on the damage threshold.In this paper,the influence of micro-waviness on the damage threshold of the KH2PO4 crystal and the chief sources introducing the micro-waviness are analysed based on the combination of the Fourier modal theory and the power spectrum density method.Research results indicate that among the sub-wavinesses with different characteristic spatial frequencies there exists the most dangerous frequency which greatly reduces the damage threshold,although it may not occupy the largest proportion in the original surface.The experimental damage threshold is basically consistent with the theoretical calculation.For the processing parameters used,the leading frequency of micro-waviness which causes the damage threshold to decrease is between 350-1 μm-1 and 30-1 μm-1,especially between 90-1 μm-1 and 200-1 μm-1.Based on the classification study of the time frequencies of microwaviness,we find that the axial vibration of the spindle is the chief source introducing the micro-waviness,nearly all the leading frequencies are related to the practical spindle frequency(about 6.68 Hz,400 r/min) and a special middle frequency(between 1.029 Hz and 1.143 Hz). 展开更多
关键词 laser induced damage threshold micro-waviness Fourier modal theory power spectrum density
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Improvement of laser damage thresholds of fused silica by ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching 被引量:3
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作者 李源 严鸿维 +7 位作者 杨科 姚彩珍 王志强 闫春燕 邹鑫书 袁晓东 杨李茗 巨新 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第11期510-514,共5页
Polished fused silica samples were etched for different durations by using hydrofluoric(HF) acid solution with HF concentrations in an ultrasonic field. Surface and subsurface polishing residues and molecular struct... Polished fused silica samples were etched for different durations by using hydrofluoric(HF) acid solution with HF concentrations in an ultrasonic field. Surface and subsurface polishing residues and molecular structure parameters before and after the etching process were characterized by using a fluorescence microscope and infrared(IR) spectrometer, respectively. The laser induced damage thresholds(LIDTs) of the samples were measured by using pulsed nanosecond laser with wavelength of 355 nm. The results showed that surface and subsurface polishing residues can be effectively reduced by the acid etching process, and the LIDTs of fused silica are significantly improved. The etching effects increased with the increase of the HF concentration from 5 wt.% to 40 wt.%. The amount of polishing residues decreased with the increase of the etching duration and then kept stable. Simultaneously, with the increase of the etching time, the mechanical strength and molecular structure were improved. 展开更多
关键词 HF etching fused silica laser induced damage threshold infrared spectra
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Annealing Effects on Structural,Optical Properties and Laser-Induced Damage Threshold of MgF2 Thin Films 被引量:3
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作者 Ting-Ting Tan Bang-Jie Liu +1 位作者 Zhi-Hui Wu Zheng-Tang Liu 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第1期73-78,共6页
The chemical structures, optical properties and laser-induced damage thresholds of magnesium fluoride films annealed at different temperatures were investigated. The results showed that the stoichiometry of MgF2 film ... The chemical structures, optical properties and laser-induced damage thresholds of magnesium fluoride films annealed at different temperatures were investigated. The results showed that the stoichiometry of MgF2 film changed a little with the increase in annealing temperature. Analysis of the optical properties indicated that excellent antireflection behavior of the film in the range of 200-400 nm can be obtained by the samples coated with MgF2 film. The refractive index increased and the extinction coefficient decreased with increasing annealing temperature. Compared with the asdeposited films, the laser-induced damage threshold was improved after annealing process and decreased with the increase in annealing temperature, which was probably due to the denser film and more absorption centers under higher annealing temperature. 展开更多
关键词 Annealing temperature Chemical structure Optical properties laser-induced damage threshold (lidt MgF2 films
原文传递
基于损伤程度量化评估的光学薄膜元件激光损伤阈值测量方法
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作者 辛磊 杨忠明 +1 位作者 孟君 刘兆军 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第3期193-202,共10页
光学薄膜元件是高功率激光器中的关键器件,其抗激光损伤的能力对整个激光系统的运行至关重要。精确测量薄膜元件激光诱导损伤阈值对提升激光器使用寿命与出光效率有着重要意义。提出一种新型激光损伤程度量化评估法,该方法对薄膜元件在... 光学薄膜元件是高功率激光器中的关键器件,其抗激光损伤的能力对整个激光系统的运行至关重要。精确测量薄膜元件激光诱导损伤阈值对提升激光器使用寿命与出光效率有着重要意义。提出一种新型激光损伤程度量化评估法,该方法对薄膜元件在不同能量密度下的激光损伤程度量化分析,通过损伤趋势拟合,评估激光损伤阈值。对激光损伤区域的量化采用图像超分辨白光显微干涉测量法,可实现纳米量级测量精度。通过仿真验证该测量方法可实现纳米量级损伤结构的三维重构,重构损伤区域误差小于0.01%。在实验部分,以激光谐振腔镜及窗口片为测试样品,无需大量重复性激光损伤实验,基于单片样品在一组不同能量密度激光束照射下产生的单次损伤结果实现测量,结果数据与S-on-1方法吻合,偏差小于0.5 J/cm^(2),两个样品多次测量结果的标准差分别为0.361 J/cm^(2)和0.064 J/cm^(2)。 展开更多
关键词 光学薄膜元件 激光诱导损伤 损伤阈值测量 白光干涉技术 三维形貌测量
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Investigation of high power laser coatings 被引量:1
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作者 SHAO Jian-da FAN Zheng-xiu 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期471-479,共9页
High laser-induced damage threshold and large aperture were focuses on the studies of high power laser coatings. This paper reports the research activities at our center. Several measures were developed for evaluating... High laser-induced damage threshold and large aperture were focuses on the studies of high power laser coatings. This paper reports the research activities at our center. Several measures were developed for evaluating characters of laser damage, including determination of laser induced damage threshold and detection of absorption based on surface thermal lensing technique. Defect was deemed to be the initial source of laser damage, and was the main factor restricting the laser damage resistance of optical coatings. The contribution of several kinds of typical defects to laser damage was analyzed, and some deposition measures were adopted to control and eliminate the origin of defect. Furthermore, some post-treatment methods were also employed to alleviate the influence of the defect and to improve the laser damage resistance. Correction mask was introduced to improve the thickness uniformity, and the thickness uniformity can be amended to less than 1% in the range of Φ650 mm. Preliminary investigation related to surface deformation was also conducted. 展开更多
关键词 激光涂覆技术 lidt 吸收能力 激光器
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激光入射角度对CCD探测器损伤特性的影响 被引量:1
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作者 冯光 康华超 +2 位作者 代金芪 张银福 高勋 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2023年第4期31-36,共6页
开展了激光入射角度对高重频纳秒激光诱导CCD探测器损伤特性研究。通过傅里叶热传导方程理论计算了CCD探测器表面的温升曲线,发现随着激光入射角度变大,激光辐照区域中心点位置的最高温度逐渐降低,且液-固相变凝固时间缩短,降低了CCD探... 开展了激光入射角度对高重频纳秒激光诱导CCD探测器损伤特性研究。通过傅里叶热传导方程理论计算了CCD探测器表面的温升曲线,发现随着激光入射角度变大,激光辐照区域中心点位置的最高温度逐渐降低,且液-固相变凝固时间缩短,降低了CCD探测器的损伤可能。实验结果表明,随着入射激光功率的增加,激光诱导CCD探测器表面损伤形貌的横向尺寸和纵向尺寸都逐渐变大。随着激光入射角度变大,激光诱导CCD探测器形貌损伤面积增大,并且形貌损伤阈值增加。这是由于激光入射角度增大导致了CCD探测器表面辐照的激光光斑面积变大,使探测器表面的激光功率密度降低,从而造成CCD探测器的激光损伤阈值增大。 展开更多
关键词 激光损伤 损伤阈值 入射角度 CCD探测器
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光学元件激光预处理技术研究进展及其应用
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作者 张晶晶 杨峰 +5 位作者 寇洋 王灼寒 袁磊 高宏伟 薄勇 彭钦军 《强激光与粒子束》 CAS CSCD 北大核心 2023年第8期1-14,共14页
光学元件中的杂质和缺陷会引起其激光损伤阈值的大幅降低,现阶段这一问题已成为激光装置向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”,亟待解决。在对光学元件激光损伤的研究中发现,用低于光学元件损伤阈值的激光对元件表面进行预处理,可以有效... 光学元件中的杂质和缺陷会引起其激光损伤阈值的大幅降低,现阶段这一问题已成为激光装置向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”,亟待解决。在对光学元件激光损伤的研究中发现,用低于光学元件损伤阈值的激光对元件表面进行预处理,可以有效提高光学元件的抗激光损伤能力。对激光预处理技术的提出背景、定性作用机理、定量理论模型及国内外技术应用现状进行了概述。并且介绍了一种可在薄膜制备过程中进行原位实时激光预处理的新型薄膜制备技术。最后指出,激光预处理技术作为一种无污染,可有效改善光学薄膜、光学玻璃、光学晶体元件损伤阈值的最有效方法之一,其作用机理、实用化、仪器化还有待进一步发展。 展开更多
关键词 激光预处理 光学薄膜 杂质和缺陷 激光损伤阈值
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1064 nm负滤光片的设计与制备
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作者 刘祺 徐均琪 +1 位作者 苏俊宏 刘政 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第7期625-631,共7页
针对当前可见-近红外光电探测器的激光防护要求,研究了1064 nm负滤光片的设计和制备。基于等效折射率理论,综合考虑光谱和场强分布优化,设计了由SiO2/Y_(2)O_(3)/H4组合的规整膜系和SiO2/H4组合的非规整膜系负滤光片;采用离子束辅助热... 针对当前可见-近红外光电探测器的激光防护要求,研究了1064 nm负滤光片的设计和制备。基于等效折射率理论,综合考虑光谱和场强分布优化,设计了由SiO2/Y_(2)O_(3)/H4组合的规整膜系和SiO2/H4组合的非规整膜系负滤光片;采用离子束辅助热蒸发沉积方式对负滤光片进行了制备,并测试了其光学和抗激光损伤性能。结果表明:在膜系结构G|(0.5LH0.5L)s|A两侧匹配减反膜可以有效减小通带波纹,调整膜系最外层厚度可以同时改善膜系的光谱特性和电场强度分布。镀制的规整膜系负滤光片在400~900 nm和1200~2000 nm波段平均透过率分别为89.98%和93.21%,1064 nm透过率为1.29%,激光损伤阈值为6.0 J/cm^(2);非规整膜系负滤光片在650~900 nm和1200~2000 nm波段平均透过率分别为93.70%和94.99%,1064 nm透过率为1.60%,激光损伤阈值为6.8 J/cm^(2)。 展开更多
关键词 负滤光片 设计 优化 离子束辅助 激光损伤阈值
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高抗激光损伤阈值光栅后处理抛光技术研究
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作者 洪小兰 姜晨 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第14期2071-2079,共9页
脉冲压缩光栅是实现高能量激光的核心光学元器件,其制造过程中产生的表面污染物和微结构缺陷成为限制高功率激光系统发展的技术瓶颈,为了提升光栅的激光诱导损伤阈值,提出利用磁性复合流体进行脉冲压缩光栅(PCG)后处理抛光研究。对抛光... 脉冲压缩光栅是实现高能量激光的核心光学元器件,其制造过程中产生的表面污染物和微结构缺陷成为限制高功率激光系统发展的技术瓶颈,为了提升光栅的激光诱导损伤阈值,提出利用磁性复合流体进行脉冲压缩光栅(PCG)后处理抛光研究。对抛光前后光栅样品的微观结构,表面形貌、表面粗糙度、衍射效率和激光诱导损伤阈值等参数进行测量,进行抛光前后光栅表面质量和光栅性能的评估。研究发现,磁性复合流体抛光能够在不破坏实际光栅结构的前提下抑制加工过程产生的毛刺,微结构缺陷等;经3 min抛光后,光栅顶部表面粗糙度从21.36 nm下降到3.73 nm;激光诱导损伤阈值从2.8 J/cm^(2)提高到3.8 J/cm^(2),抗激光损伤性能提升35.7%,且不影响衍射效率。实验结果表明:磁性复合流体抛光是一种可以提高光栅元件表面质量,提升光栅元件光学性能的有效方法。 展开更多
关键词 脉冲压缩光栅 多层介质膜光栅 磁性复合流体 激光诱导损伤阈值 表面形貌
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激光浮区法生长TbYO_(3)晶体 被引量:1
12
作者 赵鹏 仵嘉玲 +2 位作者 夏聪 马世会 胡章贵 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第10期1758-1765,共8页
随着高功率固态激光器和光纤激光器的发展,对可见光-近红外区域的光学隔离器要求逐渐增加。目前设备原件正趋于小型化发展,工业应用最广泛的铽镓石榴石(TGG)晶体因其较小的Verdet常数,无法满足未来高功率激光器的需要。Tb 2 O_(3)具有... 随着高功率固态激光器和光纤激光器的发展,对可见光-近红外区域的光学隔离器要求逐渐增加。目前设备原件正趋于小型化发展,工业应用最广泛的铽镓石榴石(TGG)晶体因其较小的Verdet常数,无法满足未来高功率激光器的需要。Tb 2 O_(3)具有较高的Verdet常数,但是高熔点和相变机制使其难以通过常规提拉法进行单晶生长。本研究通过向Tb_(2)O_(3)中掺杂Y_(2)O_(3),研究了不同掺杂浓度下(Tb x Y 1-x)2 O_(3)的晶体生长。在n(Tb)∶n(Y)=1∶1时,通过激光浮区(LFZ)法生长了TbYO_(3)单晶,而纯净的Tb_(2)O_(3)和(Tb 0.3 Y 0.7)_(2)O_(3)单晶无法通过该方法合成。TbYO_(3)晶体具有较高的Verdet常数(445 nm处为529 rad·T^(-1)·m^(-1),880 nm处为116 rad·T^(-1)·m^(-1)),为TGG晶体(445 nm处为350 rad·T^(-1)·m^(-1),880 nm处为49 rad·T^(-1)·m^(-1))的1.51~2.37倍。因此,TbYO_(3)晶体可以有效减少构建光学隔离器的介质长度或降低嵌入光学隔离器所需的磁场强度。此外,TbYO_(3)晶体还具有11 W·m^(-1)·K^(-1)的中等热导率,1.67 GW·cm-2的高激光损伤阈值。这些优点可以使TbYO_(3)晶体成为一种有吸引力的磁光材料。 展开更多
关键词 TbYO_(3) 激光浮区法 Verdet常数 热导率 磁光晶体 激光损伤阈值
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HfO_2薄膜的结构对抗激光损伤阈值的影响 被引量:29
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作者 高卫东 张伟丽 +3 位作者 范树海 张大伟 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期176-179,共4页
利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值... 利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值和薄膜的结构及光学特性之间的关系进行了讨论. 展开更多
关键词 氧化铪 薄膜 激光损伤阈值
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用透射反射扫描法检测光学薄膜的激光损伤 被引量:13
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作者 甘荣兵 林理彬 +4 位作者 蒋晓东 黄祖鑫 钟伟 郑万国 叶琳 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期45-48,共4页
用波长 1 .0 6 μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为 1 .0 6 μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明 ,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观... 用波长 1 .0 6 μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为 1 .0 6 μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明 ,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观察到的损伤 ,而且也能发现某些显微镜所不能发现的损伤。由于透射比和反射比可以反映出薄膜对激光的传输性能 ,因此也能反映出薄膜能否继续工作 ,以此来判定损伤与否。因此用透射反射扫描法可以作为检测损伤的手段 ,由于简单易行 ,可以在线检测。 展开更多
关键词 激光损伤 光学薄膜 损伤阈值 透射扫描法 检测 惯性约束核聚变
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UBK7玻璃后表面缺陷诱导体内激光损伤 被引量:10
15
作者 甘荣兵 林理彬 +5 位作者 卢勇 刘强 卓志云 蒋晓东 黄祖鑫 叶琳 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期603-606,共4页
对 UBK7玻璃在波长为 1 .0 64 μm的短脉冲激光作用下产生的损伤进行了研究。通过对体损伤的形貌的相衬显微镜观测 ,发现体内和后表面炸裂点间的丝状损伤 ,从而提出后表面缺陷导致体损伤的理论解释。同时分析了表面损伤和体损伤的机理 。
关键词 激光损伤 缺陷 光材料 损伤阈值 UBK7玻璃 相衬显微分析
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KDP晶体激光损伤机理研究 被引量:9
16
作者 王坤鹏 房昌水 +4 位作者 张建秀 王圣来 孙洵 顾庆天 李义平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期48-51,共4页
大口径KDP晶体是唯一可用作激光约束核聚变(ICF)中Pockels盒和倍频器件的晶体材料,但是低的抗激光损伤阈值使其应用受到了限制。本文从电子 空穴对的产生及稳定机制、光伤实体的本质等方面总结了多年来人们对KDP晶体激光损伤机理的研究... 大口径KDP晶体是唯一可用作激光约束核聚变(ICF)中Pockels盒和倍频器件的晶体材料,但是低的抗激光损伤阈值使其应用受到了限制。本文从电子 空穴对的产生及稳定机制、光伤实体的本质等方面总结了多年来人们对KDP晶体激光损伤机理的研究进展,尤其从多光子电离、碰撞电离、激光加热三个方面定性阐述了电子 空穴对的产生机制,而电子 空位对的稳定机制是探讨光损伤的关键步骤。另外从晶体生长过程及后处理两个方面初步讨论了提高光伤阈值和光学均匀性的途径。 展开更多
关键词 KDP晶体 激光损伤机理 光伤阈值 激光约束核聚变 ICF 晶体材料
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酸蚀深度对熔石英三倍频激光损伤阈值的影响 被引量:16
17
作者 徐世珍 吕海兵 +4 位作者 田东斌 蒋晓东 袁晓东 祖小涛 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期760-764,共5页
采用干涉仪和台阶仪测试蚀刻深度随时间的变化,结合材料去除速率测量,研究了HF酸蚀液对熔石英表面蚀刻的影响。测试了蚀刻后损伤阈值和表面粗糙度的变化。研究表明,熔石英表面重沉积层厚度约16 nm,亚表面缺陷层大于106 nm;重沉积层去除... 采用干涉仪和台阶仪测试蚀刻深度随时间的变化,结合材料去除速率测量,研究了HF酸蚀液对熔石英表面蚀刻的影响。测试了蚀刻后损伤阈值和表面粗糙度的变化。研究表明,熔石英表面重沉积层厚度约16 nm,亚表面缺陷层大于106 nm;重沉积层去除后损伤阈值增大,随亚表面缺陷层暴露其阈值先降低后又增加,最后趋于稳定;然而,随蚀刻时间的增加,其表面粗糙度增大。分析表明,蚀刻到200 nm能有效地提高熔石英的低损伤阈值,有利于降低初始损伤点数量和提高熔石英表面的机械强度。 展开更多
关键词 ND:YAG激光 熔石英 化学腐蚀 亚表面缺陷 激光诱导损伤阈值
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光电探测器的激光破坏(损伤)阈值分析 被引量:17
18
作者 钟海荣 刘天华 +2 位作者 陆启生 姜宗福 王云萍 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期1-5,共5页
本文系统收集各种光电探测器及其相似材料在受到激光辐照时所导致的软、硬破坏效应 (有时称为激光损伤 ) ,综合对比分析各种破坏阈值的大小。为激光与光电探测器相互作用的研究提供一个较为全面系统的参考。
关键词 光电探测器 激光 破坏阈值
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双谐激光场作用下SBS过程诱导的光学材料破坏 被引量:9
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作者 郭少锋 陆启生 +2 位作者 程湘爱 江厚满 银燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期229-233,共5页
 提出了光学 力学相干耦合的概念,采用非线性光学的耦合波理论,建立了高功率激光辐照下透明光学材料中相干声波的产生、演化的动力学模型。探讨了在泵浦激光场和Stokes激光场共同作用下受激布里渊过程对光学材料破坏的可能性,计算了稳...  提出了光学 力学相干耦合的概念,采用非线性光学的耦合波理论,建立了高功率激光辐照下透明光学材料中相干声波的产生、演化的动力学模型。探讨了在泵浦激光场和Stokes激光场共同作用下受激布里渊过程对光学材料破坏的可能性,计算了稳态情况下激光场在材料内部激发出的应力幅度,结合弹性力学,建立了透明光学材料的相干破坏阈值理论,研究了破坏阈值与Stokes光强的关系,发现在稳态下破坏阈值对Stokes光强并不敏感。分析了在实际情况下一些因素对材料破坏的影响。 展开更多
关键词 SBS 光学材料 受激布里渊散射 破坏阈值 相干耦合 双谐激光场 非线性光学
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酸蚀与紫外激光预处理结合提高熔石英损伤阈值 被引量:12
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作者 陈猛 向霞 +8 位作者 蒋勇 祖小涛 袁晓东 郑万国 王海军 李熙斌 吕海兵 蒋晓东 王成程 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1383-1387,共5页
采用HF酸刻蚀和紫外激光预处理相结合的方式提升熔石英元件的负载能力,用质量分数为1%的HF缓冲溶液对熔石英刻蚀1-100 min,综合透过率、粗糙度和损伤阈值测试结果,发现刻蚀时间为10min的熔石英抗损伤能力最佳。采用355 nm紫外激光对HF... 采用HF酸刻蚀和紫外激光预处理相结合的方式提升熔石英元件的负载能力,用质量分数为1%的HF缓冲溶液对熔石英刻蚀1-100 min,综合透过率、粗糙度和损伤阈值测试结果,发现刻蚀时间为10min的熔石英抗损伤能力最佳。采用355 nm紫外激光对HF酸刻蚀10 min的熔石英进行预处理,结果表明:紫外预处理能量密度在熔石英零损伤阈值的60%以下时,激光损伤阈值单调递增;能量到达80%时,阈值反而低于原始样片的损伤阈值。适当地控制酸蚀时间和紫外激光预处理参数能有效提高熔石英的抗损伤能力。 展开更多
关键词 熔石英 化学刻蚀 激光预处理 光透过率 损伤阈值
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