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Structure and tribological properties of Si/a-C:H(Ag)multilayer film in stimulated body fluid 被引量:1
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作者 Yan-Xia Wu Yun-Lin Liu +5 位作者 Ying Liu Bing Zhou Hong-Jun Hei Yong Ma Sheng-Wang Yu Yu-Cheng Wu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第11期412-419,共8页
Si/a-C:H(Ag)multilayer films with different modulation periods are prepared to test their potential applications in human body.The composition,microstructure,mechanical and tribological properties in the simulated bod... Si/a-C:H(Ag)multilayer films with different modulation periods are prepared to test their potential applications in human body.The composition,microstructure,mechanical and tribological properties in the simulated body fluid are investigated.The results show the concentration of Ag first decreases and then increases with the modulation period decreasing from 984 nm to 250 nm.Whereas the C content has an opposite variation trend.Notably,the concentration of Ag plays a more important role than the modulation period in the properties of the multilayer film.The a-C:H sublayer of the film with an appropriate Ag concentration(8.97 at.%)(modulation period of 512 nm)maintains the highest sp3/sp2 ratio,surface roughness and hardness,and excellent tribological property in the stimulated body fluid.An appropriate number of Ag atoms and size of Ag atom allow the Ag atoms to easily enter into the contact interface for load bearing and lubricating.This work proves that the Ag nanoparticles in the a-C:H sublayer plays a more important role in the tribological properties of the composite-multilayer film in stimulated body fluid condition. 展开更多
关键词 si/a-C:H(Ag)multilayer film modulation periods Ag concentration tribological properties
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调制周期数对Mo/AZO成分调制多层膜透光、反光特性以及电性能的影响
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作者 张邵奇 吴隽 +3 位作者 王凯丰 宋坤峰 卢志红 祝柏林 《武汉科技大学学报》 CAS 北大核心 2024年第2期107-113,共7页
采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,M... 采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,Mo除单质态外,还存在部分+4和+5的离子价态,当薄膜厚度降至0.83 nm时,已无单质态Mo;调制周期数对成分调制多层膜的透光、反光特性以及电性能影响显著,当调制周期数为3时,Mo/AZO成分调制多层膜的综合性能达到最佳,电阻率、霍尔迁移率和载流子浓度分别为8.64×10^(-4)Ω·cm、8.78 cm^2)/(V·s)和8.23×10^(20)cm^(-3)。在保持金属层、半导体层总厚度不变的情况下,通过改变调制周期数可以增加薄膜的光学透过率并可在较宽范围内调节多层膜的综合性能,这为制备综合性能优异的金属/半导体型透光导电薄膜提供了一条切实可行的途径。 展开更多
关键词 磁控溅射 mo/AZO多层膜 调制周期 光性能 电性能
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磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜 被引量:7
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作者 涂昱淳 宋竹青 +6 位作者 黄秋实 朱京涛 徐敬 王占山 李乙洲 刘佳琪 张力 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2419-2422,共4页
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的... 采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3~15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%~65%。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 磁控溅射 梯度多层膜 反射率 同步辐射
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用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜 被引量:10
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作者 秦俊岭 邵建达 易葵 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期67-70,共4页
用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随... 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。 展开更多
关键词 mo mo/si多层膜 溅射功率 软X射线 反射率
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Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究 被引量:6
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作者 秦俊岭 邵建达 +3 位作者 易葵 周洪军 霍同林 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期763-766,共4页
用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数... 用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律。并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率。研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 软X射线 界面粗糙度 反射率
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磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜 被引量:4
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作者 潘磊 王晓强 +7 位作者 张众 朱京涛 王占山 李乙洲 李宏杰 王道荣 赵巨岩 陆伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1535-1538,共4页
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的... 为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 磁控溅射 均匀性 反射率 同步辐射
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13.9和19.6nm正入射Mo/Si多层膜反射镜的反射率测量 被引量:3
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作者 李敏 董宁宁 +6 位作者 刘震 刘世界 李旭 范鲜红 王丽辉 马月英 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1666-1672,共7页
为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组... 为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率。测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08 nm,光源信号抖动范围<5%,光源稳定性好。反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60 nm的Mo/Si多层膜反射镜,相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70 nm。同时还用WYKO测量得到13.9和19.6 nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55 nm。 展开更多
关键词 mo/si多层膜反射镜 反射率测量 表面粗糙度 极紫外光源 激光等离子体光源
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中心波长为13.9nm的正入射Mo/Si多层膜 被引量:2
8
作者 范鲜红 陈波 +1 位作者 尼启良 王晓光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期405-408,共4页
用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14nm的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量。由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原... 用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14nm的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量。由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原因,正入射Mo/Si多层膜在13.9nm处的反射率低于理论计算值73.2%,最后用原子力显微镜(AFM)测量其表面粗糙度为σ=0.401nm。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 反射率 极紫外波段
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月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜的空间质子辐照稳定性 被引量:1
9
作者 李云鹏 陈波 +2 位作者 吕鹏 杨洪臣 王华朋 《激光杂志》 CAS 北大核心 2021年第11期24-29,共6页
为研究月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜能否在月面辐照环境下长期稳定工作,从理论仿真、光学性能、微观形貌三方面对其辐照稳定性进行了研究。采用Monte-Carlo方法模拟了不同能量质子束辐照Mo/Si多层膜后薄膜内部的损伤情况,结果表明:... 为研究月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜能否在月面辐照环境下长期稳定工作,从理论仿真、光学性能、微观形貌三方面对其辐照稳定性进行了研究。采用Monte-Carlo方法模拟了不同能量质子束辐照Mo/Si多层膜后薄膜内部的损伤情况,结果表明:质子能量越高,对薄膜深层损伤越大。进行了50KeV高能质子辐照实验,Mo/Si多层膜辐照后周期厚度降低、界面粗糙度增加,30.4 nm反射率下降2.8%,中心波长向短波方向偏移0.2nm。TEM显示Mo/Si多层膜辐照后出现了局部烧蚀和膜层间渗透,周期结构被破坏。制备的Mo/Si多层膜反射镜在辐照后虽然性能发生一定退化,但仍可正常工作,说明其具有良好的辐照稳定性。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 质子辐照 反射率 等离子体层
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Mo/Si多层膜反射镜在带电粒子照射下反射率变化
10
作者 陈波 李忠芳 +2 位作者 尼启良 齐立红 王丽辉 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期38-41,共4页
为模拟低地球轨道空间辐射环境,利用高能电子和质子对应用于空间极紫外望远镜上的Mo/Si多层膜反射镜分别进行照射,研究在电子和质子照射下多层膜反射镜反射率的变化,电子的能量和辐照剂量分别为4.5 MeV和3.3×1010mm-2,质子的能量... 为模拟低地球轨道空间辐射环境,利用高能电子和质子对应用于空间极紫外望远镜上的Mo/Si多层膜反射镜分别进行照射,研究在电子和质子照射下多层膜反射镜反射率的变化,电子的能量和辐照剂量分别为4.5 MeV和3.3×1010mm-2,质子的能量和辐照剂量分别为160 keV和1×1013cm-2。实验结果显示,经高能电子照射后的多层膜反射镜反射率有所降低,降低幅度在1%~3%之间,经质子照射后反射率没有变化。并对带电粒子对多层膜反射镜的辐射损伤作了初步分析。 展开更多
关键词 空间辐射环境 mo/si多层膜反射镜 带电粒子 辐射损伤
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Mo/Si多层膜小角X射线衍射结构表征 被引量:6
11
作者 喻波 《中国光学与应用光学》 2010年第6期623-629,共7页
为了实现对Mo/Si多层膜的结构表征,测量了多层膜样品的小角X射线衍射谱。介绍了小角X射线衍射谱的分析方法,包括Bragg峰值拟合法,傅里叶变换法,反射谱拟合法。Bragg峰值拟合法和反射谱拟合法得到多层膜的周期厚度为7.09nm,两种模型的反... 为了实现对Mo/Si多层膜的结构表征,测量了多层膜样品的小角X射线衍射谱。介绍了小角X射线衍射谱的分析方法,包括Bragg峰值拟合法,傅里叶变换法,反射谱拟合法。Bragg峰值拟合法和反射谱拟合法得到多层膜的周期厚度为7.09nm,两种模型的反射谱拟合法得到界面的粗糙度(扩散长度)为0.40~0.41nm(Si在Mo上),0.52~0.70nm(Mo在Si上),前者要比后者小,这与透射电镜法(TEM)得到的结果0.40nm(Si在Mo上),0.6~0.65nm(Mo在Si上)是一致的。通过基于扩散模型的反射谱拟合法得到的折射率剖面也与由高倍率透射电镜(HRTEM)积分得到的灰度值剖面在趋势上是一致的。通过X射线衍射谱和TEM图像对Mo/Si多层膜进行综合表征,得到了多层膜的精细结构信息,这对多层膜制备工艺的优化具有十分重要的意义。 展开更多
关键词 mo/si多层膜 小角X射线衍射 傅里叶变换 遗传算法 内扩散模型
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氢离子束对Mo-Si多层膜界面改性的研究
12
作者 薛钰芝 A.Keppel +2 位作者 R.Schatmann H.Zeijlemaker J.Verhoeven 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第1期31-35,共5页
为了研究氢离子束轰击Mo-Si多层膜界面的情况,采用氢离子束(能量150eV)轰击Si表面,即Si与Mo之界面。再用Kr离子束溅射刻蚀,并用俄歇电子能谱(AES)分析。实验结果说明氢离子束对Si表面轰击能有效防止界面混杂效应(intermixingeff... 为了研究氢离子束轰击Mo-Si多层膜界面的情况,采用氢离子束(能量150eV)轰击Si表面,即Si与Mo之界面。再用Kr离子束溅射刻蚀,并用俄歇电子能谱(AES)分析。实验结果说明氢离子束对Si表面轰击能有效防止界面混杂效应(intermixingeffect)。进而说明这是制备软X射线多层膜反射镜过程中解决界面混杂问题的有效途径。 展开更多
关键词 钼-硅多层膜 氢离子束 混杂
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钼表面不同Al含量Mo(Si,Al)_2涂层的制备及氧化膜结构 被引量:2
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作者 王甜甜 田晓东 +1 位作者 李梅 朱施荣 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期154-159,共6页
采用16Si-x Al-4NH4F-Bal.Al_2O_3(x=1,2,3,4,%,质量分数)渗剂经1200℃扩散共渗5 h在Mo表面制备了不同Al含量的Mo(Si,Al)_2涂层,分析了渗剂中Al含量对涂层组织及其氧化膜结构的影响。结果表明,不同渗剂所形成涂层均具有多层结构,涂层的... 采用16Si-x Al-4NH4F-Bal.Al_2O_3(x=1,2,3,4,%,质量分数)渗剂经1200℃扩散共渗5 h在Mo表面制备了不同Al含量的Mo(Si,Al)_2涂层,分析了渗剂中Al含量对涂层组织及其氧化膜结构的影响。结果表明,不同渗剂所形成涂层均具有多层结构,涂层的外层均由Mo(Si,Al)_2相组成;渗剂Al含量为1和2%时,涂层中间层均为Mo_5(Si,Al)_3相,内层则分别为固溶有少量Al的Mo或Mo_3(Al,Si)相;渗剂Al含量为3和4%时,涂层中间层均由Mo5(Si,Al)_3和Mo_3Al_8相组成,内层则均为Mo_3(Al,Si)相。对含Al为1和4%的渗剂所制备的涂层在1250℃下氧化50 h,前者氧化膜厚度约为3μm,主要由SiO_2组成;后者氧化膜厚度约为10μm,上部由Al_2O_3和SiO_2的混合物组成,下部为Al_2O_3。 展开更多
关键词 mo(si Al)2涂层 组织 氧化 氧化膜结构
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13nm窄带Si/Mo/C多层膜反射镜
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作者 易强 黄秋实 +7 位作者 王香梅 杨洋 张众 王占山 徐荣昆 彭太平 周洪军 霍同林 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期14-19,共6页
基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的Mo/Si多层膜尽管反射率最高... 基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的Mo/Si多层膜尽管反射率最高,但其带宽较大,不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将Mo和C共同作为多层膜的吸收层材料与Si组成Si/Mo/C多层膜,可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了Si/Mo/C多层膜,其掠入射X射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整,同步辐射工作条件下反射率测量,得到Si/Mo/C多层膜在13nm处和掠入射角60°时的反射率为56.5%,带宽为0.49nm(3.7eV)。 展开更多
关键词 多层膜 mo/si si/mo/C Z-PINCH 光谱诊断 反射率 带宽
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Mo-Si-B合金表面包埋渗Si-Al涂层的组织及氧化膜结构研究 被引量:1
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作者 李文涛 田晓东 《热加工工艺》 北大核心 2019年第2期135-139,共5页
采用包埋渗Si-Al的方法在Mo-9Si-8B(at%)合金表面制备抗氧化涂层,然后在1250℃下进行5 h氧化;同时制备包埋渗Si和Si-B涂层以进行对比。运用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)分析该涂层的组织和结构,利用X射线衍射仪(XRD)确定涂层的相组成,采... 采用包埋渗Si-Al的方法在Mo-9Si-8B(at%)合金表面制备抗氧化涂层,然后在1250℃下进行5 h氧化;同时制备包埋渗Si和Si-B涂层以进行对比。运用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)分析该涂层的组织和结构,利用X射线衍射仪(XRD)确定涂层的相组成,采用波谱仪(WDS)分析涂层中的B元素。结果表明:包埋渗Si和Si-B涂层都主要由MoSi_2外层和MoB内层组成,但Si-B共渗涂层内层更厚;Si-Al共渗在基体表面形成Al改性MoSi_2涂层,由Mo(Si,Al)_2外层和MoB内层组成。对三种涂层在1250℃下氧化5 h,前两种涂层表面氧化膜主要由SiO_2和Mo_8O_(23)组成,而Si-Al共渗涂层表面氧化膜主要由SiO_2、Al_2SiO_5和Mo_8O_(23)组成。 展开更多
关键词 mo-si-B合金 包埋渗 涂层 氧化膜
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Multilayer optics for the EUV and soft X-rays 被引量:4
16
作者 Torsten Feigl Sergiy Yulin +1 位作者 Nicolas Benoit Norbert Kaiser 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期421-429,共9页
The demand to enhance the optical resolution, to structure and observe ever smaller details, has pushed the way towards the EUV and soft X-rays. Induced mainly by the production of more powerful electronic circuits wi... The demand to enhance the optical resolution, to structure and observe ever smaller details, has pushed the way towards the EUV and soft X-rays. Induced mainly by the production of more powerful electronic circuits with the aid of projection lithography, optics developments in recent years can be characterized by the use of electromagnetic radiation with smaller wavelength. The good prospects of the EUV and soft X-rays for next generation lithography systems (λ=13.5 nm), microscopy in the “water window” (λ=2.3~4.4 nm), astronomy (λ=5~31 nm), spectroscopy, plasma diagnostics and EUV/soft X-ray laser research have led to considerable progress in the development of different multilayer optics. Since optical systems in the EUV/soft X-ray spectral region consist of several mirror elements a maximum reflectivity of each multilayer is essential for a high throughput. This paper covers recent results of the enhanced spectral behavior of Mo/Si, Cr/Sc and Sc/Si multilayer optics. 展开更多
关键词 EUV X射线 多层膜 光学涂覆技术 mo/si Cr/Sc Sc/si 光电子技术
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多元Cr-Mo-Si-C-N系列薄膜结构及摩擦学特性研究进展
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作者 张懋达 付永强 +1 位作者 王谦之 周飞 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期136-148,共13页
从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分析在不同气体压力、制备方法与参数、不同元素含量下薄膜结构的变化,阐述薄膜结构与其力学性能和摩... 从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分析在不同气体压力、制备方法与参数、不同元素含量下薄膜结构的变化,阐述薄膜结构与其力学性能和摩擦学特性的关联。指出:多元Cr-Mo-Si-C-N系列薄膜结构、硬度、摩擦因数强烈受到薄膜中Mo、Si、C、N元素含量的影响,其中力学特性还与薄膜微结构紧密相关;薄膜的摩擦学特性与晶粒生长细化和作为润滑剂的无定形基质有关;在摩擦过程中发生的摩擦化学反应也有效地提高了薄膜的耐磨性。对于四元Cr-Mo-C-N和多元Cr-Mo-Si-C-N薄膜,建议进一步研究在水润滑与非润滑的不同条件下,例如在海水或者空气干摩擦环境下,是否由于薄膜结构组分的不同而有效地形成含Mo的氧化物的自润滑膜,以提高薄膜在更多场合下的适应性和减摩性。 展开更多
关键词 磁控溅射 Cr-mo-si-C-N薄膜 薄膜结构 摩擦学特性
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极紫外光源用大口径Mo/Si多层膜厚度控制与热稳定性研究
18
作者 刘翔月 张哲 +10 位作者 蒋励 宋洪萱 姚殿祥 黄思怡 徐文杰 霍同林 周洪军 齐润泽 黄秋实 张众 王占山 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期187-195,共9页
Mo/Si多层膜是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜膜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层膜提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光... Mo/Si多层膜是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜膜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层膜提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光源用Mo/Si多层膜面临的膜厚梯度控制和高温环境问题,利用掩模板辅助法对大口径曲面基底上不同位置处的多层膜膜厚进行修正;选择C作为扩散阻隔层材料,对磁控溅射法制备的Mo/Si、Mo/Si/C和Mo/C/Si/C三种多层膜在300℃高温应用环境下的热稳定性展开了研究。研究结果表明:通过掩模板辅助的方式能够将300 mm口径曲面基底上不同位置处的Mo/Si多层膜膜厚控制在预期厚度的±0.45%以内,基底上不同位置处Mo/Si多层膜的膜层结构和表面粗糙度基本相同;引入C扩散阻隔层后,经过300℃退火,Mo/Si多层膜的反射率损失从9.0%减少为1.8%,说明C的引入能够有效减少高温对多层膜微结构的破坏和对光学性能的影响,提高了多层膜的热稳定性。 展开更多
关键词 激光光学 极紫外光源 mo/si多层膜 磁控溅射 膜厚控制 热稳定性
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究 被引量:5
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作者 邓书康 陈刚 +4 位作者 高立刚 陈亮 俞帆 刘焕林 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期288-291,共4页
采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明... 采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明适量的Ge含量有诱导Si结晶的作用。 展开更多
关键词 si/Ge多层膜 离子束溅射 拉曼光谱 制备方法 薄膜 结构分析
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离子束增强沉积Ti-Mo多层膜和TiMo合金膜及其性能 被引量:1
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作者 唐长斌 刘道新 +2 位作者 李凡巧 张卿 张晓化 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期15-21,共7页
采用离子束增强磁控溅射沉积技术制备了Ti–Mo金属多层膜和TiMo合金膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能。结果表明:不同调制周期及不同调制比的Ti–Mo多层膜的硬度均比Ti、Mo金属单层膜的硬度高,调制周期小于20... 采用离子束增强磁控溅射沉积技术制备了Ti–Mo金属多层膜和TiMo合金膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能。结果表明:不同调制周期及不同调制比的Ti–Mo多层膜的硬度均比Ti、Mo金属单层膜的硬度高,调制周期小于200nm的多层膜呈现出明显的超硬度现象,调制周期为20nm的多层膜硬度达到最大值,多层膜硬度随Ti膜:Mo膜调制比的减小而提高。Mo过渡层比Ti过渡层更能有效改善膜层的结合强度,离子辅助轰击能明显提高膜层的结合力。TiMo合金膜的硬度与Mo金属单层膜相近,明显低于调制周期20~200nm的Ti–Mo多层膜,其韧性也明显低于调制周期60nm以上的Ti–Mo多层膜。调制周期20~200nm的Ti–Mo多层膜的耐磨性能优于TiMo合金膜。 展开更多
关键词 Ti-mo多层膜 Timo合金膜 硬度 磨损 腐蚀磨损
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