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层间化合物hBN—Cu稳定性的理论研究 被引量:2
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作者 张桂玲 戴柏青 韦永德 《分子科学学报》 CAS CSCD 2000年第4期234-238,共5页
以分子簇为模型 ,用从头算方法 ,在 6-31G 基组水平上对六方氮化硼 (hBN)进行几何全优化 ,再用优化构型对Cu的六方氮化硼层间化合物(hBN—Cu)做单点计算 .根据计算结果 ,从层间距、Mulliken布居、轨道相互作用、原子净电荷及前线轨道等... 以分子簇为模型 ,用从头算方法 ,在 6-31G 基组水平上对六方氮化硼 (hBN)进行几何全优化 ,再用优化构型对Cu的六方氮化硼层间化合物(hBN—Cu)做单点计算 .根据计算结果 ,从层间距、Mulliken布居、轨道相互作用、原子净电荷及前线轨道等角度分析了hBN—Cu的电子结构及其稳定性 .通过振动分析计算确认了这一层间化合物只是一个介稳结构 。 展开更多
关键词 氮化硼 从头算 层间化合物 稳定性 陶瓷
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